光学装置、显示体、带显示体的装置、滤光镜、以及光学装置的制造方法制造方法及图纸

一种光学装置，具备：具有基准面的支持部；以及具备多个周期要素并作为电介质的周期结构体，其中所述多个周期要素在基准面上排列为具有亚波长周期的二维点阵状，并且是从基准面突出的凸部以及从基准面凹陷的凹部中的任一者。进一步地，光学装置具备位于周期结构体的表面、且具有跟随周期结构体的表面形状的形状的金属层，其中该周期结构体的表面是包括所述周期要素的表面以及基准面当中的包围周期要素的区域的面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学装置、显示体、带显示体的装置、滤光镜、以及光学装置的制造方法
本专利技术涉及光学装置、显示体、带显示体的装置、滤光镜、以及光学装置的制造方法。
技术介绍
光学装置是利用诸如光的反射、吸收、干涉和衍射之类的光学现象的装置。作为光学装置的一个例子的显示体，其通过利用由衍射光栅或多层膜所引起的光的干涉等，从而将与印刷品不同的视觉效果施加到显示体所示出的图像上(例如参照专利文献1)。通过在物品上具备显示体，提高了物品的伪造难度及设计性。光学装置的其他例子包括显示装置或摄像元件等所具备的滤光镜(例如参照专利文献2)。滤光镜将入射光当中的部分波长区域的光发射出去。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第5124272号说明书专利文献2：日本特开2014-098780号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题选择性地透过或反射特定波长区域的光的光学装置被用作形成不同于白色或黑色的有色图像的显示体、或滤光镜。为了提高这种光学装置的通用性，优选的是，在光学装置中所透过或反射的波长区域的调整自由度较高。本专利技术的目的在于提供一种能够提高所透过或反射的波长范围的调整自由度的光学装置、显示体、带显示体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学装置，具备：具有基准面的支持部；具备多个周期要素并作为电介质的周期结构体，其中所述多个周期要素在所述基准面上排列为具有亚波长周期的二维点阵状、并且是从所述基准面突出的凸部以及从所述基准面凹陷的凹部中的任一者；以及位于所述周期结构体的表面、且具有跟随所述周期结构体的表面形状的形状的金属层，其中所述周期结构体的表面是包括所述周期要素的表面以及所述基准面当中的包围所述周期要素的区域的面。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.06.24 JP 2016-125704;2016.06.24 JP 2016-125701.一种光学装置，具备：具有基准面的支持部；具备多个周期要素并作为电介质的周期结构体，其中所述多个周期要素在所述基准面上排列为具有亚波长周期的二维点阵状、并且是从所述基准面突出的凸部以及从所述基准面凹陷的凹部中的任一者；以及位于所述周期结构体的表面、且具有跟随所述周期结构体的表面形状的形状的金属层，其中所述周期结构体的表面是包括所述周期要素的表面以及所述基准面当中的包围所述周期要素的区域的面。2.一种显示体，其具有权利要求1所述的光学装置的构成，所述显示体在所述基准面上包括：厚度为10nm以上200nm以下的第1光栅层；厚度为10nm以上200nm以下的第2光栅层；以及厚度大于所述第1光栅层及所述第2光栅层的各自厚度、且在厚度方向上被夹在所述第1光栅层与所述第2光栅层之间的中间光栅层，所述第1光栅层具备：排列为作为正方形阵列和六边形阵列中的任一者的岛状阵列的多个第1电介质层，以及具有将各个第1电介质层包围的网格状的第1金属层，所述中间光栅层具备：排列为作为正方形阵列和六边形阵列中的任一者的岛状阵列的多个第1中间电介质层，以及具有将各个第1中间电介质层包围的网格状、且介电常数比所述第1中间电介质层的介电常数小的第2中间电介质层，所述第2光栅层具备：排列为作为正方形阵列和六边形阵列中的任一者的岛状阵列的多个第2金属层，以及具有将各个第2金属层包围的网格状的第2电介质层，所述周期要素是所述凸部，所述第1电介质层和所述第1中间电介质层构成了所述周期要素，所述第1金属层和所述第2金属层包括在所述金属层中，所述第1光栅层中的所述第1金属层的体积比率大于所述第2光栅层中的所述第2金属层的体积比率，同时所述第2光栅层中的所述第2金属层的体积比率大于所述中间光栅层中的金属材料的体积比率，所述第1电介质层的宽度相对于所述第1电介质层的结构周期的比率、以及所述第2金属层的宽度相对于所述第2金属层的结构周期的比率分别为0.25以上0.75以下。3.根据权利要求2所述的显示体，其中，所述第1金属层和所述第2金属层分别具有相对于可见区域的光的复介质常数，该复介质常数的实部为负值。4.根据权利要求2或3所述的显示体，其中，所述第1电介质层的宽度相对于所述第1电介质层的结构周期的比率、以及所述第2金属层的宽度相对于所述第2金属层的结构周期的比率分别为0.40以上0.60以下。5.根据权利要求2至4中任一项所述的显示体，其中，所述第1电介质层和所述第1中间电介质层是一体的结构体，所述第1光栅层的厚度为100nm以下，所述第2光栅层的厚度为100nm以下，所述中间光栅层的厚度为150nm以下。6.根据权利要求2至5中任一项所述的显示体，其中，构成所述第1金属层的材料与构成所述第2金属层的材料相同，所述第2电介质层为空气层，所述第1电介质层的折射率与所述第1金属层的折射率之差大于所述第2电介质层的折射率与所述第2金属层的折射率之差。7.根据权利要求2至6中任一项所述的显示体，其中，所述第1电介质层和所述第1中间电介质层是一体的结构体，所述第2中间电介质层和所述第2电介质层是一体的结构体。8.根据权利要求2至7中任一项所述的显示体，其中，所述中间光栅层进一步具备位于所述第1中间电介质层的侧面上、且被夹在所述第1中间电介质层与所述第2中间电介质层之间的中间金属层，所述中间金属层和所述第2金属层是一体的结构体，所述中间金属层包括在所述金属层中，同时为了抑制可见区域的光的反射，所述中间金属层在所述侧面上的厚度在越接近于所述第1金属层的部位处越薄。9.一种显示体，其具有权利要求1所述的光学装置的构成，所述显示体进一步具备位于与所述金属层中的所述周期结构体所接触的面相对的那一侧的面上、且具有跟随所述金属层的表面形状的形状的电介质层。10.根据权利要求9所述的显示体，其中，所述电介质层由无机化合物构成。11.根据权利要求9或10所述的显示体，其中，所述周期要素是所述凸部，所述金属层的厚度为10nm以上，同时所述金属层的厚度小于所述凸部的高度。12.根据权利要求9至...

【专利技术属性】
技术研发人员：川下雅史，波木井秀充，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP