黄光制程曝光偏移校正方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种黄光制程曝光偏移校正方法，包括以下步骤：测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正。本发明专利技术还公开一种黄光制程曝光偏移校正装置。本发明专利技术的技术方案中，当曝光的图像产生位置偏移，造成产品异常时，曝光机可以及时反应，立即回馈校正，避免异常发生，可以实时监控曝光机的工作状况，保证产品品质，并提升曝光机的工作时间，防止后制程频发暂停影响机台嫁动，减少工程师值班时间。

【技术实现步骤摘要】
黄光制程曝光偏移校正方法及装置
本专利技术涉及图像处理
，尤其涉及一种黄光制程曝光偏移校正方法及装置。
技术介绍
目前，黄光制程的精准性与稳定性是直接影响产品品质的关键，黄光制程的原理是：在曝光机的基板设置有感光材料，基板放置在曝光平台上，光罩设置在光照平台上，将照明系统产生的紫外光照射在光罩上，紫外光透过光罩未遮挡的部分照射在基板上，使基板上的感光材料发生化学反应，从而将光罩上投影的图像转移到基板上。现有技术中，当基板的中心点发生偏移，图像产生位置偏移，造成产品异常，当产品出现异常，需工程师在线下确认，不能及时拦检，造成后制程频发暂停影响机台嫁动。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种黄光制程曝光偏移校正方法，旨在解决现有技术中当产品出现异常时不能及时拦检，造成后制程频发暂停影响机台嫁动的问题。为实现上述目的，本专利技术提供一种黄光制程曝光偏移校正方法，包括以下步骤：测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正。可选的，所述标准位置数据包括所述光罩在所述基板上的投影与所述基板边缘的标准横向距离、标准纵向距离和所述投影与所述基板形成的标准角度；所述当前位置数据包括所述光罩在所述基板上的所述投影与所述基板边缘的当前横向距离、当前纵向距离和所述投影与所述基板形成的当前角度；所述偏差值包括横向距离偏差值、纵向距离偏差值和角度偏差值。可选的，所述根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值之后还包括：储存所述横向距离偏差值、纵向距离偏差值和角度偏差值。可选的，所述根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值之后还包括：当所述横向距离偏差值、所述纵向距离偏差值和所述角度偏差值中的至少一个不为零时，控制所述曝光机暂停。可选的，所述根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正具体包括：根据所述横向距离偏差值向左或向右移动所述基板；根据所述纵向距离偏差值向上或向下移动所述基板；根据所述角度偏差值顺时针或逆时针旋转所述基板。此外，为实现上述目的，本专利技术还提供一种黄光制程曝光偏移校正装置，所述黄光制程曝光偏移校正装置包括：测量模块，用于测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；获取模块，用于获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；计算模块，用于根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；校正模块，用于根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正。可选的，所述标准位置数据包括所述光罩在所述基板上的投影与所述基板边缘的标准横向距离、标准纵向距离和所述投影与所述基板形成的标准角度；所述当前位置数据包括所述光罩在所述基板上的所述投影与所述基板边缘的当前横向距离、当前纵向距离和所述投影与所述基板形成的当前角度；所述偏差值包括横向距离偏差值、纵向距离偏差值和角度偏差值。可选的，所述黄光制程曝光偏移校正装置还包括储存模块，所述储存模块用于储存所述横向距离偏差值、纵向距离偏差值和角度偏差值。可选的，所述黄光制程曝光偏移校正装置还包括暂停模块，所述暂停模块用于当所述横向距离偏差值、所述纵向距离偏差值和所述角度偏差值中的至少一个不为零时，控制所述曝光机暂停。可选的，所述校正模块包括：第一移动单元，用于根据所述横向距离偏差值向左或向右移动所述基板；第二移动单元，用于根据所述纵向距离偏差值向上或向下移动所述基板；旋转单元，用于根据所述角度偏差值顺时针或逆时针旋转所述基板。本专利技术的黄光制程曝光偏移校正方法通过测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正。当曝光的图像产生位置偏移，造成产品异常时，曝光机可以及时反应，立即回馈校正，避免异常发生，可以实时监控曝光机的工作状况，保证产品品质，并提升曝光机的工作时间，防止后制程频发暂停影响机台嫁动，减少工程师值班时间。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。图1为本专利技术黄光制程曝光偏移校正方法一实施例的流程示意图；图2为本专利技术黄光制程曝光偏移校正方法另一实施例的流程示意图；图3为本专利技术黄光制程曝光偏移校正方法又一实施例的流程示意图；图4为本专利技术黄光制程曝光偏移校正方法再一实施例的流程示意图；图5为本专利技术黄光制程曝光偏移校正装置一实施例的功能模块示意图；图6为本专利技术黄光制程曝光偏移校正装置另一实施例的功能模块示意图；图7为本专利技术黄光制程曝光偏移校正装置又一实施例的功能模块示意图；图8为本专利技术黄光制程曝光偏移校正装置再一实施例中校正模块的细化功能模块示意图。本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施例应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。本专利技术提供一种黄光制程曝光偏移校正方法，旨在解决当产品出现异常时不能及时拦检，造成后制程频发暂停影响机台嫁动的问题。请参照图1，在一实施例中，该黄光制程曝光偏移校正方法包括：请参照图1，该黄光制程曝光偏移补正方法包括：步骤S10，测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；其中，所述标准位置数据包括所述光罩在所述基板上的投影与所述基板边缘的标准横向距离、标准纵向距离和所述投影与所述基板形成的标准角度；具体地，测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据，可在机械坐标的横向箭头方向测量所述光罩在所述基板上的投影与所述基板之间的横向标准距离X、在纵向箭头方向上测量所述光罩在所述基板上的投影与所述基板之间的纵向标准距离Y，所述投影与所述基板形成的标准角度θ，所述标准角度θ为0度；步骤S20，获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；其中，所述基板可以为玻璃基板，所述当前位置数据包括所述光罩在所述基板上的投影与所述基板边缘的当前横向距离、当前纵向距离和所述投影与所述基板形成的当前角度；具体地，所述当前横向距离为在机械坐标的横向箭头方向上所述光罩在所述基板上的投影与所述基板之间的距离X1、所述当前纵向距离为在纵向箭头方向上所述光罩在所述基板上的投影与所述基板之间的距离Y1，所述当前角度θ1为所述光罩相对所述基板上偏移的角度，当所述光罩顺时针偏移时，当前角度θ1为正值，当所述光罩逆时针上偏移时，当前角度θ1为负值；步骤S30，根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；其中，所述偏差值包括横向距离偏差值、纵向距离偏差值和角度偏差值；具体地，所述偏差值包括横向距离偏差值Xd、纵向距离偏差值Yd和角度偏差值θd，其中，Xd＝X1-X，Yd＝Y1-Y，θd＝θ1-θ；步骤S40，根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正。具体地，根据所述横向距离偏差值Xd向左或向右移动所述基板；根据所述纵向距离偏差值Yd向上或向本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种黄光制程曝光偏移校正方法，其特征在于，包括以下步骤：测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正。

【技术特征摘要】
1.一种黄光制程曝光偏移校正方法，其特征在于，包括以下步骤：测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正。2.根据权利要求1所述的黄光制程曝光偏移校正方法，其特征在于：所述标准位置数据包括所述光罩在所述基板上的投影与所述基板边缘的标准横向距离、标准纵向距离和所述投影与所述基板形成的标准角度；所述当前位置数据包括所述光罩在所述基板上的所述投影与所述基板边缘的当前横向距离、当前纵向距离和所述投影与所述基板形成的当前角度；所述偏差值包括横向距离偏差值、纵向距离偏差值和角度偏差值。3.根据权利要求2所述的黄光制程曝光偏移校正方法，其特征在于，所述根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值之后还包括：储存所述横向距离偏差值、纵向距离偏差值和角度偏差值。4.根据权利要求2所述的黄光制程曝光偏移校正方法，其特征在于，所述根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值之后还包括：当所述横向距离偏差值、所述纵向距离偏差值和所述角度偏差值中的至少一个不为零时，控制所述曝光机暂停。5.根据权利要求2所述的黄光制程曝光偏移校正方法，其特征在于，所述根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正具体包括：根据所述横向距离偏差值向左或向右移动所述基板；根据所述纵向距离偏差值向上或向下移动所述基板；根据所述角度偏差值顺时针或逆...

【专利技术属性】
技术研发人员：李彬，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，重庆惠科金渝光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44