一种多功能光刻真空吸盘制造技术

本实用新型专利技术涉及半导体光刻吸盘技术领域，尤其是一种多功能光刻真空吸盘。该多功能光刻真空吸盘，包括吸盘，通气管和法兰盘，吸盘由表面吸盘和底部吸盘组成，底部吸盘上表面设置一个同心的凹形圆，凹形圆的中心设置第一通孔，第一通孔与通气管连通，表面吸盘的中心设置有中心定位通孔，表面吸盘的上表面设置有多个同心的环形凹槽，环形凹槽上均设置有均匀分布的吸附孔，环形凹槽的底面下部均设置有环形空心结构，环形空心结构的底面与表面吸盘的底面之间沿径向设置有螺纹孔，螺纹孔内旋接有出气调节式螺杆。本实用新型专利技术的一种多功能光刻真空吸盘设计合理，结构简单，便于实现不同尺寸的硅片的吸附，且使硅片表面涂覆的液态材料的均匀分布。

A Multifunctional Lithography Vacuum Sucker

The utility model relates to the technical field of semiconductor photolithography suckers, in particular to a multifunctional photolithography vacuum sucker. The multifunctional photolithography vacuum sucker includes sucker, ventilation pipe and flange. The sucker consists of surface sucker and bottom sucker. A concentric concave circle is arranged on the upper surface of the bottom sucker. The center of the concave circle is provided with a first through hole, which is connected with the ventilation pipe. The center of the surface sucker is provided with a central positioning through hole, and the upper surface of the surface sucker is provided with several concentric rings. There are uniformly distributed adsorption holes on the grooves and annular grooves, annular hollow structures are arranged at the bottom of the annular grooves, and threaded holes are arranged along the radial direction between the bottom of the annular hollow structure and the bottom of the surface sucker, and the threaded holes are spirally connected with an air outlet regulating screw. The utility model has the advantages of reasonable design, simple structure, easy adsorption of silicon wafers of different sizes, and uniform distribution of liquid materials coated on the surface of silicon wafers.

【技术实现步骤摘要】
一种多功能光刻真空吸盘
本技术涉及半导体光刻吸盘
，尤其是一种多功能光刻真空吸盘。
技术介绍
在半导体制造过程中需要对晶圆片单片进行操作，因为在操作过程中需要避免与人体接触，所以需要将晶圆片放置在一种载具上且进行固定，以方便对晶圆片表面进行操作，目前普遍使用的是真空吸盘载具。现有的真空吸盘一般一种规格只对应吸附一种硅片，如果想要吸附不同大小的硅片就要设计相对应的多个吸盘，为了解决这一问题，部分技术人员设计了能够对不同尺寸的半导体硅片进行吸附的真空吸盘，这种真空吸盘节约了人力财力，节省了生产效率，但是此类真空吸盘在使用时仍存在一下不足：由于结构负责，结构设计合理性欠缺，在吸附过程中可能出现漏气现象；（2）采用多路控制，对每种规格的硅片的吸附均需连接独立的吸气管，设备组成繁琐，费用较高；（3）将真空管路设置在吸盘的侧面，通过螺钉固定在设备上，不可转动，不利于表面涂覆的液态材料的均匀分布。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种多功能光刻真空吸盘，设计合理，结构简单，克服前述现有技术的不足，便于实现不同尺寸的硅片的吸附，且使硅片表面涂覆的液态材料的均匀分布。本技术解决其技术问题所采取的技术方本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多功能光刻真空吸盘，包括吸盘（1），设置于吸盘（1）底部的通气管（2）和设置于通气管（2）底部的法兰盘（3），所述吸盘（1）由表面吸盘（4）和底部吸盘（5）组成，底部吸盘（5）上表面设置一个同心的凹形圆（6），凹形圆（6）的中心设置第一通孔（7），第一通孔（7）与通气管（2）连通，其特征在于：所述表面吸盘（4）的中心设置有中心定位通孔（8），表面吸盘（4）的上表面设置有多个同心的环形凹槽（9），环形凹槽（9）上均设置有均匀分布的吸附孔（19），环形凹槽（9）的底面下部均设置有环形空心结构（10），环形空心结构（10）的底面与表面吸盘（4）的底面之间沿径向设置有贯穿表面吸盘（4）的螺纹孔...

【技术特征摘要】
1.一种多功能光刻真空吸盘，包括吸盘（1），设置于吸盘（1）底部的通气管（2）和设置于通气管（2）底部的法兰盘（3），所述吸盘（1）由表面吸盘（4）和底部吸盘（5）组成，底部吸盘（5）上表面设置一个同心的凹形圆（6），凹形圆（6）的中心设置第一通孔（7），第一通孔（7）与通气管（2）连通，其特征在于：所述表面吸盘（4）的中心设置有中心定位通孔（8），表面吸盘（4）的上表面设置有多个同心的环形凹槽（9），环形凹槽（9）上均设置有均匀分布的吸附孔（19），环形凹槽（9）的底面下部均设置有环形空心结构（10），环形空心结构（10）的底面与表面吸盘（4）的底面之间沿径向设置有贯穿表面吸盘（4）的螺纹孔（11），所述螺纹孔（11）内旋接有出气调节式螺杆（12），螺纹孔（11）上表面设置有多个与出气调节式螺杆（12）方向一致的第一进气孔（13），表面吸盘（4）的下表面上设置有多个与出气调节式螺杆（12）方向一致的第二进气孔（14）。2.如权利要求1所述的一种多功能光刻真空吸盘，其特征在于：所述出气调节式螺杆（12）包括螺纹杆（15）和两端对称设置于螺纹杆（15）上的多个第二通孔（16），位于同一端的多个第二通孔（16）之间互成夹角。3.如权利要求2所述的一种多功能光刻真空吸盘，其特征在于：所述第二通孔（16）的数量为环形凹槽（9）数量的两倍，...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭城，吕明，王永超，郭英云，
申请(专利权)人：山东科芯电子有限公司，
类型：新型
国别省市：山东,37