药液和超临界流体的混合装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术的目的在于提供一种药液和超临界流体的混合装置，其防止混合装置的腔室内部的污染的同时，迅速且顺畅地实现药液和超临界流体之间的混合，从而可缩短基板清洗时间。用于实现所述目的的本实用新型专利技术的药液和超临界流体的混合装置是用于混合药液和超临界流体的混合装置，药液和超临界流体用于清洗基板，药液和超临界流体的混合装置包括：腔室，其获得所述药液和超临界流体的供给，并实现药液和超临界流体的混合；以及振动产生部，其设置于所述腔室的外部，通过在所述腔室内部的药液和超临界流体中引起振动而实现混合。

Mixing Device of Pharmaceutical Liquid and Supercritical Fluid

The utility model aims to provide a mixing device for medicine liquid and supercritical fluid, which can prevent the pollution in the chamber of the mixing device and realize the mixing between medicine liquid and supercritical fluid quickly and smoothly, thereby shortening the cleaning time of the substrate. The mixing device for medicine liquid and supercritical fluid of the utility model is a mixing device for mixing medicine liquid and supercritical fluid. Medicine liquid and supercritical fluid are used to clean the substrate. The mixing device for medicine liquid and supercritical fluid includes a chamber, which obtains the supply of the medicine liquid and supercritical fluid, realizes the mixing of medicine liquid and supercritical fluid, and vibration. The dynamic generation unit is arranged outside the chamber, and mixing is realized by causing vibration in the medicine liquid and supercritical fluid inside the chamber.

【技术实现步骤摘要】
药液和超临界流体的混合装置
本技术涉及一种药液和超临界流体的混合装置，更加详细地，涉及一种药液和超临界流体的混合装置，其可防止混合装置的腔室内部的污染的同时，迅速实现药液和超临界流体之间的混合。
技术介绍
通常，清洗分为湿式清洗和干式清洗，其中，湿式清洗在半导体制造领域中被广泛利用。湿式清洗是在每个步骤使用适合污染物质的化学物质并连续去除污染物质的方式，使用大量酸和碱溶液来对残留于基板的污染物质进行去除。但是，在所述湿式清洗中所利用的化学物质不仅对环境产生不利影响，而且工艺复杂，从而是使得产品的单位生产成本大大上升的主要因素，不仅如此，在利用于如高集成电路一样精密部分的清洗时，由于界面张力，微细结构的图案变窄并被破坏，由此存在无法有效实现污染物去除的问题。作为用于解决所述问题的方案，最近正在开发将作为无毒性且不燃性物质、廉价且环保型物质的二氧化碳用作溶剂的干式清洗方法。二氧化碳的优点在于，因为具有低的临界温度和临界压力，所以可轻松达到超临界状态，并且界面张力接近于零(zero)，在超临界状态下，由于高的压缩性而易于使得密度或溶剂强度随着压力变化而变化，并且因为通过减压而转换为气体状态本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种药液和超临界流体的混合装置，其是用于混合药液和超临界流体的混合装置，药液和超临界流体用于清洗基板，其特征在于，药液和超临界流体的混合装置包括：腔室，其获得所述药液和超临界流体的供给，并实现药液和超临界流体的混合；以及振动产生部，其设置于所述腔室的外部，通过在所述腔室内部的药液和超临界流体中引起振动而实现混合。

【技术特征摘要】
2017.04.18 KR 10-2017-00495171.一种药液和超临界流体的混合装置，其是用于混合药液和超临界流体的混合装置，药液和超临界流体用于清洗基板，其特征在于，药液和超临界流体的混合装置包括：腔室，其获得所述药液和超临界流体的供给，并实现药液和超临界流体的混合；以及振动产生部，其设置于所述腔室的外部，通过在所述腔室内部的药液和超临界流体中引起振动而实现混合。2.根据权利要求1所述的药液和超临界流体的混合装置，其特征在于，所述振动产生部包括：振荡器，其使得频率产生；振子，其与所述振荡器进行电连接，并且安装于所述腔室的外壁，向所述腔室内部的药液和超临界流体施加振动。3.根据权利要求2所述的药液和超临界流体的混合装置，其特征在于，所述振荡器产生20～100kHz的超声波。4.根据权利要求2所述的药液和超临界流体的混合装置，其特征在于，所述振荡器产生100kHz以上的高频。5.根据权利要求2所述的药液和超临界流体的混合装置，其特征在于，在所述腔室的外壁周围以上下具有间隔的形式设置有多个所述振子。6.根据权利要求1所述的药液和超临界流体的混合装置，其特征在于，在所述腔室的下部...

【专利技术属性】
技术研发人员：申寅澈，姜炳州，金大珉，金东旻，
申请(专利权)人：凯斯科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：韩国,KR