In one aspect of the disclosure, a MOS device is provided for reducing routing congestion caused by the use of a separate n-well unit (704) in a combined n-well circuit block (700). MOS devices include the first group of units (702) adjacent to each other in the first direction. MOS devices include a second group of units (704) that are adjacent to each other in the first direction and to the first unit in the second direction. Each unit in the second group includes the first N well (712), the second N well (714) and the third N well (716) separated from each other. MOS devices include interconnects (720) extending in the first direction in a second set of units (704). The interconnect (720) provides a voltage source to the first N well (712) of each unit in the second group of units (704).
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】在合并N阱块中使用分离N阱单元的方法和装置以及对应的器件相关申请的交叉引用本申请要求于2016年6月6日提交的题为“在合并N阱块中使用分离N阱单元的方法和装置(METHODSANDAPPARATUSFORUSINGSPLITN-WELLCELLSINAMERGEDN-WELLBLOCK)”的美国专利申请No.15/174,684的权益,该专利申请通过整体引用明确地并入本文。
本公开总体上涉及半导体设计,并且更具体地涉及电路和布局构造。
技术介绍
集成电路(IC)器件可以包含处理多个电压电平的功能电路。这种器件通常称为多电压电平器件,并且这种功能电路可以称为多电压电路。多电压电路可以包括但不限于常通(AON)缓冲器/反相器、隔离单元、开关、电平移位器、保持寄存器等。因为多电压电路处理多个电压电平,所以多电压电路中的一些单元可以具有分离n型阱(n阱)和用于提供多个电压电平的多个路线。合并n阱是连续的n阱,其由一个或多个单元的若干晶体管共享。在电路块中的合并n阱的使用可以提供显著的面积节省机会,并且因此可以在高级电路的设计中是流行的。然而,IC还可以包含具有分离n阱单元的多电压电路。可能期望以不会导致面积开销或路由拥塞、从而使得设计可制造的方式在合并n阱电路块中利用分离n阱单元的架构的改进。
技术实现思路
以下呈现一个或多个方面的简要概述以便提供对这些方面的基本理解。该概述不是对所有预期方面的广泛概述,并且既不旨在标识所有方面的关键或重要要素,也不旨在描绘任何或所有方面的范围。其唯一目的是以简化的形式呈现一个或多个方面的一些概念,作为稍后呈现的更详细描述的序言。合并 ...
【技术保护点】
1.一种金属氧化物半导体(MOS)器件,包括:在第一方向上彼此相邻的第一组单元,所述第一组单元中的每个单元包括耦合到第一电压源的n型阱(n阱);第二组单元,在所述第一方向上彼此相邻并且在与所述第一方向正交的第二方向上与所述第一组单元相邻,所述第二组单元每个包括彼此分离的第一n阱、第二n阱和第三n阱,每个第一n阱与所述第一组单元中的相邻单元的n阱连续,所述第二n阱在所述第一n阱与所述第三n阱之间,所述第一n阱和所述第三n阱耦合到所述第一电压源,所述第二n阱耦合到不同于所述第一电压源的第二电压源;以及在所述第二组单元中在所述第一方向上延伸的互连件,所述互连件向所述第二组单元中的每个单元的所述第一n阱提供所述第一电压源。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.06.06 US 15/174,6841.一种金属氧化物半导体(MOS)器件,包括:在第一方向上彼此相邻的第一组单元,所述第一组单元中的每个单元包括耦合到第一电压源的n型阱(n阱);第二组单元,在所述第一方向上彼此相邻并且在与所述第一方向正交的第二方向上与所述第一组单元相邻,所述第二组单元每个包括彼此分离的第一n阱、第二n阱和第三n阱,每个第一n阱与所述第一组单元中的相邻单元的n阱连续,所述第二n阱在所述第一n阱与所述第三n阱之间,所述第一n阱和所述第三n阱耦合到所述第一电压源,所述第二n阱耦合到不同于所述第一电压源的第二电压源;以及在所述第二组单元中在所述第一方向上延伸的互连件,所述互连件向所述第二组单元中的每个单元的所述第一n阱提供所述第一电压源。2.根据权利要求1所述的MOS器件,其中所述第一n阱与所述第二组单元中的每个单元的第一侧相邻,并且所述第三n阱与所述第二组单元中的每个单元的第二侧相邻,所述第二侧与所述第一侧相对,并且其中所述第二组单元在所述第一侧在所述第一方向上对准。3.根据权利要求2所述的MOS器件,其中所述互连件在所述第一方向上在与所述第一侧相邻的所述第一n阱之上延伸。4.根据权利要求1所述的MOS器件,其中所述第一组单元中的每个单元包括在所述n阱的区域内的多个p型MOS(pMOS)晶体管,并且所述多个pMOS晶体管的子集由可切换电压源供电。5.根据权利要求1所述的MOS器件,其中所述互连件在金属3(M3)层上并且是M3层互连件。6.根据权利要求1所述的MOS器件,还包括在所述第二组单元中的每个单元中在所述第二方向上延伸的第二互连件,所述第二互连件将所述第一电压源从所述第二组单元中的每个单元中的所述第一n阱耦合到所述第三n阱。7.根据权利要求1所述的MOS器件,还包括在所述第一方向上彼此相邻的第三组单元,所述第三组单元在所述第二方向上与所述第二组单元相邻,所述第三组单元中的每个单元包括与所述第二组单元中的相邻单元的所述第三n阱连续的n阱,所述第三组单元的每个n阱通过所述第二组单元中的对应的相邻单元的所述第三n阱耦合到所述第一电压源。8.根据权利要求1所述的MOS器件,其中所述第一组单元中的每个单元中的晶体管是鳍式场效应晶体管(FinFet)。9.一种操作金属氧化物半导体(MOS)器件的方法,包括:向在第一方向上彼此相邻的第一组单元提供第一电压,所述第一组单元中的每个单元包括被提供有所述第一电压的n型阱(n阱);向在所述第一方向上彼此相邻并且在与所述第一方向正交的第二方向上与所述第一组单元相邻的第二组单元提供所述第一电压和与所述第一电压不同的第二电压,所述第二组单元每个包括彼此分离的第一n阱、第二n阱和第三n阱,每个第一n阱与所述第一组单元中的相邻单元的n阱连续,所述第二n阱在所述第一n阱与所述第三n阱之间,所述第一n阱和所述第三n阱被提供有所述第一电压,所述第二n阱被提供有所述第二电压;以及在所述第二组单元中的在所述第一方向上延伸的互连件中传播所述第一电压,所述互连件向所述第二组单元中的每个单元的所述第一n阱提供所述第一电压。10.根据权利要求9所述的方法,其中所述第一n阱与所述第二组单元中的每个单元的第一侧相邻,并且所述第三n阱与所述第二组单元中的每个单元的第二侧相邻,所述第二侧与所述第一侧相对,并且其中所述第二组单元在所述第一侧在所述第一方向上对准。11.根据权利要求10所述的方法,其中所述互连件在所述第一方向上在与所...
【专利技术属性】
技术研发人员:H·潘特,M·Y·夏利弗,P·纳德萨米,R·维兰谷迪皮查,D·巴恩,
申请(专利权)人:高通股份有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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