反射型空间光调制器、光观察装置和光照射装置制造方法及图纸

反射型空间光调制器包括：具有输入输入光的输入面和与输入面相对的背面，相对介电常数为1000以上的钙钛矿型的电光晶体；光输入输出部，其具有配置于电光晶体的输入面且透过输入光的第一电极；光反射部，其包括包含多个第二电极的像素电极部和将像素电极部固定于背面的粘结层，配置于电光晶体的背面，将输入光向输入输出部反射；和向第一电极与多个第二电极之间施加电场的驱动电路，粘结层在非导电性的粘结材料的固化物中具有电介质材料。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】反射型空间光调制器、光观察装置和光照射装置
本专利技术涉及反射型空间光调制器、光观察装置和光照射装置。
技术介绍
例如在专利文献1和专利文献2中公开有电光元件。该电光元件包括基板、层叠于基板的强电介质的KTN(KTa1-xNbxO3)层、配置于KTN层的前面的透明电极和配置于KTN层的后面的金属电极。KTN根据温度采用4个晶体结构，在为钙钛矿型的晶体结构时作为电光元件使用。这样的KTN层在形成于金属电极上的晶种层之上形成。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2014-89340号公报专利文献2：日本特开2014-89341号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题在专利文献1和专利文献2中，记载有通过在晶种层添加导电性物质而对晶种层赋予导电性。在这种情况下，由于金属电极与KTN层电连接，所以能够向KTN层施加电场。但是，例如，在电光元件的金属电极呈矩阵状形成有多个的情况下，当对晶种层赋予导电性时，存在向多个金属电极输入的电信号混杂，调制精度不稳定的担忧。实施方式的目的在于提供能够抑制输入到多个电极的电信号发生混杂且使调制精度稳定的反射型空间光调制器、光照射装置和光观察装置。解决本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种反射型空间光调制器，其特征在于，是调制输入光并将调制后的调制光输出的反射型空间光调制器，包括：钙钛矿型的电光晶体，具有输入所述输入光的输入面和与所述输入面相对的背面，且相对介电常数为1000以上；光输入输出部，其具有配置于所述电光晶体的所述输入面且透过所述输入光的第一电极；光反射部，其包含像素电极部和将所述像素电极部固定于所述背面的粘结层，配置于所述电光晶体的所述背面，将所述输入光向所述输入输出部反射，其中，所述像素电极部包含多个第二电极；和驱动电路，向所述第一电极与所述多个第二电极之间施加电场，所述粘结层在非导电性的粘结材料的固化物中具有电介质材料。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.06.06 JP 2016-1128541.一种反射型空间光调制器，其特征在于，是调制输入光并将调制后的调制光输出的反射型空间光调制器，包括：钙钛矿型的电光晶体，具有输入所述输入光的输入面和与所述输入面相对的背面，且相对介电常数为1000以上；光输入输出部，其具有配置于所述电光晶体的所述输入面且透过所述输入光的第一电极；光反射部，其包含像素电极部和将所述像素电极部固定于所述背面的粘结层，配置于所述电光晶体的所述背面，将所述输入光向所述输入输出部反射，其中，所述像素电极部包含多个第二电极；和驱动电路，向所述第一电极与所述多个第二电极之间施加电场，所述粘结层在非导电性的粘结材料的固化物中具有电介质材料。2.如权利要求1所述的反射型空间光调制器，其特征在于，所述光输入输出部还包括具有输入所述输入光的第一面和作为所述第一面的相反侧的面的第二面的透明基板，所述第一电极配置于所述透明基板的所述第二面。3.如权利要求1或2所述的反射型空间光调制器，其特征在于，在令所述电光晶体的相对介电常数为εxtl，令所述电光晶体中的从所述输入面至所述背面的厚度为dxtl，令所述粘结层的厚度为dad，令由所述驱动电路产生的施加电压的最大电压Vsmax与为了将输入光的相位被调制2π弧度后的所述调制光输出而向所述电光晶体施加的电压Vxtl的比Vxtl/Vsmax为Rs时，包含所述电介质材料的所述粘结层的相对介电常数εad以式(1)表示，4.如权利要求1～3中的任一项所述的反射型空间光...

【专利技术属性】
技术研发人员：泷泽国治，田中博，丰田晴义，大林宁，酒井宽人，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP