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一种可绕折的光扩散膜的制备方法技术

技术编号:20284843 阅读:43 留言:0更新日期:2019-02-10 17:37
本发明专利技术公开了一种可绕折的光扩散膜的制备方法,属于光学膜技术领域,首先通过光刻制备微透镜阵列光刻胶母版,接着电铸制备镍模板,然后制备掺杂聚苯乙烯微米小球的全氟聚醚混合溶液,并将混合溶液均匀涂布于镍模板表面,最后通过紫外纳米压印制备出可绕折光扩散膜。本发明专利技术的可绕折的光扩散膜的制备方法,在光扩散薄膜表面微结构和扩散粒子的共同作用下,产生光扩散和柔光效果,且扩散粒子内嵌在表面微结构内部,不容易受到外部刮擦而产生磨损,并能实现弯曲绕折,可应用于可穿戴电子显示器件;本发明专利技术的表面微结构的微透镜阵列光刻胶模板和镍模板由传统已成熟的工艺制备,适用于工业化的低成本制备。

A Method for Preparing Flexible Photodiffusion Films

The invention discloses a preparation method of bendable photodiffusion film, which belongs to the field of optical film technology. Firstly, microlens array photoresist master plate is prepared by photolithography, then nickel template is prepared by electroforming, then perfluoropolyether mixed solution doped with polystyrene microspheres is prepared, and the mixed solution is evenly coated on the surface of nickel template, and finally, can be prepared by ultraviolet nanoimprinting. Diffusion film around refraction. The preparation method of the bendable photodiffusion film of the present invention produces light diffusion and softening effect under the combined action of the surface microstructures of the photodiffusion film and the diffused particles, and the diffused particles are embedded in the surface microstructures, which are not easy to be abraded by external scratches, and can realize bending and winding, and can be applied to wearable electronic display devices; the surface microstructures of the present invention are embedded in the surface microstructures. Microlens array photoresist template and nickel template are prepared by traditional mature technology and are suitable for industrialized low-cost preparation.

【技术实现步骤摘要】
一种可绕折的光扩散膜的制备方法
本专利技术属于光学膜
,具体涉及一种可绕折光扩散膜的制备方法。
技术介绍
光扩散膜是照明和显示领域中不可或缺的关键组件之一。光扩散膜的主要作用是将点光源或线光源均匀转换成面光源,并根据应用场景兼顾一定的提升背光源亮度的效果。光扩散膜一般包括基底和光扩散层,主要可以分为两大类:一类是掺杂粒子型,另一类是表面微结构型。光线在经过扩散层时就会在两个折射率相异的介质中穿过,同时伴随着散射、反射折射及衍射等光学现象,从而实现背光源光束的均匀扩散和柔化作用。随着科学技术的迅猛发展,可穿戴电子设备正经历从无到有,从庞大、笨重向精致、超薄的重大变革,并成为电子产品发展的热点和前沿。需要的是,可穿戴电子设备,特别是可穿戴电子显示设备必需具备绕折、弯曲乃至扭曲的特性,以便与人类的身体构造相贴合,因此,就迫切需要开发与可穿戴电子显示设备相匹配的可绕折的光扩散膜作为光束的匀化组件。申请号201310478682.2的专利申请公开了“一种双向拉伸光扩散膜及其制备方法”公开了一种由扩散层、支撑层和抗粘连层组成的可双向拉伸的光扩散膜结构及制备方法。此专利公开的光扩散膜结构为多本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可绕折的光扩散膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1)光刻制备微透镜阵列光刻胶母版;S2)电铸制备镍模板;S3)制备掺杂聚苯乙烯微米小球的全氟聚醚混合溶液;S4)将上述混合溶液均匀涂布于镍模板表面;S5)紫外纳米压印并脱模,制备出可绕折光扩散膜;所述的可绕折光扩散薄膜由固化的全氟聚醚微透镜阵列及聚苯乙烯小球组成,且聚苯乙烯小球内嵌在微透镜阵列内,微透镜的直径范围为25‑100微米,聚苯乙烯小球直径范围为2‑6微米,可绕折光扩散薄膜整体厚度为300微米‑1毫米。

【技术特征摘要】
1.一种可绕折的光扩散膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1)光刻制备微透镜阵列光刻胶母版;S2)电铸制备镍模板;S3)制备掺杂聚苯乙烯微米小球的全氟聚醚混合溶液;S4)将上述混合溶液均匀涂布于镍模板表面;S5)紫外纳米压印并脱模,制备出可绕折光扩散膜;所述的可绕折光扩散薄膜由固化的全氟聚醚微透镜阵列及聚苯乙烯小球组成,且聚苯乙烯小球内嵌在微透镜阵列内,微透镜的直径范围为25-100微米,聚苯乙烯小球直径范围为2-6微米,可绕折光扩散薄膜整体厚度为300微米-1毫米。2.根据权利要求1所述的一种可绕折的光扩散膜的制备方法,其特征在于:所述的微透镜阵列光刻胶母版上的微透镜阵列是凸起的阵列或者凹陷的阵列。3.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:周雷朱雨富胡瑞李冠男胡光
申请(专利权)人:淮阴工学院
类型:发明
国别省市:江苏,32

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