双面电极制造技术

一种双面电极，包含：一基板，其中该基板具有相对的一第一表面及一第二表面；及层叠设置于该第一表面上的一第一感光层及一第一金属纳米线层与层叠设置于该第二表面上的一第二感光层及一第二金属纳米线层；其中该第一感光层与该第二感光层经曝光后定义出一去除区与一保留区，位于该去除区的该第一感光层与该第一金属纳米线层被移除而定义出位于该第一表面的一第一电极，位于该去除区的该第二感光层与该第二金属纳米线层被移除而定义出位于该第二表面的一第二电极。

【技术实现步骤摘要】
双面电极
本技术是关于一种双面电极。
技术介绍
由于透明导体可同时具有光穿透性与适当的导电性，因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。一般而言，透明导体可以是各种金属氧化物，例如氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)、氧化铟锌(IndiumZincOxide，IZO)、氧化镉锡(CadmiumTinOxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-dopedZincOxide，AZO)。金属氧化物薄膜可通过物理气象沉积法或化学气象沉积法而形成，并通过激光工艺而形成适当图案。然而，这些金属氧化物薄膜的制作方法可能面临高昂的成本、复杂的工艺以及低良率的问题。在部份情况下，经图案化的金属氧化物薄膜也可能有容易被观察到的问题。因此，现今发展出了多种透明导体，例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。然而利用纳米线制作触控电极，纳米线与周边区的金属引线在工艺上及结构上都有许多待解决的问题，例如在进行双面结构图案化的工艺中，先对基板上层的纳米银表面上进行光阻涂布，再进行曝光、显影、蚀刻等步骤，完成上层电极结构的制作之后，会先将上层完成的电极结构进行保护，再依序对下层的纳米银进行光阻涂布、曝光、显影、蚀刻等步骤。而除了一般黄光微影的图案化工艺之外，也有通过激光剥离的技术来进行图案化。上述工艺在技术上都需分别对上下两层进行制作，故工艺步骤上较为繁琐，也相对费时。若以激光进行纳米线的图案化蚀刻时，如参数调控不当，激光多余的能量所形成的热效应，反而会破坏导线的边缘精度，甚至伤害到底下基板造成部分缺陷；另外，现有技术提及在纳米银层与基板之间加入阻挡层，但当工艺完成之后，阻挡层仍会残留在基板上，对于光学特性上(例如可见光穿透率或雾度等)造成影响，劣化了影像显示质量。又例如传统工艺采用的蚀刻液大多为强酸性，故会导致金属引线受到蚀刻液的作用，使产品可靠度下降；另外，蚀刻液的残留问题也需要额外的清洁过程方能克服。再一方面，利用纳米线制作触控感应电极的工艺中，通常会需要在纳米在线成形外涂层(overcoat)，以保护纳米线，但残留的外涂层夹设在焊接垫与外部电路板之间，会造成接触阻抗过高的问题。因此在利用纳米线制作触控感应电极的工艺上、电极结构上必须依照材料特性重新设计，使产品达到较佳的表现。
技术实现思路
本技术的部分实施方式提出一种双面电极，包含：一基板，其中该基板具有相对的一第一表面及一第二表面；及层叠设置于该第一表面上的一第一感光层及一第一金属纳米线层与层叠设置于该第二表面上的一第二感光层及一第二金属纳米线层；其中该第一感光层与该第二感光层经曝光后定义出一去除区与一保留区，位于该去除区的该第一感光层与该第一金属纳米线层被移除而定义出位于该第一表面的一第一电极，位于该去除区的该第二感光层与该第二金属纳米线层被移除而定义出位于该第二表面的一第二电极。于本技术的部分实施方式中，该第一感光层及该第二感光层为具有相同光波段吸收特性的光阻，该第一感光层吸收大于一第一曝光源的光线总能量的80％，该第二感光层吸收大于一第二曝光源的光线总能量的80％。于本技术的部分实施方式中，该光吸收添加物的浓度为约1％～3％，一第一曝光源的光线对该第一感光层的穿透率(lighttransmission)在30％以下，一第二曝光源的光线对该第二感光层的穿透率(lighttransmission)在30％以下。于本技术的部分实施方式中，该第一感光层及该第二感光层为具有不同光波段吸收特性的光阻。根据本技术的部分实施方式，位于该保留区的该第一感光层与该第一金属纳米线层具有相同的图样，位于该保留区的该第二感光层与该第二金属纳米线层具有相同的图样。根据本技术的部分实施方式，该第一电极包括多个沿一第一方向延伸的感应电极，该第二电极包括多个沿一第二方向延伸的感应电极，该些感应电极位于该基板的一显示区。根据本技术的部分实施方式，更包括设于该基板的一周边区的一周边线路，其中该周边线路电性连接该些感应电极。于本技术的部分实施方式中，更包括覆盖于该第一电极与该第二电极的保护层。附图说明图1为根据本技术的部分实施方式的双面电极的制作方法的第一步骤示意图。图2为根据本技术的部分实施方式的双面电极的制作方法的第二步骤示意图。图3为根据本技术的部分实施方式的双面电极的制作方法的第三步骤示意图。图4为根据本技术的部分实施方式中UV光吸收添加物的浓度对UV光(I-line)的穿透率变化曲线图。图5为根据本技术的部分实施方式的双面触控感应电极的制作方法的第一步骤示意图。图6为根据本技术的部分实施方式的双面触控感应电极的制作方法的第二步骤示意图。图6A为沿图6的线A-A的剖面示意图。图7为根据本技术的部分实施方式的双面触控感应电极的制作方法的第三步骤示意图。图7A为沿图7的线A-A的剖面示意图。图7B为沿图7的线B-B的剖面示意图。图8为根据本技术的部分实施方式的双面触控感应电极的制作方法的第四步骤示意图。其中附图标记为：110：基板120A：第一感光层120B：第二感光层160：周边线路136：非导电区域140：金属纳米线VA：显示区PA：周边区TE：触控感应电极TE1：第一触控感应电极TE2：第二触控感应电极D1：第一方向D2：第二方向150：保护层140A：第一金属纳米线层140B：第二金属纳米线层130A：保留区130B：去除区具体实施方式以下将以图式揭示本技术的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本技术。也就是说，在本技术部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些习知惯用的结构与组件在图式中将以简单示意的方式为之。关于本文中所使用的「约」、「大约」或「大致」，一般是指数值的误差或范围于百分之二十以内，较好地是于百分之十以内，更佳地是于百分之五以内。文中若无明确说明，所提及的数值皆视为近似值，即具有如「约」、「大约」或「大致」所表示的误差或范围。图1至图3为根据本技术的部分实施方式的双面电极的制作方法的流程示意图。本实施方式的具体工艺为：首先，参考图1，提供一基板110，于本技术的部分实施方式中，基板110理想上为透明基板，详细而言，可以为一硬式透明基板或一可挠式透明基板，其材料可以选自玻璃、压克力(polymethylmethacrylate；PMMA)、聚氯乙烯(polyvinylChloride；PVC)、聚丙烯(polypropylene；PP)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethyleneterephthalate；PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate；PEN)、聚碳酸酯(polycarbonate；PC)、聚苯乙烯(polystyrene；PS)等透明材料。接着，参考图1，在基板110的第一表面(如上表面)及第二表面(如下表面)上分别制作感光层，如图所示，基板110的上表面具有第一感光层120A，基板110的上表面具有第二感光层120B。较佳地，第一感光层120A与第二感光层120B为相同感旋旋光性的材料，例如两者同为正型光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双面电极，其特征在于，包含：一基板，其中该基板具有相对的一第一表面及一第二表面；及层叠设置于该第一表面上的一第一感光层及一第一金属纳米线层与层叠设置于该第二表面上的一第二感光层及一第二金属纳米线层；其中该第一感光层与该第二感光层经曝光后定义出一去除区与一保留区，位于该去除区的该第一感光层与该第一金属纳米线层被移除而定义出位于该第一表面的一第一电极，位于该去除区的该第二感光层与该第二金属纳米线层被移除而定义出位于该第二表面的一第二电极。

【技术特征摘要】
1.一种双面电极，其特征在于，包含：一基板，其中该基板具有相对的一第一表面及一第二表面；及层叠设置于该第一表面上的一第一感光层及一第一金属纳米线层与层叠设置于该第二表面上的一第二感光层及一第二金属纳米线层；其中该第一感光层与该第二感光层经曝光后定义出一去除区与一保留区，位于该去除区的该第一感光层与该第一金属纳米线层被移除而定义出位于该第一表面的一第一电极，位于该去除区的该第二感光层与该第二金属纳米线层被移除而定义出位于该第二表面的一第二电极。2.如权利要求1所述的双面电极，其特征在于，该第一感光层及该第二感光层为具有相同光波段吸收特性的光阻，该第一感光层吸收大于一第一曝光源的光线总能量的80％，该第二感光层吸收大于一第二曝光源的光线总能量的80％。3.如权利要求1所述的双面电极，其特征在于，该第一感光层及该第二感光层为具有相同光波段吸收特性的光阻，该第一感光层及该第二感光层添加有0.1％～10％的光吸收添加物。4.如权利要求3所述的双面电极，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：萧仲钦，练修成，蔡家扬，
申请(专利权)人：凯姆控股有限公司，
类型：新型
国别省市：维尔京群岛,VG