触控面板及其制作方法技术

本发明专利技术公开一种触控面板及其制作方法，触控面板包括：基板，其具有显示区与周边区；触控感应电极，设置于基板的显示区；腐蚀抑制单元，至少设置于显示区；周边线路，设置于基板的周边区，触控感应电极电性连接周边线路；其中，触控感应电极包括图案化后的金属纳米线层的第一部分，周边线路包括导电层及金属纳米线层的第二部分，导电层直接接触金属纳米线层的第二部分，导电层及金属纳米线层的第二部分具有共同蚀刻面。本发明专利技术具有高制作效率、线路阻抗低、显示区的光学及电性特性良好的优势。

【技术实现步骤摘要】
触控面板及其制作方法
本专利技术涉及一种触控面板及其制作方法。
技术介绍
由于透明导体可同时具有光穿透性与适当的导电性，因而可应用于显示面板或触控面板相关的装置中。一般而言，透明导体可以是各种金属氧化物，例如氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)、氧化铟锌(IndiumZincOxide，IZO)、氧化镉锡(CadmiumTinOxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-dopedZincOxide，AZO)。然而，这些金属氧化物薄膜的某些特性已经受到挑战，例如可挠性不足。在部分情况下，经图案化的金属氧化物薄膜也可能有容易被使用者观察到的问题。因此，现今发展出了多种透明导体，例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。然而利用纳米线制作触控电极，纳米线与周边区的金属引线在工艺上及结构上都有许多待解决的问题，例如传统工艺采用的蚀刻液大多为强酸性，故会导致纳米线受到蚀刻液的作用，使产品的光学特性或电特性下降，例如纳米线受到蚀刻液作用造成电阻上升的问题；另外，蚀刻液对于不同材料的蚀刻速率及蚀刻选择性的问题也需要额外的进行研究方能克服。再一方面，利用纳米线制作触控感应电极的工艺中，纳米线与周边区的金属引线会有接触阻抗过高的问题。因此在利用纳米线制作触控感应电极的工艺上、电极结构上必须依照材料特性重新设计，使产品达到较佳的表现。
技术实现思路
本专利技术的部分实施方式，提出了解决前述问题的触控面板制作方法，其具有高制作效率、线路阻抗低、显示区的光学及电性特性良好的优势。<br>本专利技术的部分实施方式提出一种触控面板，包括：基板，其具有显示区与周边区；触控感应电极，设置于基板的显示区；腐蚀抑制单元，至少设置于显示区；周边线路，设置于基板的周边区，触控感应电极电性连接周边线路；其中，触控感应电极包括图案化后的金属纳米线层的第一部分，周边线路包括导电层及金属纳米线层的第二部分，导电层直接接触金属纳米线层的第二部分，导电层及金属纳米线层的第二部分具有共同蚀刻面。于本专利技术的部分实施方式中，腐蚀抑制单元包括添加于金属纳米线层的腐蚀抑制剂，触控感应电极中具有腐蚀抑制剂，周边线路中具有腐蚀抑制剂。于本专利技术的部分实施方式中，金属纳米线层添加有1％～10％的腐蚀抑制剂。于本专利技术的部分实施方式中，更包括一设置于金属纳米线层上的底涂层，其中腐蚀抑制单元包括添加于底涂层的腐蚀抑制剂。于本专利技术的部分实施方式中，腐蚀抑制单元包括一设置于金属纳米线层上的抗蚀层，触控感应电极与抗蚀层具有相同图案。于本专利技术的部分实施方式中，抗蚀层为具有图案的光刻胶材料，光刻胶材料成形于显示区而不成形于周边区。于本专利技术的部分实施方式中，触控感应电极包括设置于基板的上表面的第一触控感应电极及设置于基板的下表面的第二触控感应电极；腐蚀抑制单元包括设置于第一触控感应电极上的第一抗蚀层及设置于第二触控感应电极上的第二抗蚀层，第一触控感应电极与第一抗蚀层具有相同图案，第二触控感应电极与第二抗蚀层具有相同图案。于本专利技术的部分实施方式中，第一抗蚀层及第二抗蚀层为具有相同光波段吸收特性的光刻胶，第一抗蚀层吸收大于第一曝光源的光线总能量的80％，第二抗蚀层吸收大于第二曝光源的光线总能量的80％。于本专利技术的部分实施方式中，第一抗蚀层及第二抗蚀层为具有相同光波段吸收特性的光刻胶，第一感光层及第二感光层添加有0.1％～10％的光吸收添加物。于本专利技术的部分实施方式中，第一抗蚀层及第二抗蚀层为具有不同光波段吸收特性的光刻胶。本专利技术的部分实施方式提出一种触控面板的制作方法，包含：提供一基板，该基板具有一显示区与一周边区；设置由金属纳米线所组成的一金属纳米线层于该基板上；设置一腐蚀抑制单元，其中该腐蚀抑制单元至少位于该显示区；设置一导电层于该金属纳米线层上；移除位于该显示区的该导电层；进行图案化步骤，包括：图案化位于该显示区的该金属纳米线层以形成一触控感应电极，并同时图案化位于该周边区的该导电层与该金属纳米线层以形成一周边线路。于本专利技术的部分实施方式中，设置腐蚀抑制单元包括添加腐蚀抑制剂于金属纳米线层中。于本专利技术的部分实施方式中，金属纳米线层添加有1％～10％的该腐蚀抑制剂。于本专利技术的部分实施方式中，移除位于显示区的导电层包括利用一第一蚀刻液将位于显示区的导电层去除；在移除位于该显示区的导电层之后，该金属纳米线层的电阻值变化在10％以下。根据本专利技术的部分实施方式，进行一图案化步骤包括利用一第二蚀刻液蚀刻导电层与金属纳米线层。根据本专利技术的部分实施方式，设置腐蚀抑制单元包括设置具有图案的抗蚀层于金属纳米线层上。根据本专利技术的部分实施方式，移除位于显示区的该导电层及进行图案化步骤为利用一蚀刻液同时进行。于本专利技术的部分实施方式中，设置由金属纳米线所组成的金属纳米线层于基板上包括：在基板的上表面上设置第一金属纳米线层及在基板的下表面上设置第二金属纳米线层。于本专利技术的部分实施方式中，设置腐蚀抑制单元包括：设置于一第一抗蚀层于该第一触控感应电极上及设置一第二抗蚀层于该第二触控感应电极上。于本专利技术的部分实施方式中，设置腐蚀抑制单元包括：设置于一具有图案的第一抗蚀层于该第一金属纳米线层上及设置一具有图案的第二抗蚀层于该第二金属纳米线层上；设置一导电层于该金属纳米线层上包括：将该导电层分别设置于该第一金属纳米线层上与该第二金属纳米线层上。于本专利技术的部分实施方式中，该移除位于该显示区的该导电层及该进行图案化步骤为利用一蚀刻液同时进行，并利用该蚀刻液图案化位于该显示区的该第一金属纳米线层以形成一第一触控感应电极，及图案化位于该显示区的该第二金属纳米线层以形成一第二触控感应电极，并同时图案化位于该周边区的该导电层、该第一金属纳米线层与该第二金属纳米线层以形成一周边线路。于本专利技术的部分实施方式中，第一抗蚀层及第二抗蚀层为具有相同光波段吸收特性的光刻胶，第一抗蚀层吸收大于一第一曝光源的光线总能量的80％，第二抗蚀层吸收大于一第二曝光源的光线总能量的80％。于本专利技术的部分实施方式中，第一抗蚀层及第二抗蚀层为具有相同光波段吸收特性的光刻胶，第一感光层及第二感光层添加有0.1％～10％的光吸收添加物。于本专利技术的部分实施方式中，第一抗蚀层及该第二抗蚀层为具有不同光波段吸收特性的光刻胶。以下结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述，但不作为对本专利技术的限定。附图说明图1为根据本专利技术的部分实施方式的触控面板的示意图。图2为根据本专利技术的部分实施方式的触控面板的制作方法的第一步骤示意图。图3为根据本专利技术的部分实施方式的触控面板的制作方法的第二步骤示意图。图4A为沿图1的线4A-4A的剖面示意图。图4B为沿图1的线4B-4B的剖面示意图。图5为根据本专利技术的部分实施方式中添加腐蚀抑制剂与未添加的情况下，纳米银层的电阻值变化趋势图。图6为根据本专利技术的部分实施方式的触控面板的制作方法的第一步骤示本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控面板，其特征在于，包含：/n一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；/n一触控感应电极，设置于该基板的该显示区；/n一腐蚀抑制单元，该腐蚀抑制单元至少设置于该显示区；以及/n一周边线路，设置于该基板的该周边区，该触控感应电极电性连接该周边线路；/n其中，该触控感应电极包括图案化后的一金属纳米线层的一第一部分，该周边线路包括一导电层及该金属纳米线层的一第二部分，该导电层直接接触该金属纳米线层的该第二部分，该导电层及该金属纳米线层的该第二部分具有共同蚀刻面。/n

【技术特征摘要】
1.一种触控面板，其特征在于，包含：
一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；
一触控感应电极，设置于该基板的该显示区；
一腐蚀抑制单元，该腐蚀抑制单元至少设置于该显示区；以及
一周边线路，设置于该基板的该周边区，该触控感应电极电性连接该周边线路；
其中，该触控感应电极包括图案化后的一金属纳米线层的一第一部分，该周边线路包括一导电层及该金属纳米线层的一第二部分，该导电层直接接触该金属纳米线层的该第二部分，该导电层及该金属纳米线层的该第二部分具有共同蚀刻面。


2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该腐蚀抑制单元包括添加于该金属纳米线层的腐蚀抑制剂，该触控感应电极中具有该腐蚀抑制剂，该周边线路中具有该腐蚀抑制剂。


3.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，该金属纳米线层添加有1％～10％的该腐蚀抑制剂。


4.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，更包括一设置于该金属纳米线层上的底涂层，其中该腐蚀抑制单元包括添加于该底涂层的腐蚀抑制剂。


5.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该腐蚀抑制单元包括一设置于该金属纳米线层上的抗蚀层，该触控感应电极与该抗蚀层具有相同图案。


6.根据权利要求5所述的触控面板，其特征在于，该抗蚀层为一具有图案的光刻胶材料，该光刻胶材料成形于该显示区而不成形于该周边区。


7.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该触控感应电极包括一设置于该基板的上表面的第一触控感应电极及一设置于该基板的下表面的第二触控感应电极；该腐蚀抑制单元包括一设置于该第一触控感应电极上的第一抗蚀层及一设置于该第二触控感应电极上的第二抗蚀层，该第一触控感应电极与该第一抗蚀层具有相同图案，该第二触控感应电极与该第二抗蚀层具有相同图案。


8.根据权利要求7所述的触控面板，其特征在于，该第一抗蚀层及该第二抗蚀层为具有相同光波段吸收特性的光刻胶，该第一抗蚀层吸收大于一第一曝光源的光线总能量的80％，该第二抗蚀层吸收大于一第二曝光源的光线总能量的80％。


9.根据权利要求7所述的触控面板，其特征在于，该第一抗蚀层及该第二抗蚀层为具有相同光波段吸收特性的光刻胶，该第一感光层及该第二感光层添加有0.1％～10％的光吸收添加物。


10.根据权利要求7所述的触控面板，其特征在于，该第一抗蚀层及该第二抗蚀层为具有不同光波段吸收特性的光刻胶。


11.一种触控面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一基板，该基板具有一显示区与一周边区；
设置由金属纳米线所组成的一金属纳米线层于该基板上；
设置一腐蚀抑制单元，其中该腐蚀抑制单元至少位于该显示区；
设置一导电层于该金属纳米线层上；
移除位于该显示区的该导电层；以及
进行图案化步骤，包括：图案化位于该显示区的该金属纳米线层以形成一触...

【专利技术属性】
技术研发人员：萧仲钦，练修成，蔡家扬，
申请(专利权)人：凯姆控股有限公司，
类型：发明
国别省市：英属维尔京群岛;VG