一种柔性隔离基团修饰的有机二阶非线性光学发色团及其制备方法和应用技术

技术编号:20261323 阅读:39 留言:0更新日期:2019-02-01 23:56
本发明专利技术公开了一种柔性隔离基团修饰的有机二阶非线性光学发色团,具有以下结构:

A Flexible Isolation Group Modified Organic Second Order Nonlinear Optical Chromophore and Its Preparation and Application

The invention discloses an organic second-order nonlinear optical chromophore modified by a flexible isolation group, which has the following structure:

【技术实现步骤摘要】
一种柔性隔离基团修饰的有机二阶非线性光学发色团及其制备方法和应用
本专利技术涉及有机二阶非线性光学材料
更具体地,涉及一种柔性隔离基团修饰的有机二阶非线性光学发色团及其制备方法和应用。
技术介绍
随着信息时代的快速发展,使得现阶段对通信信息材料的要求越来越高。由于光电子技术能够利用电光和光电转换以及全光网络可以大大提高通信效率,以满足信息世界的建设和光纤到户计划需求,因此近几十年来非线性光学材料一直吸引着人们的研究兴趣,将其应用于光通信、光电子学和光信息处理等实用领域。集成光学系统具有体积小重量轻且更加体现了光子传输的优势,在光通信、光信息处理、光传感技术、自动控制、电子对抗、光子对抗、光子计算机等高
有着广泛的应用。而集成光系统包括了波导光纤、光开关、光转换器等重要器件,其中关键性的光转换器由非线性光学(NLO)材料制造而成。目前已经商业化的二阶非线性光学材料是以无机材料为主,但无机材料存在电光系数小,相应时间长等缺陷,从而限制了其广泛应用。相比较无机材料,有机非线性光学材料具有超快响应速度(亚皮秒甚至皮秒)、低介电常数、高光损伤阈值(GW/cm2量级)、可加工性能好本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种柔性隔离基团修饰的有机二阶非线性光学发色团,其特征在于,具有如通式I所示的结构:

【技术特征摘要】
1.一种柔性隔离基团修饰的有机二阶非线性光学发色团,其特征在于,具有如通式I所示的结构:其中,R1为C1~C20的烷基、C1~C10的羟烷基、被卤素原子保护的C1~C10的羟烷基或被硅烷保护的C1~C10的羟烷基;R2为甲基或三氟甲基;R3为C1~C20的烷基或苯基。2.根据权利要求1所述的一种柔性隔离基团修饰的有机二阶非线性光学发色团,其特征在于,所述被硅烷保护的羟烷基中的硅烷为三甲基硅烷、叔丁基二甲基硅烷,叔丁基二苯基硅烷或二甲基苯基硅烷。3.如权利要求1~2任一所述的一种柔性隔离基团修饰的有机二阶非线性光学发色团的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:i)在无水N,N-二甲基甲酰胺中,通式II化合物、R0-X和无水碳酸钾反应,收集得到通式III化合物;其中,R0-X中X为卤素原子,R0为C1~C20的烷基或C1~C10的羟烷基;通式II如下:通式III如下:其中R1如前面所定义;ii)将步骤i)得到的通式III化合物、噻吩甲基三苯基膦和氰化钠,在无水乙醚中反应,收集得到通式IV化合物,其中通式IV如下其中R1如前面所定义;iii)将步骤ii)得到的通式IV化合物与重蒸的四氢呋喃混合后,在正丁基锂催化下,与重蒸的N,N-二甲基甲酰胺反应,收集得到通式V化合物,其中通式V如下其中R1如前面所定义;iv)将通式V化合物和2,2-二氰基叉基-3-氰基-4-甲基-5-R2-5-R3呋喃在乙醇中反应,其中R2和R3如前面所定义,收集得到柔性隔离基团修饰的有机二阶非线性光学发色团。4.根据权利要求3所述的一种柔性隔离基团修饰的有机二阶非线性光学发色团的制备方法,其特征在于,具体包括如下步骤:1)在惰性气体保护下,将通式II化合物、R0-X和无水碳酸钾溶于无水N,N-二甲基甲酰胺中,搅拌升温至100~150℃反应10~15h,反应后降至室温,加入去离子水后得到溶液A;对溶液A进行萃取,合并有机相,干燥,过滤,旋蒸,柱色谱分离,干燥后得到通式III化合物;2)将通式III化合物、噻吩甲基三苯基膦和氰化钠溶于无水乙醚中,在室温下搅拌8~24h,反应完毕后将产物倒入冰水中得到溶液B;对溶液B进行萃取,干燥,过滤,旋蒸,柱色谱分离,干燥后得到通式IV化合物;3)将通式IV化合物溶于重蒸的四氢呋喃中得到溶液C,在惰性气体保护下冷...

【专利技术属性】
技术研发人员:甄珍陈璐和延岭薄淑晖
申请(专利权)人:中国科学院理化技术研究所
类型:发明
国别省市:北京,11

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