光通信开关、光控制方法、阵列基板以及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了光通信开关、光控制方法、阵列基板以及显示装置。具体的，本发明专利技术提出了一种光通信开关，包括：相对设置的第一基板以及第二基板；第一光介质层，第一光介质层设置在第一基板以及第二基板之间，第一光介质层由相变材料形成，相变材料在第一状态下具有第一折射率，在第二状态下具有第二折射率；第二光介质层，第二光介质层设置在第一基板以及第二基板之间，且第二光介质层和第一光介质层互相接触，第二光介质层的折射率与第一折射率或第二折射率相匹配；以及加热装置，加热装置被配置为能够使相变材料在第一状态以及第二状态之间转变。由此，该光通信开关制作工艺简单，响应时间快。

【技术实现步骤摘要】
光通信开关、光控制方法、阵列基板以及显示装置
本专利技术涉及光学器件领域，具体地，涉及光通信开关、光控制方法、阵列基板以及显示装置。
技术介绍
随着科技的迅速发展，通信领域的信息传输容量日益增大，人们对带宽的要求越来越高，光通信网络如何能够高效、迅速地传递信息成为了人们研究的焦点之一。目前的光通信网络中，为了提高传输带宽，一条光纤中通常会传输多种波长的光信号，每种波长的光信号代表一个信道，即一条光纤中同时存在多个信道，传送多个数据。当需要利用光纤中传送的某一部分数据时，可以在进入到光分插复用器(或者光开关)的光信号中，去掉包含该部分数据的波长的信道，即实现光下路(下路的信道直接转到设备中进行业务处理)，其他无关的信道直接通过光分插复用器，即实现光通路。因此，光开关作为构成光交叉连接(即实现光通路)和光分插复用(即实现光下路)的关键器件之一，是光网络中的重要元素，广泛地应用于光通信、光计算、光互联和光信息处理系统，是光器件研究的热点。然而，目前的光通信开关以及光控制方法仍有待改进。
技术实现思路
本专利技术是基于专利技术人对于以下事实和问题的发现和认识作出的：专利技术人发现，目前光通信网络本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光通信开关，其特征在于，包括：相对设置的第一基板以及第二基板；第一光介质层，所述第一光介质层设置在所述第一基板以及所述第二基板之间，所述第一光介质层由相变材料形成，所述相变材料在第一状态下具有第一折射率，在第二状态下具有第二折射率；第二光介质层，所述第二光介质层设置在所述第一基板以及所述第二基板之间，且所述第二光介质层和所述第一光介质层互相接触，所述第二光介质层的折射率与所述第一折射率或所述第二折射率相匹配；以及加热装置，所述加热装置被配置为能够使所述相变材料在所述第一状态以及所述第二状态之间转变。

【技术特征摘要】
1.一种光通信开关，其特征在于，包括：相对设置的第一基板以及第二基板；第一光介质层，所述第一光介质层设置在所述第一基板以及所述第二基板之间，所述第一光介质层由相变材料形成，所述相变材料在第一状态下具有第一折射率，在第二状态下具有第二折射率；第二光介质层，所述第二光介质层设置在所述第一基板以及所述第二基板之间，且所述第二光介质层和所述第一光介质层互相接触，所述第二光介质层的折射率与所述第一折射率或所述第二折射率相匹配；以及加热装置，所述加热装置被配置为能够使所述相变材料在所述第一状态以及所述第二状态之间转变。2.根据权利要求1所述的光通信开关，其特征在于，所述第二光介质层的折射率与所述第一折射率或所述第二折射率的偏差不大于25％。3.根据权利要求2所述的光通信开关，其特征在于，所述第二光介质层的折射率与所述第一折射率和所述第二折射率中较大的一个的偏差不大于25％。4.根据权利要求1所述的光通信开关，其特征在于，所述第一光介质层和所述第二光介质层之间具有接触面，且所述接触面为斜面，所述接触面与所述第一基板之间的夹角为α，其中，0＜α≤90°。5.根据权利要求4所述的光通信开关，其特征在于，所述第一光介质层和所述第二光介质层为相互配合的两个楔体，所述接触面为所述楔体的斜面。6.根据权利要求5所述的光通信开关，其特征在于，所述第一基板和所述第二基板平行设置，所述第一光介质层和所述第二光介质层为全等的两个所述楔体，所述楔体的底面为正四边形且平行于所述第一基板，所述楔体具有一个垂直于所述底面的正四边形侧壁，所述正四边形侧壁位于所述光通信开关中的外侧，光线沿着垂直于所述正四边形侧壁的方向入射至所述光通信开关中，所述接触面和所述第一基板之间的夹角与所述光线在所述接触面处发生全反射的入射临界角互余。7.根据权利要求1所述的光通信开关，其特征在于，所述相变材料包括Ge2Sb2Te5，所述相变材料的所述第一状态为非晶态，所述相变材料的所述第二状态为晶态；形成所述第二光介质...

【专利技术属性】
技术研发人员：王志东，周丽佳，张俊瑞，兰荣华，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11