彩膜基板和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种彩膜基板和显示装置，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的显示装置难以进一步提高亮度以及降低功耗的问题。本发明专利技术的彩膜基板包括第一基底以及设置在所述第一基底上的透光结构和遮光结构，所述遮光结构包括反光材料层，所述反光材料层用于将至少部分沿垂直于所述第一基底的方向射到所述反光材料层的光以相对所述第一基底倾斜的方向反射出去。

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板和显示装置
本专利技术属于显示
，具体涉及一种彩膜基板和一种显示装置。
技术介绍
现有的一类显示面板中包括对盒的彩膜基板和阵列基板。该显示面板可以是液晶显示面板，也可以是有机发光二极管(OLED)显示面板等。彩膜基板中通常设置有透光结构和遮光结构。透光结构例如是红绿蓝三种颜色的彩色滤光片，遮光结构例如是黑矩阵(BlackMatrix)。现有的透光结构对光的透过率并不高，通常在30％左右，光线损失较多，其构成的显示装置显示的亮度难于进一步提高，而且浪费的功耗较多。
技术实现思路
本专利技术至少部分解决对现有的显示装置难于提高亮度以及降低功耗的问题，提供一种彩膜基板和一种显示装置。根据本专利技术第一方面，提供一种彩膜基板，包括第一基底以及设置在所述第一基底上的透光结构和遮光结构，所述遮光结构包括反光材料层，所述反光材料层用于将至少部分沿垂直于所述第一基底的方向射到所述反光材料层上的光以相对所述第一基底倾斜的方向反射出去。可选地，所述反光材料层形成沿所述遮光结构的长度方向延伸的凹槽，所述凹槽的开口朝向远离所述第一基底一侧，所述凹槽具有侧壁，所述侧壁与所述第一基底之间的夹角大于90°且小于180°。可选地，所述遮光结构还包括黑矩阵，所述反光材料层设置在所述黑矩阵远离所述第一基底的一侧；或者所述遮光结构仅由所述反光材料层构成。可选地，所述反光材料层由导电材料形成。可选地，所述导电材料包括银。可选地，所述彩膜基板还包括透明电极，所述透明电极设置在所述反光材料层朝向所述第一基底的一侧，且与所述反光材料层接触。根据本专利技术第二方面，提供一种显示装置，包括对盒的阵列基板和彩膜基板，所述彩膜基板为根据本专利技术第一方面的彩膜基板。可选地，所述阵列基板包括第二基底以及设置在所述第二基底上的多个晶体管，所述晶体管包括有源区；所述阵列基板还包括光子晶体，所述光子晶体设置所述有源区的远离所述第二基底一侧，所述光子晶体在所述第一基底的正投影的外轮廓包围所述有源区在所述第一基底的正投影，所述光子晶体包括沿垂直于所述第二基底的方向堆叠的多个层叠单元，每个层叠单元包括多层介质层，每个层叠单元中越远离所述第二基底的介质层的折射率越大。可选地，所述光子晶体的每个层叠单元中折射率最小的介质层由硅的氧化物形成。可选地，所述光子晶体的每个层叠单元由两个介质层构成，折射率比硅的氧化物大的介质层由钛的氧化物形成。附图说明图1为本专利技术的实施例的一种彩膜基板的截面图。图2是本专利技术的实施例的另一种彩膜基板的截面图。图3为本专利技术的实施例的一种显示面板的截面图。图4为本专利技术的实施例中光子晶体的截面图。附图标记为：11、第一基底；12、彩色滤光片；13、保护层；14、透明电极；15、支撑柱；16、反光材料层；17、黑矩阵；21、第二基底；22、光阻挡层；23、缓冲层；24、有源区；25、栅绝缘层；26、第一电极；27、第二电极；28、栅极；29、光子晶体；29A、第一介质层；29B、第二介质层；2A、像素电极；2B、层间绝缘层；2C、平坦化层；3、液晶分子；4、背光源。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细描述。在本专利技术中，“构图工艺”是指形成具有特定的图形的结构的步骤，其可为光刻工艺，光刻工艺包括形成材料层、涂布光刻胶、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等步骤中的一步或多步；当然，“构图工艺”也可为压印工艺、喷墨打印工艺等其它工艺。实施例1：参见图1和图2，本实施例提供一种彩膜基板，包括第一基底11以及设置在第一基底11上的透光结构和遮光结构，遮光结构包括反光材料层16，反光材料层16用于将至少部分沿垂直于第一基底11的方向射到反光材料层16上的光以相对第一基底11倾斜的方向反射出去。透光结构例如是不同颜色的彩色滤光片12、保护层13(也称OverCoating)、透明电极14、支撑柱15(也称PS)。光线能够穿过这些透明结构。在彩膜基板中设置反光材料层16的目的是使沿垂直于第一基底11的方向射向该彩膜基板的光以相对于第一基底11倾斜的方向反射出去。在后续应用中，如将该彩膜基板应用于显示面板中，射向彩膜基板的光中不需要用于显示的那部分通常是被遮光结构(例如黑矩阵17)遮挡的。在显示面板中，遮光结构正对的结构通常包括晶体管(例如图3所示)、栅线、数据线等，这些结构是不透光的，但通常遮光结构的面积是大于这些结构的，故存在一部分光从晶体管、栅线、数据线的边缘射向遮光结构。由于反光材料层16的引入，原本被遮挡的光中有一部分可以被反射入显示面板中用于透光的区域(例如液晶显示面板的开口区)或者用于发光的区域(例如有机发光二极管的开口区)。这些光中有一部分能像正常显示的光那样最终被开口区中的各种结构反射出显示面板，从而增大了用于显示的光的光强，提高的光的利用率，增大显示的亮度，同时也降低了功耗。具体地，参见图1，遮光结构还包括黑矩阵17，反光材料层16设置在黑矩阵17远离第一基底11的一侧。也就是在彩膜基板中同时设置黑矩阵17和反光材料层16。黑矩阵17的设置可以避免反光材料层16不能将相邻两个彩色滤光片12之间的光完全反射回去而造成串扰。反光材料层16与黑矩阵17可以是上下一一对应的，当然也可以是彩膜基板的部分区域仅由黑矩阵17遮光，部分区域仅由反光材料层16反光。或者如图2所示，遮光结构仅由反光材料层16构成。透光区域的间隙相对的位置处也就相当于相邻两个彩色滤光片12之间的间隙所对应的位置，通过设计反光材料层16的形状，使得单纯依靠该反光材料层16就能够避免相邻两个彩色滤光片12之间光的串扰，那么也可以将传统的黑矩阵17省去。也就是反光材料层16兼作为黑矩阵17使用。可选地，反光材料层16形成沿遮光结构的长度方向延伸的凹槽，凹槽的开口朝向远离第一基底11一侧，凹槽具有侧壁，侧壁与第一基底11之间的夹角大于90°且小于180°。反光材料层16的外形呈长条状的凹槽(按照图2当前视角，长条形状的延伸方向例如是垂直于图2所在纸面的方向)，凹槽的侧壁是“斜的”，这样是为了更好地将射向反光材料层16的光反射到相邻的显示的开口区中，让更多的本来不用于显示的光用于进行显示。当然该凹槽的侧壁可以是一个平面，也可以是一个曲面。当该凹槽的侧壁是曲面时，上述夹角指的是该曲面的切平面与第一基底11之间的夹角。当然，对于反光材料层16为平整的结构没有凹槽的情况下，也是能将部分斜射向反光材料层16的光再倾斜地反射出去。如此也能起到提高光的利用率的效果。可选地，反光材料层16由导电材料形成。由于反光材料层16可以是裸露在彩膜基板外部的，这样在一些应用中，例如阵列基板包括裸露的顶电极时，反光材料层16可以用于降低顶电极的电阻。可选地，导电材料包括银。这是由于银的反光效果以及导电效果都比较理想。可选地，彩膜基板还包括透明电极14，透明电极14设置在反光材料层16朝向第一基底11的一侧，且与反光材料层16接触。参见图3，如将该彩膜基板应用到液晶显示面板中，在彩膜基板中的透明电极14例如是公共电极，当然也可能兼作为触控电极，导电的反光材料层16与该透明电极14接触，能够进一步降低该透明电极14的电阻。以图2所示结构为例，其制作方法可以是第一基底本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板，包括第一基底以及设置在所述第一基底上的透光结构和遮光结构，其特征在于，所述遮光结构包括反光材料层，所述反光材料层用于将至少部分沿垂直于所述第一基底的方向射到所述反光材料层上的光以相对所述第一基底倾斜的方向反射出去。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，包括第一基底以及设置在所述第一基底上的透光结构和遮光结构，其特征在于，所述遮光结构包括反光材料层，所述反光材料层用于将至少部分沿垂直于所述第一基底的方向射到所述反光材料层上的光以相对所述第一基底倾斜的方向反射出去。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述反光材料层形成沿所述遮光结构的长度方向延伸的凹槽，所述凹槽的开口朝向远离所述第一基底一侧，所述凹槽具有侧壁，所述侧壁与所述第一基底之间的夹角大于90°且小于180°。3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮光结构还包括黑矩阵，所述反光材料层设置在所述黑矩阵远离所述第一基底的一侧；或者所述遮光结构仅由所述反光材料层构成。4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述反光材料层由导电材料形成。5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述导电材料包括银。6.根据权利要求4或5所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括透明电极，所述透明电极设置在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛进进，方业周，李峰，姚磊，闫雷，王金锋，孟艳艳，候林，王成龙，李梅，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11