一种用于半导体清洗设备的搅拌装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于半导体清洗设备的搅拌装置，本实用新型专利技术包括FR‑FX1N微型可编程控制器、清洗筒和水泵，清洗筒侧壁上竖向固定有侧左旋喷头组，侧左旋喷头组和侧左旋喷头组之间所在的清洗筒侧壁上安装有侧右旋喷头组，清洗筒外侧壁右侧固定有FR‑FX1N微型可编程控制器，清洗筒内侧底面外沿安装有底左旋喷头，清洗筒下部固定有控制箱，控制箱内部左侧安装二位三通阀，控制箱内部右侧安装有水泵。本实用新型专利技术通过设置FR‑FX1N微型可编程控制器、清洗筒和水泵，解决了传统清洗筒内搅拌桨叶占用空间较大，对半导体进行清洗时需用摆放架摆放半导体，半导体从摆放架上脱落与搅拌桨叶触碰而发生损坏的问题。

A Mixing Device for Semiconductor Cleaning Equipment

The utility model discloses a mixing device for semiconductor cleaning equipment. The utility model comprises a FR FX1N micro-programmable controller, a cleaning cylinder and a water pump. A side left-handed nozzle group is vertically fixed on the side wall of the cleaning cylinder, and a side right-handed nozzle group is installed on the side wall of the cleaning cylinder between the side left-handed nozzle group and the side left-handed nozzle group, and FR FX is fixed on the right side wall of the outside wall of the cleaning cylinder. 1N micro-programmable controller, the bottom left-handed nozzle is installed on the inner bottom and outer edge of the cleaning cylinder, the control box is fixed on the lower part of the cleaning cylinder, the two-position three-way valve is installed on the left side of the control box, and the pump is installed on the right side of the control box. The utility model solves the problem that the stirring blade in the traditional cleaning cylinder occupies a large space by setting FR_FX1N micro-programmable controller, cleaning cylinder and water pump. When cleaning the semiconductor, it needs to put the semiconductor on the display rack, and the semiconductor falls off from the display rack and is damaged by touching the stirring blade.

【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体清洗设备的搅拌装置
本技术涉及半导体
，具体为一种用于半导体清洗设备的搅拌装置。
技术介绍
半导体在加工后需要对其进行清洗，半导体在清洗时需要放置在清洗筒内的放置架上，清洗筒内设搅拌装置通过搅动清洗液使得清洗液在半导体上流动带走半导体上的残渣，传统的清洗筒需采用搅拌桨叶来带动清洗液流动，搅拌桨叶自身占用较大的空间，致使清洗筒内可放置的半导体数量较少，清洗时半导体掉落至搅拌桨叶上容易发生损坏。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术提供了一种用于半导体清洗设备的搅拌装置，解决了传统清洗筒内搅拌桨叶占用空间较大，对半导体进行清洗时需用摆放架摆放半导体，半导体从摆放架上脱落与搅拌桨叶触碰而发生损坏的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于半导体清洗设备的搅拌装置，包括FR-FX1N微型可编程控制器、清洗筒和水泵，所述清洗筒侧壁上竖向固定有侧左旋喷头组，所述侧左旋喷头组设置有五个，且均匀布置在清洗筒侧壁上，所述侧左旋喷头组和侧左旋喷头组之间所在的清洗筒侧壁上安装有侧右旋喷头组，所述侧右旋喷头组设置有五个，且均匀布置在清洗筒侧壁上，所述清洗筒外侧壁右侧固定有FR-F本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于半导体清洗设备的搅拌装置，包括FR‑FX1N微型可编程控制器(3)、清洗筒(5)和水泵(7)，其特征在于：所述清洗筒(5)侧壁上竖向固定有侧左旋喷头组(1)，所述侧左旋喷头组(1)设置有五个，且均匀布置在清洗筒(5)侧壁上，所述侧左旋喷头组(1)和侧左旋喷头组(1)之间所在的清洗筒(5)侧壁上安装有侧右旋喷头组(2)，所述侧右旋喷头组(2)设置有五个，且均匀布置在清洗筒(5)侧壁上；所述清洗筒(5)外侧壁右侧固定有FR‑FX1N微型可编程控制器(3)，所述清洗筒(5)内侧底面外沿安装有底左旋喷头(9)，所述底左旋喷头(9)设置有五个，且均匀布置在清洗筒(5)内侧底面上，所述底左旋喷...

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体清洗设备的搅拌装置，包括FR-FX1N微型可编程控制器(3)、清洗筒(5)和水泵(7)，其特征在于：所述清洗筒(5)侧壁上竖向固定有侧左旋喷头组(1)，所述侧左旋喷头组(1)设置有五个，且均匀布置在清洗筒(5)侧壁上，所述侧左旋喷头组(1)和侧左旋喷头组(1)之间所在的清洗筒(5)侧壁上安装有侧右旋喷头组(2)，所述侧右旋喷头组(2)设置有五个，且均匀布置在清洗筒(5)侧壁上；所述清洗筒(5)外侧壁右侧固定有FR-FX1N微型可编程控制器(3)，所述清洗筒(5)内侧底面外沿安装有底左旋喷头(9)，所述底左旋喷头(9)设置有五个，且均匀布置在清洗筒(5)内侧底面上，所述底左旋喷头(9)所在的清洗筒(5)内侧底面位置处内侧安装有底右旋喷头(8)，所述底右旋喷头(8)设置有五个，且均匀布置在清洗筒(5)内侧底面上，所述清洗筒(5)下部固定有控制箱(4)；所述控制箱(4)内部左侧安装二位三通阀(6)，所述控制箱(4)内部右侧安装有水泵(7)。2.根据权利要求1所述的一种用于半导体清洗设备的搅拌装置，其特征在于：所述侧右旋喷头组(2)所在的清洗筒(5)侧壁位置处所处的水平高度低于侧左旋喷头组(1)所在的清洗筒(5)侧壁位置处所处的水平高度。3.根据权利要求1所述的一种用于半导体清洗设备的搅拌装置，其特征在于：所...

【专利技术属性】
技术研发人员：成春芳，
申请(专利权)人：世巨科技合肥有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34