基板清洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种基板清洗设备，该基板清洗设备包含有一机座、一传输装置、一湿式清洁组及一干式清洁组，其中湿式清洁组与干式清洁组分别具有连续性无尘布条，利用传输装置夹掣与移动一基板，令基板可相对湿式清洁组与干式清洁组的擦拭组，供分别以无尘布条进行基板表面的喷湿擦拭及擦拭，从而能迅速且有效的去除表面附着的污染物，另外，本实用新型专利技术可进行两阶段清洁，其能在喷湿清洁后擦干水分，因此不会残留清洁水痕，有助于提升清洁质量。

Substrate Cleaning Equipment

The utility model discloses a substrate cleaning equipment, which comprises a machine base, a transmission device, a wet cleaning group and a dry cleaning group. The wet cleaning group and the dry cleaning group have continuous dust-free cloth strips, respectively. The transmission device is used to clamp and move a substrate so that the substrate can be cleaned by a wet cleaning group and a dry cleaning group respectively. The dust-free cloth strip is used for wet-spraying wiping and wiping on the surface of the substrate, so that the pollutants adhering to the surface can be quickly and effectively removed. In addition, the utility model can be cleaned in two stages, which can wipe the water after wet-spraying cleaning, so there will be no residual clean water marks, and help to improve the cleaning quality.

【技术实现步骤摘要】
基板清洗设备
本技术涉及一种基板的清洗技术，具体而言涉及一种以基板清洗设备，藉以能快速、且有效的清理基板表面。
技术介绍
半导体基板，如晶圆、面板、光罩等，其表面洁净度直接影响到制程与产品的合格率，因此在储存及制程中要不断的检查及清洁，以保持其洁净度。以其中光罩而言，由于集成电路的线径已发展至10纳纳米以下，因此制程中的任何污染物都可能直接影响到相对制程或产品的合格率，而用于晶圆Wafer表面形成集成电路的所使用的光罩Mask是微影制程中不可或缺的元件之一，如图1所示的光罩100剖面图来看，该光罩100包含有一板材110、一框架120及一保护膜150【Pellicle】，其中板材110为透光材质，例如石英或玻璃，而板材110具有两个平行间隔的表面111、112，其中一表面111中央具有一集成电路的图形层115【Pattern】，又该框架120设于该表面111且包围该图形层115，一般框架120的材质是阳极处理过的铝合金，另该保护膜150固定于框架120上，且其表面151与板材110表面111相互平行间隔，该保护膜150用来避免图形层115遭受刮伤或污染。然而，光罩污染问题是一直存在的，不论是光罩100中的板材110表面112还是保护膜150表面151会附着污染物，这些污染物包含附着于表面的微粒、化学物质等，若受污染的光罩用于半导体微影制程时，会于晶圆上产生相对应的缺陷Defect。而传统光罩100板材110的表面112的清洗方法【非指保护膜150表面151】，以大量的清洗液针对板材110的表面112作一洁净处理，但过多的清洗液极易造成人员因吸入或直接接触该化学物质而不适，且清洗液清洁后于置干时易生成水痕，不仅会影响清洁板材110的效率，也会破坏板材110表面112的洁净度。另外，保护膜150所使用的黏胶为酯类结构(RCOOR)x，如聚丙烯酸酯的高分子结构，使用过量的硫酸与过氧化氢溶液的清洗液时，(RCOOR)x会水解成可流动但不溶于水的胶态物质(RCOOH)x，且(RCOOH)x可能造成光罩图案上的缺陷与光罩100的报废；换言之，现有的光罩100板材110的清洁上存在有清洗效果与效率不彰的问题，对板材110清洗工作极大的困扰与不便，如何解决前述问题，是业界的重要课题。
技术实现思路
因此，本技术的主要目的在于提供一种的基板清洗设备，藉以能迅速、且有效的进行基板表面清洁，并可迅速且有效的缩短清洁时间。又，本技术的次一主要目的在于提供一基板清洗设备，其可利用给水湿擦与干擦的两阶段清洁，可有效清洗基板表面，且清洗后不会残留水痕，有助于提升清洁效率。为此，本技术主要通过下列的技术手段，来具体实现上述的各项目的与效能，用以清洁一基板，上述基板包含有至少一待清洗表面，该基板清洗设备包含有：一机座；一传输装置，其设于机座上，该传输装置具有一可移动的夹持机构，该夹持机构能够夹掣上述基板，使得该基板待清洗表面完全露出；一湿式清洁组，其设于机座上，该湿式清洁组包含有一具连续无尘布条的擦拭组及一给水泵浦，该擦拭组具有一控制无尘布条接触上述基板待清洗表面的触抵元件，且给水泵浦通过无尘布条接触基板区域向触抵元件提供清洁液，以使基板与触抵元件相对移动，供进行喷湿擦拭以去除污染物；一干式清洁组，其设于机座上，该干式清洁组包含有一具连续无尘布条的擦拭组，该擦拭组具有一控制无尘布条接触上述基板待清洗表面的触抵元件，以使基板与触抵元件相对移动，供进行擦拭以去除污染物及水痕。藉此，通过前述技术手段的具体实现，使本技术的基板清洗设备利用传输装置夹掣及移动该基板，令基板相对湿式清洁组与干式清洁组的擦拭组，分别进行基板待清洗表面的喷湿擦拭及吹气擦拭，从而能迅速、且有效的去除表面附着的污染物，利用本技术可进行两阶段清洁的特性，其能在喷湿清洁后擦干水分，因此不会残留清洁水痕，有助于提升清洁质量，更重要的是由于其是以含浸清洁液的湿式清洁组采直接擦拭方式去除污染物，不需使用到大量有机清洁液，不会产生大量待处理废液，可达维持环境安全性，且降低处理成本的功效，故可大幅增进其实用性，从而能增加其附加价值，并能提高其经济效益。附图说明图1为一种半导体基板的光罩的外观示意图。图2为本技术基板清洗设备的立体外观示意图，供说明各元件的相对关系。图3为本技术基板清洗设备中擦拭组的立体外观示意图。图4为本技术基板清洗设备中擦拭组的局部放大立体剖开示意图。图5为本技术基板清洗设备另一较佳实施例的平面示意图，供说明各元件的相对关系。图6为本技术基板清洗方法的流程图。图7为本技术基板清洗设备于实际清洁时的动作示意图。图8为本技术基板清洗设备于实际清洁时中利用湿式清洁组进行给水湿擦的动作示意图。图9为本技术基板清洗设备于实际清洁时中利用干式清洁组进行吹气干擦的动作示意图。附图标记说明：1-基板；100-光罩；110-基板；111-表面；112-表面；113-空白表面；115-图形层；120-框架；150-保护膜；151-表面；10-机座；20-传输装置；21-驱动机构；22-导轨机构；23-升降机构；24-夹持机构；25-夹爪；30-湿式清洁组；31-给水泵浦；32-给水导管；33-纳米气泡产生器；35-集水机构；40-干式清洁组；41-气体供应器；42-给气导管；50-擦拭组；51-触抵元件；511-连通孔；515-喷出孔；52-置料卷轮；53-收料卷轮；54-升降驱动机构；55-滚压导轮组；56-张力轮组；57-挤压轮组；58-无尘布条；60-进料传送组；61-驱动机构；62-导轨机构；63-载台机构；65-夹爪。具体实施方式本技术提供了一种基板清洗设备，随附图例示本技术的具体实施例及其构件中，所有关于前与后、左与右、顶部与底部、上部与下部、以及水平与垂直的参考，仅用于方便进行描述，并非限制本技术，亦非将其构件限制于任何位置或空间方向。图式与说明书中所指定的尺寸，当可在不离开本技术的权利要求范围内，根据本技术的具体实施例的设计与需求而进行变化。本技术提供一种供利用擦拭方式清洁基板表面的基板清洗设备，该基板1尤指如图1所示的光罩100的板材110中异于保护膜150的一表面112的清洁，其中图2所示为该基板清洗设备，其包含有一机座10、一传输装置20、一湿式清洁组30及一干式清洁组40所组成；其中传输装置20设置于机座10上，用以移动及夹持基板1【如图7所示】。在某些实施例中，该传输装置20包含一驱动机构21、一导轨机构22、一升降机构23及一夹持机构24，其中夹持机构24设于升降机构23上，驱动机构21可控制升降机构23于导轨机构22上沿移动方向X移动，且夹持机构24可利用升降机构23相对导轨机构22沿移动方向Z移动。在某些实施例中，该夹持机构24内具有多个相对夹爪25，供同步夹掣基板1相对边缘或相对角落、且不超出等待清洗的表面【如光罩100的表面112】，令夹持机构24可夹掣基板1同步沿移动方向X、Z移动；湿式清洁组30包含有一擦拭组50、一给水泵浦31及一给水导管32，在某些实施例中，该擦拭组50于机座10上设有一触抵元件51、一置料卷轮52及一收料卷轮53，且置料卷轮52、触抵本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板清洗设备，用以清洁一基板，上述基板包含有至少一待清洗表面，其特征在于，该基板清洗设备包含有：一机座；一传输装置，其设于机座上，该传输装置具有一可移动的夹持机构，该夹持机构能够夹掣上述基板，使得该基板待清洗表面完全露出；一湿式清洁组，其设于机座上，该湿式清洁组包含有一具连续无尘布条的擦拭组及一给水泵浦，该擦拭组具有一控制无尘布条接触上述基板待清洗表面的触抵元件，且给水泵浦通过无尘布条接触基板区域向触抵元件提供清洁液，以使基板与触抵元件相对移动，供进行喷湿擦拭以去除污染物；一干式清洁组，其设于机座上，该干式清洁组包含有一具连续无尘布条的擦拭组，该擦拭组具有一控制无尘布条接触上述基板待清洗表面的触抵元件，以使基板与触抵元件相对移动，供进行擦拭以去除污染物及水痕。

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗设备，用以清洁一基板，上述基板包含有至少一待清洗表面，其特征在于，该基板清洗设备包含有：一机座；一传输装置，其设于机座上，该传输装置具有一可移动的夹持机构，该夹持机构能够夹掣上述基板，使得该基板待清洗表面完全露出；一湿式清洁组，其设于机座上，该湿式清洁组包含有一具连续无尘布条的擦拭组及一给水泵浦，该擦拭组具有一控制无尘布条接触上述基板待清洗表面的触抵元件，且给水泵浦通过无尘布条接触基板区域向触抵元件提供清洁液，以使基板与触抵元件相对移动，供进行喷湿擦拭以去除污染物；一干式清洁组，其设于机座上，该干式清洁组包含有一具连续无尘布条的擦拭组，该擦拭组具有一控制无尘布条接触上述基板待清洗表面的触抵元件，以使基板与触抵元件相对移动，供进行擦拭以去除污染物及水痕。2.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，该传输装置该传输装置进一步包含一驱动机构、一导轨机构及一升降机构，夹持机构设于升降机构上，驱动机构控制升降机构于导轨机构上移动，且夹持机构利用升降机构相对导轨机构移动。3.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，该湿式清洁组的给水泵浦内设有一纳米气泡生成器。4.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，该干式清洁组包含有一气体供应器，且该气体供...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈明生，
申请(专利权)人：特铨股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71