基板清洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种基板清洗设备，该基板清洗设备包含有一机座、一传输装置、一湿式清洁组及一干式清洁组，其中湿式清洁组与干式清洁组分别具有连续性无尘布条，利用传输装置夹掣与移动一基板，令基板可相对湿式清洁组与干式清洁组的擦拭组，供分别以无尘布条进行基板表面的喷湿擦拭及擦拭，从而能迅速且有效的去除表面附着的污染物，另外，本实用新型专利技术可进行两阶段清洁，其能在喷湿清洁后擦干水分，因此不会残留清洁水痕，有助于提升清洁质量。

Substrate Cleaning Equipment

The utility model discloses a substrate cleaning equipment, which comprises a machine base, a transmission device, a wet cleaning group and a dry cleaning group. The wet cleaning group and the dry cleaning group have continuous dust-free cloth strips, respectively. The transmission device is used to clamp and move a substrate so that the substrate can be cleaned by a wet cleaning group and a dry cleaning group respectively. The dust-free cloth strip is used for wet-spraying wiping and wiping on the surface of the substrate, so that the pollutants adhering to the surface can be quickly and effectively removed. In addition, the utility model can be cleaned in two stages, which can wipe the water after wet-spraying cleaning, so there will be no residual clean water marks, and help to improve the cleaning quality.

【技术实现步骤摘要】
基板清洗设备
本技术涉及一种基板的清洗技术，具体而言涉及一种以基板清洗设备，藉以能快速、且有效的清理基板表面。
技术介绍
半导体基板，如晶圆、面板、光罩等，其表面洁净度直接影响到制程与产品的合格率，因此在储存及制程中要不断的检查及清洁，以保持其洁净度。以其中光罩而言，由于集成电路的线径已发展至10纳纳米以下，因此制程中的任何污染物都可能直接影响到相对制程或产品的合格率，而用于晶圆Wafer表面形成集成电路的所使用的光罩Mask是微影制程中不可或缺的元件之一，如图1所示的光罩100剖面图来看，该光罩100包含有一板材110、一框架120及一保护膜150【Pellicle】，其中板材110为透光材质，例如石英或玻璃，而板材110具有两个平行间隔的表面111、112，其中一表面111中央具有一集成电路的图形层115【Pattern】，又该框架120设于该表面111且包围该图形层115，一般框架120的材质是阳极处理过的铝合金，另该保护膜150固定于框架120上，且其表面151与板材110表面111相互平行间隔，该保护膜150用来避免图形层115遭受刮伤或污染。然而，光罩污染问题是一直存在的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板清洗设备，用以清洁一基板，上述基板包含有至少一待清洗表面，其特征在于，该基板清洗设备包含有：一机座；一传输装置，其设于机座上，该传输装置具有一可移动的夹持机构，该夹持机构能够夹掣上述基板，使得该基板待清洗表面完全露出；一湿式清洁组，其设于机座上，该湿式清洁组包含有一具连续无尘布条的擦拭组及一给水泵浦，该擦拭组具有一控制无尘布条接触上述基板待清洗表面的触抵元件，且给水泵浦通过无尘布条接触基板区域向触抵元件提供清洁液，以使基板与触抵元件相对移动，供进行喷湿擦拭以去除污染物；一干式清洁组，其设于机座上，该干式清洁组包含有一具连续无尘布条的擦拭组，该擦拭组具有一控制无尘布条接触上述基板待清...

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗设备，用以清洁一基板，上述基板包含有至少一待清洗表面，其特征在于，该基板清洗设备包含有：一机座；一传输装置，其设于机座上，该传输装置具有一可移动的夹持机构，该夹持机构能够夹掣上述基板，使得该基板待清洗表面完全露出；一湿式清洁组，其设于机座上，该湿式清洁组包含有一具连续无尘布条的擦拭组及一给水泵浦，该擦拭组具有一控制无尘布条接触上述基板待清洗表面的触抵元件，且给水泵浦通过无尘布条接触基板区域向触抵元件提供清洁液，以使基板与触抵元件相对移动，供进行喷湿擦拭以去除污染物；一干式清洁组，其设于机座上，该干式清洁组包含有一具连续无尘布条的擦拭组，该擦拭组具有一控制无尘布条接触上述基板待清洗表面的触抵元件，以使基板与触抵元件相对移动，供进行擦拭以去除污染物及水痕。2.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，该传输装置该传输装置进一步包含一驱动机构、一导轨机构及一升降机构，夹持机构设于升降机构上，驱动机构控制升降机构于导轨机构上移动，且夹持机构利用升降机构相对导轨机构移动。3.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，该湿式清洁组的给水泵浦内设有一纳米气泡生成器。4.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，该干式清洁组包含有一气体供应器，且该气体供...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈明生，
申请(专利权)人：特铨股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71