柔性基底及其制造方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种柔性基底及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。柔性基底包括依次叠加的多个基底结构层，多个基底结构层中的至少一个基底结构层包括依次叠加的有机层、无机层和光子晶体层。本发明专利技术有助于解决显示装置的结构复杂的问题，简化显示装置的结构。本发明专利技术用于柔性显示。

【技术实现步骤摘要】
柔性基底及其制造方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种柔性基底及其制造方法、显示装置。
技术介绍
有源矩阵有机发光二极管(英文：ActiveMatrixOrganicLightEmittingDiode；简称：AMOLED)显示装置是一种新型的柔性平板显示装置，其具有色域广、对比度高、超薄以及柔性显示等特点，被业界认为是现在以及未来最具有潜力的显示装置。AMOLED显示装置包括柔性基底以及设置在柔性基底上的背板电路、阳极、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、阴极和封装层等结构，背板电路包括薄膜晶体管(英文：ThinFilmTransistor；简称：TFT)，TFT包括依次设置的栅极、栅绝缘层、有源层和源漏极层，源漏极层包括源极和漏极，源极和漏极分别搭接在有源层上，且漏极与阳极连接，栅极用于控制TFT的开启或关闭，在TFT开启时，有源层导通，源极上的数据信号通过有源层流向漏极，并通过漏极流向阳极，使阳极与阴极之间形成电场，在该电场的作用下，阳极中的空穴通过空穴传输层注入有机发光层，阴极中的电子通过电子传输层注入有机发光层，空穴和电子在有机发光层中复合产生能量，激发有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种柔性基底，其特征在于，所述柔性基底包括：依次叠加的多个基底结构层，所述多个基底结构层中的至少一个基底结构层包括依次叠加的有机层、无机层和光子晶体层。

【技术特征摘要】
1.一种柔性基底，其特征在于，所述柔性基底包括：依次叠加的多个基底结构层，所述多个基底结构层中的至少一个基底结构层包括依次叠加的有机层、无机层和光子晶体层。2.根据权利要求1所述的柔性基底，其特征在于，所述多个基底结构层包括位于最外侧的第一基底结构层和第二基底结构层，所述第一基底结构层包括依次叠加的有机层、无机层和光子晶体层。3.根据权利要求2所述的柔性基底，其特征在于，所述第二基底结构层包括依次叠加的有机层和无机层；所述多个基底结构层还包括：位于所述第一基底结构层与所述第二基底结构层之间的第三基底结构层，所述第三基底结构层包括依次叠加的有机层、无机层和光子晶体层。4.根据权利要求1至3任一所述的柔性基底，其特征在于，所述光子晶体层为二维光子晶体层。5.根据权利要求4所述的柔性基底，其特征在于，所述光子晶体层具有沿所述光子晶体层的厚度方向贯通的多个通孔，所述多个通孔中的每个通孔中充填有有机材料。6.根据权利要求5所述的柔性基底，其特征在于，所述多个通孔均为圆形通孔，所述多个通孔中的每个通孔的孔径的取值范围为10纳米～1000纳米。7.根据权利要求5所述的柔性基底，其特征在于，所述通孔中充填的有机材料与所述有机层的形成材料相同。8.根据权利要求7所述的柔性基底，其特征在于，所述有机材料为聚酰亚胺。9.根据权利要求1至3任一所述的柔性基底，其特征在于，所述无机层的形成材料和所述光子晶体层的形成材料均为氧化硅。10.根据权利要求3所述的柔性基底，其特征在于，所述有机层的厚度的取值范围为6微米～8微米，所述光子晶体层的厚度...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋卓林，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11