一种OLED显示基板、显示装置和制作方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种OLED显示基板，包括衬底；设置在所述衬底上的TFT结构；设置在所述TFT结构上的平坦化层；设置在所述平坦化层上的像素界定层和阳极；设置在所述阳极上的有机功能层；以及设置在所述有机功能层上的阴极；其中所述阳极在靠近所述有机功能层一侧的区域中，邻近像素界定层的部分的方阻小于远离像素界定层的部分的方阻。本发明专利技术提供的实施例通过使用方阻不同的阳极，调节阳极的阻值差异以调整空穴注入，从而解决显示面板在制备像素内成膜过程中因墨水攀爬像素界定层导致的像素内发光不均的情况，有效提高显示面板的显示效果。

【技术实现步骤摘要】
一种OLED显示基板、显示装置和制作方法
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种OLED显示基板、显示装置和制作方法。
技术介绍
OLED(OrganicLight-EmittingDiode，电致发光二极管)相对于LCD具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为是下一代显示技术。有机电致发光器件薄膜沉积方法主要有真空蒸镀和溶液制程两种。在喷墨打印工艺中，墨水在像素内成膜工艺过程时，墨水会攀爬到像素界定层上面，致使像素边缘的有机功能层的厚度大于像素中间位置的厚度。然而像素内成膜均匀性直接影响着器件发光亮度的均匀性，体现在器件点亮中就是中间亮度高，四周亮度低的不均匀显示。
技术实现思路
为了解决上述问题至少之一，本专利技术第一方面提供一种OLED显示基板，包括衬底；设置在所述衬底上的TFT结构；设置在所述TFT结构上的平坦化层；设置在所述平坦化层上的像素界定层和阳极；设置在所述阳极上的有机功能层；以及设置在所述有机功能层上的阴极；其中所述阳极在靠近所述有机功能层一侧的区域中，邻近像素界定层的部分的方阻小于远离像素界定层的部分的方阻。进一步的，所述阳极包括由像素界定层本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OLED显示基板，其特征在于，包括衬底；设置在所述衬底上的TFT结构；设置在所述TFT结构上的平坦化层；设置在所述平坦化层上的像素界定层和阳极；设置在所述阳极上的有机功能层；以及设置在所述有机功能层上的阴极；其中所述阳极在靠近所述有机功能层一侧的区域中，邻近像素界定层的部分的方阻小于远离像素界定层的部分的方阻。

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示基板，其特征在于，包括衬底；设置在所述衬底上的TFT结构；设置在所述TFT结构上的平坦化层；设置在所述平坦化层上的像素界定层和阳极；设置在所述阳极上的有机功能层；以及设置在所述有机功能层上的阴极；其中所述阳极在靠近所述有机功能层一侧的区域中，邻近像素界定层的部分的方阻小于远离像素界定层的部分的方阻。2.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述阳极包括由像素界定层围绕的第一阳极；贯通所述第一阳极远离像素界定层的部分的第一沟槽；设置在所述第一沟槽中的第二阳极，其中第二阳极的方阻大于第一阳极的方阻。3.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述阳极包括由像素界定层围绕的第一阳极；在所述第一阳极远离像素界定层的部分设置第二沟槽，所述第二沟槽的深度小于所述第一阳极的厚度；设置在所述第二沟槽中的第二阳极，其中第二阳极的方阻大于第一阳极的方阻。4.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述阳极包括由像素界定层围绕的第一阳极；贯通所述第一阳极远离像素界定层的部分的第一沟槽；设置在所述第一沟槽中的第三阳极，所述第三阳极的厚度小于所述第一阳极的厚度；设置在所述第一沟槽中的第二阳极，所述第二阳极位于所述第三阳极靠近所述有机功能层一侧，其中第二阳极的方阻大于第一阳极的方阻和第三阳极的方阻。5.根据权利要求4所述的OLED显示基板，其特征在于，所述第二阳极的方阻>所述第一阳极的方阻>所述第三阳极的方阻。6.一种显示装置，其特征在于，包括根据权利要求1-5中任一项所述的OLED显示基板。7.一种制作OLED显示基板的方法，其特征在于，包括在衬底上形成TFT结构；在所述TFT结构上形成平坦化层；在所述平坦化层上形成阳极层和围绕所述阳极层的像素界定层，其中所...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯文军，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11