一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域，为解决相关技术中的阵列基板中的有机发光单元所发出的光线亮度衰减较大的问题而发明专利技术。该阵列基板，包括多个像素，每个所述像素包括多个子像素，针对每个所述子像素，所述子像素包括衬底基板、绝缘层、彩色滤光层、平坦层以及有机发光单元，所述绝缘层覆盖于所述衬底基板上，所述绝缘层上开设有第一开口，所述彩色滤光层至少有一部分填充于所述第一开口内，所述平坦层覆盖于所述绝缘层上且将所述彩色滤光层的表面覆盖，所述有机发光单元设置于所述平坦层上。本发明专利技术可用于OLED显示装置中。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置。
技术介绍
有机发光二极管显示装置(OrganicLightEmittingDisplay，OLED)具有白发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180度视角、使用温度范围宽，可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点，被业界公认为是最有发展潜力的显示装置。其中，对比度是OLED的一项重要的指标，较高的对比度能够给用户带来良好的视觉体验；显示装置的对比度就是：在暗室中，白色画面(最亮时)下的亮度除以黑色画面(最暗时)下的亮度所得到的值。由此可见，提高最高显示亮度对提高对比度具有重要的意义。相关技术中的一种OLED的阵列基板，如图1所示，包括多个像素，每个像素包括多个子像素，对于每个子像素，沿垂直于阵列基板的厚度方向，子像素包括衬底基板01、绝缘层02、彩色滤光层03、平坦层04以及有机发光单元05。相关技术中的这种阵列基板，在工作时，有机发光单元05所发出的光需要依次经过平坦层04、彩色滤光层03、绝缘层02(例如图1中所示的钝化层02本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括多个像素，每个所述像素包括多个子像素，其特征在于，针对每个所述子像素，所述子像素包括衬底基板、绝缘层、彩色滤光层、平坦层以及有机发光单元，所述绝缘层覆盖于所述衬底基板上，所述绝缘层上开设有第一开口，所述彩色滤光层至少有一部分填充于所述第一开口内，所述平坦层覆盖于所述绝缘层上且将所述彩色滤光层的表面覆盖，所述有机发光单元设置于所述平坦层上。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括多个像素，每个所述像素包括多个子像素，其特征在于，针对每个所述子像素，所述子像素包括衬底基板、绝缘层、彩色滤光层、平坦层以及有机发光单元，所述绝缘层覆盖于所述衬底基板上，所述绝缘层上开设有第一开口，所述彩色滤光层至少有一部分填充于所述第一开口内，所述平坦层覆盖于所述绝缘层上且将所述彩色滤光层的表面覆盖，所述有机发光单元设置于所述平坦层上。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一开口贯穿所述绝缘层设置。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述子像素还包括透明刻蚀阻挡层，所述透明刻蚀阻挡层位于所述彩色滤光层与所述衬底基板之间。4.根据权利要求1～3任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述子像素还包括覆盖于所述衬底基板上的遮光层、覆盖于所述衬底基板上且将所述遮光层的表面覆盖的缓冲层、以及设置于所述缓冲层上的顶栅型薄膜晶体管，所述顶栅型薄膜晶体管包括栅极、源极和漏极；所述子像素还包括像素电容，所述像素电容包括第一导电层和第二导电层；所述第一导电层覆盖于所述衬底基板上且位于所述缓冲层内，并且所述第一导电层通过第一过孔与所述漏极电连接，相邻两个所述子像素的所述第一导电层相绝缘；所述第二导电层与所述漏极覆盖于同一绝缘层上，所述第二导电层与所述栅极电连接。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光层覆盖于所述第一导电层上且与所述第一导电层电连接，所述遮光层通过所述第一过孔与所述漏极电连接。6.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述子像素还包括将所述源极、所述漏极、所述第二导电层的表面覆盖的钝化层；所述绝缘层包括所述缓冲层以及所述钝化层，所述平坦层覆盖于所述钝化层上；所述有机发光单元包括至少有一部分覆盖于所述平坦层上的透明电极，所述透明电极通过第二过孔与所述第一导电层电连接，所述透明电极包括第一区域，所述第一区域在所述衬底基板上的正投影与所述第二导电层在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述平坦层上开设有贯穿所述平坦层的第二开口，所述第一区域覆盖于所述钝化...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋振，王国英，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11