【技术实现步骤摘要】
一种淡化光刻图案边缘痕迹的方法
本专利技术属于光刻图像
,具体涉及一种淡化光刻图案边缘痕迹的方法。
技术介绍
光刻专版纸是一种比普通镭射纸、光柱纸、介质纸技术含量更高,效果更炫,防伪效果更好的新型印刷材料,它在高端包装印刷领域运用的越来越普遍。在印刷包装行业类,普通镭射纸、光柱纸、介质纸称为通版纸,光刻专版纸称为专版定位纸。它的制作工艺比普通通版纸复杂,需要定位拼版,同时,它的印刷工艺也与普通的通版纸不同,印刷时印刷文件需要与光刻图案套位印刷。光刻专版定位纸虽然在制作时已经按照印刷的版面进行了拼版定位,但是由于光刻图案是先刻在镍版上,再模压到转移薄膜上,最后才转移到纸张上,整个制作过程非常复杂。在光刻专版定位纸的制作过程中,转移膜的张力、底纸的水份变化都会导致光刻专版定位纸的版面图案发生变化,而且很多时候这种变化是无规律的变化,无法通过后期印刷文件的移位来契合。为了解决这一问题,现有技术光刻专版定位纸的光刻图案都会做扩边处理。比如说,需要套位的光刻图案外形是一个直径为10mm的圆,做光刻文件时,会把外形扩大成一个直径为10.3mm的圆,这个多出的0.3mm的 ...
【技术保护点】
1.一种淡化光刻图案边缘痕迹的方法,其特征在于:包括以下步骤:按照与印刷图案1:1的比例确定光刻专版定位纸上光刻图案的外形大小;将光刻图案向外扩边X1,扩边X1的大小由光刻专版定位纸预估的变形量的大小确定;在扩边X1的基础上再次扩边X2,再次扩边的距离X2是为后期做边缘淡化时预留的处理距离;对预留的扩边X2进行渐变处理;对步骤四渐变部分进行栅格化处理,使光刻图案分解成一个主图案加上若干个边缘碎片图案组成;对步骤五栅格化处理后的光刻图案进行光刻,形成母版,然后再拓片生成子版;将子版按照设计好的位置定位拼制到大版模压版上进行生产加工,淡化部分的背景色选取与光刻部位相邻地方相同的背景色。
【技术特征摘要】
1.一种淡化光刻图案边缘痕迹的方法,其特征在于:包括以下步骤:按照与印刷图案1:1的比例确定光刻专版定位纸上光刻图案的外形大小;将光刻图案向外扩边X1,扩边X1的大小由光刻专版定位纸预估的变形量的大小确定;在扩边X1的基础上再次扩边X2,再次扩边的距离X2是为后期做边缘淡化时预留的处理距离;对预留的扩边X2进行渐变处理;对步骤四渐变部分进行栅格化处理,使光刻图案分解成一个主图案加上若干个边缘碎片图案组成;对步骤五栅格化处理后的光刻图案进行光刻,形成母版,然后再拓片生...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙代东,
申请(专利权)人:青岛嘉颐泽印刷包装有限公司,
类型:发明
国别省市:山东,37
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