【技术实现步骤摘要】
一种微透镜阵列的制备方法
本专利技术属于微光学器件制备
,具体涉及一种微透镜阵列的制备方法。
技术介绍
近几年来,微透镜阵列作为一种新型的功能化器件,在微机电系统、小型传感器和微型光学元件等领域中熠熠生辉。随着微加工和图案化技术的发展,微结构器件具有更快响应速度、更廉价成本、更低能耗和更优性能。目前微透镜阵列的方法,主要包括模板法、表面微加工技术、反应离子束刻蚀技术、光刻胶回流方法、激光直接写入、热压模成型法、离子交换法、灰度掩膜、微喷打印、掩模移动法和光敏玻璃热成形法等。其中模板法是目前运用较为广泛的一种方法,例如公开号为CN104503007A的“一种微透镜阵列制备方法”的专利文件中,公开了一种在清洗干净的蓝宝石玻璃基板上涂覆一层光刻胶,通过光刻把目标结构掩模板图形转印到蓝宝石玻璃基板上,对蓝宝石玻璃基板进行加热,得到光刻胶微透镜阵列模版,采用离子束刻蚀机对制作好光刻胶微透镜阵列的蓝宝石玻璃基板进行刻蚀,完全去除蓝宝石玻璃基板上的光刻胶制备到由蓝宝石玻璃作为结构层和基底的微透镜阵列的方法,但该方法需要苛刻的反应条件,繁琐的操作步骤,较高的温度以及昂贵的设备。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种工艺简单、条件温和、重复性好的微透镜阵列的制备方法。本专利技术的目的是这样实现的:本专利技术公开了一种微透镜阵列的制备方法,通过以下步骤实现:(1)将基底清洗干净;(2)将两种不同种类的聚合物按照比例溶于有机溶剂中配成溶液;(3)取定量溶液滴于清洗干净的基底上;(4)静置基底至晾干,得到微透镜阵列。优选的,步骤(2)中所述的两种不同种类的聚合物具有不同的 ...
【技术保护点】
1.一种微透镜阵列的制备方法,其特征在于,通过以下步骤实现:(1)将基底清洗干净;(2)将两种不同种类的聚合物按照比例溶于有机溶剂中配成溶液;(3)取定量溶液滴于清洗干净的基底上;(4)静置基底至晾干,得到微透镜阵列。
【技术特征摘要】
1.一种微透镜阵列的制备方法,其特征在于,通过以下步骤实现:(1)将基底清洗干净;(2)将两种不同种类的聚合物按照比例溶于有机溶剂中配成溶液;(3)取定量溶液滴于清洗干净的基底上;(4)静置基底至晾干,得到微透镜阵列。2.根据权利要求1所述的一种微透镜阵列的制备方法,其特征在于:步骤(2)中所述的两种不同种类的聚合物具有不同的亲水性。3.根据权利要求1或2所述的一种微透镜阵列的制备方法,其特征在于:步骤(2)中所述的两种不同种类的聚合物的配置比例为1:2~20:1。4.根据权利要求1所述的一种微透镜阵列的...
【专利技术属性】
技术研发人员:马宁,张馨月,朱旭,王强,魏浩,王伟,高闪,张智嘉,王国军,欧阳肖,
申请(专利权)人:哈尔滨工程大学,
类型:发明
国别省市:黑龙江,23
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