【技术实现步骤摘要】
一种用于DIC分析的梯度纳米纯铜SEM试样的制备方法
本专利技术涉及一种用于DIC分析的梯度纳米纯铜SEM试样的制备方法，属于金属材料性能分析
技术介绍
扫描电子显微镜（SEM）主要是利用二次电子信号成像来观察样品的表面形态，即用极狭窄的电子束去扫描样品，通过电子束与样品的相互作用产生各种效应，其中主要是样品的二次电子发射。二次电子能够产生样品表面放大的形貌像，这个像是在样品被扫描时按时序建立起来的，即使用逐点成像的方法获得放大像。数字图像相关方法(DigitalImageCorrelation,DIC)，是一种迅速发展的光力学测量技术，该方法主要用于对材料或者结构表面在外载或其它因素作用下的变形场进行测量。随着技术的不断发展，扫描电子显微镜（SEM）下微观结构特征内的局部应变调节过程的表征是一个崭新的研究领域，利用DIC技术来分析扫描电子显微镜（SEM）图片，能够在更高分辨率下分析工程材料局部的应力-应变过程，其晶粒尺寸适用范围达到50-500μm，利用喷金仪在金属表面进行喷金处理是常用的扫描电镜试样斑点的制备方法，此方法是为了建立真空兼容、电子导电、...
【技术保护点】
1.一种用于DIC分析的梯度纳米纯铜SEM试样的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：（1）将梯度纳米纯铜试样侧面用砂纸进行打磨并抛光处理；（2）将步骤（1）抛光后的梯度纳米纯铜试样置于丙酮中超声波清洗10min，然后碱洗、酸洗除油；（3）对步骤（2） 除油后的梯度纳米纯铜试样侧面进行磁控溅射镀膜机镀膜，磁控溅射参数为：腔体气压3Pa，银靶功率40~60W，溅射时间20~50s，银靶浓度99.9999%，背底真空度2×10‑3Pa；（4）对步骤（3）处理后的梯度纳米纯铜进行退火处理，在300℃~400℃保温5~10分钟，随炉冷却至室温，得到梯度纳米纯铜SEM试样。
【技术特征摘要】
1.一种用于DIC分析的梯度纳米纯铜SEM试样的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：（1）将梯度纳米纯铜试样侧面用砂纸进行打磨并抛光处理；（2）将步骤（1）抛光后的梯度纳米纯铜试样置于丙酮中超声波清洗10min，然后碱洗、酸洗除油；（3）对步骤（2）除油后的梯度纳米纯铜试样侧面进行磁控溅射镀膜机镀膜，磁控溅射参数为：腔体气压3Pa，银靶功率40~60W，溅射时间20~50s，银靶浓度99.9999%，背底真空度2×10-3Pa；（4）对步骤（3）处理后的梯度纳米纯铜进行退火处理，在300℃~400℃保温5~10分钟，随炉冷却至室温，得到梯度...
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