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本发明公开一种用于DIC分析的梯度纳米纯铜SEM试样的制备方法，将梯度纳米纯铜进行打磨并抛光、除油处理后用磁控溅射镀膜机溅射在试样侧面镀银膜，对镀膜后的试样进行快速退火处理，使得银膜在试样侧面聚集成银质斑点；本发明得到的SEM试样上的斑点，...
该专利属于昆明理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过昆明理工大学授权不得商用。

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