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一种氧化锆牙科嵌体制造技术

技术编号:20176164 阅读:58 留言:0更新日期:2019-01-23 00:13
本实用新型专利技术提供一种氧化锆牙科嵌体,包括嵌体本体;所述嵌体本体包括牙冠和位于牙冠下方的伸入髓腔部位的嵌体;所述嵌体表面均匀分布有圆形凹槽;所述最外缘的圆形凹槽的位置离牙冠底端边缘0.5‑1mm。本实用新型专利技术中凹槽的设计增加了氧化锆材料与牙体组织的粘接面积,并且凹槽开口小槽大的设计可以让粘接剂进入到修复材料之内,从而达到氧化锆粘接面与牙体组织之间机械锁合的粘接效应。

A Zirconia Dental Inlay

The utility model provides a zirconia dental inlay, comprising an inlay body, which comprises a crown and an inlay located below the crown and extending into the pulp cavity; the surface of the inlay is evenly distributed with circular grooves; the position of the outermost circular groove is 0.5 to 1 mm from the bottom edge of the crown. The design of groove in the utility model increases the bonding area between zirconia material and dental tissue, and the design of large groove opening can make the bonding agent enter into the repair material, thus achieving the bonding effect of mechanical locking between zirconia bonding surface and dental tissue.

【技术实现步骤摘要】
一种氧化锆牙科嵌体
本技术涉及牙科嵌体,尤其涉及一种氧化锆牙科嵌体。
技术介绍
众所周知,氧化锆由于其本身的物理和化学结构,临床上粘接时不可能对其粘接面进行酸蚀粗糙处理,从而达不到理想的化学和物理粘接效果。特别是牙冠较短,病人又不愿备牙的情况下,易导致粘接固位力不够,许多患者往往在戴牙一段时间后由于嵌体牙冠脱落而复诊,而专利技术人观察到几乎所有脱落的牙冠嵌体粘接面都无粘接剂残留,十分光滑,而牙体组织的粘接面却残留大量粘接剂。
技术实现思路
为克服
技术介绍
中存在的问题,本技术提供一种氧化锆牙科嵌体。本技术的具体技术方案如下:一种氧化锆牙科嵌体,包括嵌体本体;所述嵌体本体包括牙冠和位于牙冠下方的伸入髓腔部位的嵌体;所述嵌体表面均匀分布有圆形凹槽;所述最外缘的圆形凹槽的位置离牙冠底端边缘0.5-1mm。作为优选项:所述凹槽表面直径在0.2-0.3mm之间,深度在0.5-0.8mm之间,凹槽底部直径在0.5-0.8mm之间。本技术的有益技术效果:本技术中凹槽的设计增加了氧化锆材料与牙体组织的粘接面积,并且凹槽开口小槽大的设计可以让粘接剂进入到修复材料之内,从而达到氧化锆粘接面与牙体组织之间机械锁合的粘接效应。附图说明图1为本技术结构示意图;其中:嵌体本体1、凹槽2、牙冠3、嵌体4。具体实施方式下面结合实施例和附图对本技术做进一步说明。一种氧化锆牙科嵌体,包括嵌体本体1;所述嵌体本体1包括牙冠3和位于牙冠3下方的伸入髓腔部位的嵌体4;所述嵌体4表面均匀分布有圆形凹槽2;所述最外缘的圆形凹槽2的位置高度方向上离牙冠3底端边缘0.5-1mm。嵌体4一般包括侧壁和底面,为了不影响抗力,凹槽2优选均匀分布在侧壁上,为了不降低摩擦固位力,凹槽2表面直径在0.2-0.3mm之间,深度在0.5-0.8mm之间,凹槽2底部直径在0.5-0.8mm之间。安装本技术时,先将粘接剂涂在嵌体4表面上,并使凹槽2内填充粘贴剂,按照常规方法安装即可。专利技术人已用本方法粘接氧化锆嵌体冠50多例,观察两年多无一例发生脱落事件。尽管本说明书较多地使用了嵌体本体1、凹槽2、牙冠3、嵌体4等术语,但并不排除使用其他术语的可能性。使用这些术语仅仅是为了更方便的描述本技术的本质,把它们解释成任何一种附加的限制都是与本技术精神相违背的。应当理解的是,本说明书未详细阐述的部分均属于现有技术。应当理解的是,上述针对较佳实施例的描述较为详细,并不能因此而认为是对本技术专利保护范围的限制,本领域的普通技术人员在本技术的启示下,在不脱离本技术权利要求所保护的范围情况下,还可以做出替换或变形,均落入本技术的保护范围之内,本技术的请求保护范围应以所附权利要求为准。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氧化锆牙科嵌体,包括嵌体本体(1);其特征在于:所述嵌体本体(1)包括牙冠(3)和位于牙冠(3)下方的伸入髓腔部位的嵌体(4);所述嵌体(4)表面均匀分布有圆形凹槽(2);所述圆形凹槽(2)最外缘离牙冠(3)底端边缘0.5‑1mm。

【技术特征摘要】
1.一种氧化锆牙科嵌体,包括嵌体本体(1);其特征在于:所述嵌体本体(1)包括牙冠(3)和位于牙冠(3)下方的伸入髓腔部位的嵌体(4);所述嵌体(4)表面均匀分布有圆形凹槽(2);所述圆形凹槽(2)最外缘离...

【专利技术属性】
技术研发人员:李勇
申请(专利权)人:武汉大学
类型:新型
国别省市:湖北,42

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