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本实用新型提供一种氧化锆牙科嵌体，包括嵌体本体；所述嵌体本体包括牙冠和位于牙冠下方的伸入髓腔部位的嵌体；所述嵌体表面均匀分布有圆形凹槽；所述最外缘的圆形凹槽的位置离牙冠底端边缘0.5‑1mm。本实用新型中凹槽的设计增加了氧化锆材料与牙体组织...
该专利属于武汉大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉大学授权不得商用。

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