阵列基板制作方法技术

本申请提供一种阵列基板制作方法，包括：提供一基板；依序形成栅极层、绝缘层与保护层于基板上；其中，形成金属层于基板上的驱动线路，所述金属层设置于所述基板与所述绝缘层之间，以及所述绝缘层与所述保护层之间的至少其一部位。本申请通过浮接金属层，增加静电释放路径，即使浮接金属层烧毁，亦不会影响显示品质，较能提高产品良率。同时仅需调整光罩图形，故不需调整生产流程。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板制作方法
本申请涉及显示领域，特别是涉及一种阵列基板制作方法。
技术介绍
平板显示装置，其具有色域广、省电等众多优点，在各领域得到广泛应用。现有的平板显示装置主要包括液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，LCD)，有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiodes，OLED)显示装置和量子点发光二极管(QuantumDotLightEmittingDiodes，QLED)显示装置。其中，薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)，可形成在玻璃基板或塑料基板上，通常作为主动开关，是平板显示装置的重要组成部分之一。而随着发展，也对显示面板及显示装置提出了更多、更高的要求，如抗静电性能，部分产品由于灵敏度高，因而对主动开关等组件的抗静电性能的要求特别高。在TFT的生产和制造过程中，会在阵列基板中镀上多个具有不同功能作用的膜层，而不同的膜层是在不同的机械设备和反应室中完成。一般而言，在镀膜和基板搬运的过程中，基板与其他媒介的接触会产生大量的静电荷，该些静电荷堆积于阵列基板上，当与传送设备接触时，会形成较大的电势差，进而将接触点附近的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板制作方法，其特征在于，包括：提供一基板；形成金属层于所述基板上，所述金属层设置于源极线的预定设置范围内；形成绝缘层，所述绝缘层覆盖所述金属层而设置于所述基板上；形成有源层在所述绝缘层上，所述有源层位于所述金属层上方；形成保护层，所述保护层覆盖所述有源层而设置于所述绝缘层上。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板制作方法，其特征在于，包括：提供一基板；形成金属层于所述基板上，所述金属层设置于源极线的预定设置范围内；形成绝缘层，所述绝缘层覆盖所述金属层而设置于所述基板上；形成有源层在所述绝缘层上，所述有源层位于所述金属层上方；形成保护层，所述保护层覆盖所述有源层而设置于所述绝缘层上。2.如权利要求1所述的阵列基板制作方法，其特征在于，所述金属层与栅极层于同步骤形成。3.如权利要求2所述的阵列基板制作方法，其特征在于，所述金属层与所述栅极层之间具有间隔距离。4.如权利要求1所述的阵列基板制作方法，其特征在于，所述金属层为浮接栅极层或浮接电极层。5.如权利要求1所述的阵列基板制作方法，其特征在于，所述有源层包括源极层与漏极层至少其一。6.一种阵列基板制作方法，其特征在于，包括：提供一基板；形成栅极层于所述基板上；形成绝缘层，所述绝缘层覆盖所述栅极层而设置于所述基板上；形成金属层于所述绝缘层上，所述金属层设置于所述绝缘层上，且位于...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴川，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，重庆惠科金渝光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44