介质阻挡放电离子源、分析仪器及电离方法技术

本发明专利技术供了一种介质阻挡放电离子源，包括介质阻挡放电管以及由第一电极和第二电极组成的电极对，所述介质阻挡放电管的至少一部分设置于所述第一电极和所述第二电极之间，所述电极对通电后能够对样品进行电离，所述介质阻挡放电管与真空部连通，所述介质阻挡放电管内的气压范围为0.01‑100Pa。本发明专利技术提供的介质阻挡放电离子源弥补了现有低气压离子源在该气压范围内的缺陷，提供了一种电离能力强、通用性好且装置简单的低气压离子源。

【技术实现步骤摘要】
介质阻挡放电离子源、分析仪器及电离方法
本专利技术涉及离子分析装置领域，更详细地说，本专利技术涉及一种离子源带有该离子源的质谱仪或离子迁移谱仪及相应的电离方法。
技术介绍
在质谱分析中，常压离子化技术的特点是可在敞开式条件下实现待测样品分子的离子化，直接对表面样品进行质谱分析。经过多年的发展，新型常压敞开式离子化技术的种类已经非常繁多，建立了各具特色的质谱分析方法。其中，2007年清华大学的张新荣课题组研发出一种新型的常压离子化技术，即介质阻挡放电离子源(dielectricbarrierdischargeionization,DBDI)。介质阻挡放电(dielectricbarrierdischarge，DBD)又称无声放电，是有绝缘介质插入放电空间的一种非平衡态气体放电，其最显著的特点是能够在大气压下产生稳定的等离子体，从而省去了真空装置。因此，自2007年介质阻挡放电离子源问世起，其一直以在大气压下工作并利用载气传输样品的形态为本领域技术人员所知晓，具体结构可参考专利CN101004393A、CN101510493A以及CN102522310A。此外，日立的美国专利US8368本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种介质阻挡放电离子源，包括介质阻挡放电管以及由第一电极和第二电极组成的电极对，所述介质阻挡放电管的至少一部分设置于所述第一电极和所述第二电极之间，所述电极对通电后能够对样品进行电离，其特征在于，所述介质阻挡放电管与真空部连通，所述介质阻挡放电管内的气压范围为0.01‑100Pa。

【技术特征摘要】
1.一种介质阻挡放电离子源，包括介质阻挡放电管以及由第一电极和第二电极组成的电极对，所述介质阻挡放电管的至少一部分设置于所述第一电极和所述第二电极之间，所述电极对通电后能够对样品进行电离，其特征在于，所述介质阻挡放电管与真空部连通，所述介质阻挡放电管内的气压范围为0.01-100Pa。2.如权利要求1所述的介质阻挡放电离子源，其特征在于，所述介质阻挡放电管内的气压范围为0.01-1Pa或1-30Pa或30-100Pa。3.如权利要求1所述的介质阻挡放电离子源，其特征在于，所述介质阻挡放电管内径为0.01–2.5mm，壁厚小于1.5mm。4.如权利要求3所述的介质阻挡放电离子源，其特征在于，所述介质阻挡放电管内径的大小选自以下范围中的任意一项：(i)0.01-0.1mm；(ii)0.1-0.2mm；(iii)0.2-0.5mm；(iv)0.5-0.8mm；(v)0.8-1.5mm；(vi)1.5-2.5mm。5.如权利要求3所述的介质阻挡放电离子源，其特征在于，所述介质阻挡放电管的壁厚范围为小于0.2mm或小于0.3mm或小于0.4mm或小于0.5mm或小于0.6mm或小于0.7mm或小于0.8mm或小于0.9mm或小于1.0mm或小于1.1mm或小于1.2mm或小于1.3mm或小于1.4mm。6.如权利要求1-5中任一项所述的介质阻挡放电离子源，其特征在于，所述第一电极设置成伸入所述介质阻挡放电管，所述第二电极设置成抵接所述介质阻挡放电管的外壁。7.如权利要求6所述的介质阻挡放电离子源，其特征在于，所述第一电极中伸入所述介质阻挡放电管的深度小于所述第二电极与所述介质阻挡放电管的外壁抵接位置的深度。8.如权利要求1-5中任一项所述的介质阻挡放电离子源，其特征在于，所述第一电极和第二电极设置成分别抵接于所述介质阻挡放电管的外壁的不同位置。9.如权利要求1-5中任一项所述的介...

【专利技术属性】
技术研发人员：林一明，孙文剑，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：日本,JP