一种草酸铟溶解剂组合物及蚀刻设备的清洗工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种草酸铟溶解剂组合物，主要组分包含碱性组分、螯合剂、pH值调节剂和水，草酸铟溶解剂组合物的pH值为8～12；碱性组分为选自能电离生成K+的强碱弱酸盐中的一种或两种以上的组合，或者由季铵碱与至少一种能电离生成K+的强碱弱酸盐组合而成。本发明专利技术草酸铟溶解剂组合物优化了碱性组分的选择范围，碱性组分为选自能电离生成K

【技术实现步骤摘要】
一种草酸铟溶解剂组合物及蚀刻设备的清洗工艺
本专利技术涉及电子浆料
，具体涉及一种草酸铟溶解剂组合物及蚀刻设备的清洗工艺。
技术介绍
在LCD(液晶显示器)、ELD(电致发光显示器)等FPD(平板显示器)显示装置中，透明导电膜主用于像素显示电极中。ITO(氧化铟锡)、IZO(氧化铟锌)为氧化物膜系透明导电膜的常用材料。ITO、IZO的显示电极的加工方法中需要用到以ITO蚀刻液，目前市面上主流的草酸型ITO蚀刻液应其价格低廉、使用过程中无挥发性酸雾，对人体健康威胁小，而广受行业内外欢迎。草酸型蚀刻液与ITO膜的作用机理是通过草酸的螯合效应，将ITO、IZO的主要成分铟络合形成草酸铟从而进行溶解蚀刻。上述蚀刻液的长期连续使用，会导致草酸铟不能完全溶解在蚀刻液中并沉积在湿法蚀刻的装置内，具体的草酸铟结晶会沉积到配管、阀门、过滤器、泵、喷嘴、基板转移辊、蚀刻机台、缓冲液罐内壁等位置，沉积草酸铟的装置会影响后续蚀刻效果。传统去除草酸铟的方法包括水流冲洗、人工铲除等。CN101876076A公开了一种草酸铟溶解剂组合物及其清洗方法，组合物中包含碱性成分以及从氨基多羧酸及其盐中选择的1种或2本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种草酸铟溶解剂组合物，其特征在于，主要组分包含碱性组分、螯合剂、pH值调节剂和水，草酸铟溶解剂组合物的pH值为8～12；碱性组分为选自能电离生成K+的强碱弱酸盐中的一种或两种以上的组合，或者由季铵碱与至少一种能电离生成K+的强碱弱酸盐组合而成。

【技术特征摘要】
1.一种草酸铟溶解剂组合物，其特征在于，主要组分包含碱性组分、螯合剂、pH值调节剂和水，草酸铟溶解剂组合物的pH值为8～12；碱性组分为选自能电离生成K+的强碱弱酸盐中的一种或两种以上的组合，或者由季铵碱与至少一种能电离生成K+的强碱弱酸盐组合而成。2.根据权利要求1所述的草酸铟溶解剂组合物，其特征在于，草酸铟溶解剂组合物中碱性组分的重量百分比为3～15％；草酸铟溶解剂组合物中螯合剂的重量百分比为3～15％。3.根据权利要求1所述的草酸铟溶解剂组合物，其特征在于，螯合剂为选自L-天门冬氨酸、L-谷氨酸、氨三乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸。4.根据权利要求1所述的草酸铟溶解剂组合物，其特征在于，草酸铟溶解剂组合物中还含有能电离生成Cl-的氯化物，氯化物为选自氯化氢、氯化钾、氯化钠和氯化铵中的一种或者两种以上的组合。5.根据权利要求4所述的草酸铟溶解剂组合物，其特征在于，草酸铟溶解剂组合物中氯...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐杨，邵勇，陈林，承明忠，李涛，殷福华，赵文虎，朱龙，
申请(专利权)人：江阴江化微电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32