【技术实现步骤摘要】
提高防眩性能的TFT玻璃基板薄化用蚀刻液
本专利技术涉及用于液晶显示屏玻璃基板蚀刻组合物。
技术介绍
在现有技术中,为满足制作超薄TFT(ThinFilmTransistor,薄膜晶体管)显示屏的要求,需要对现有规格玻璃基板进行薄化处理。常规薄化方法为采用的氢氟酸进行蚀刻,但为保证薄化后基板的表明质量,须要在薄化完成后进行抛光处理。但抛光后的玻璃基板表面光泽度高,但易产生眩光,需要进行额外的防眩处理。在玻璃表面生成适当的雾度可以使其既能防眩,又能保证较高的的透光率。中国专利文献CN2011102930815公开了一种防眩玻璃的蚀刻液,但在研究中发现,该蚀刻液在仅能用于对TFT基板进行表面进行处理,无法直接用于薄化,尤其无法实现在薄化的同时即提高薄化后基板的表面质量,又能使玻璃基板表面产生适当的雾度从而产生防眩效果。因此提供提高防眩性能的TFT玻璃基板薄化用蚀刻液,能够在玻璃基板进行薄化的同时,使表面产生合适的雾度从而实现防眩效果,成为现有技术中亟待解决的问题。
技术实现思路
为解决前述技术问题,本专利技术提供了一种提高防眩性能的TFT玻璃基板薄化用蚀刻液,在研究中我们意外的发现,通过优选蚀刻液的处方,可以对液晶显示器玻璃基板的进行薄化的同时,在基板表面形成适当的雾度,能够在保持高透光性的同时并能够减少表面进行防眩减反射处理的效果。为解决前述技术问题本专利技术采用的技术方案为:提供了提高防眩性能的TFT玻璃基板薄化用蚀刻液,其特征在于所述蚀刻液由以下组分构成:重量百分比5~7%的盐酸(以HCl计),重量比3~6%的氢氟酸(以HF计),重量比1%~2%的硫酸(以H ...
【技术保护点】
1.提高防眩性能的TFT玻璃基板薄化用蚀刻液,其特征在于所述蚀刻液由以下组分构成:重量百分比5~7%的盐酸(以HCl计),重量比3~6%的氢氟酸(以HF计),重量比1%~2%的硫酸(以H2SO4计),重量百分比含量1%~1.5%的氟化铵,重量百分比含量0.1%~0.2%的氯化锌,重量百分比含量0.1%~0.2%的氯化铝,重量比2~5%的葡萄糖酸内酯,重量百分比含量2~3%的丙三醇,及余量的水。
【技术特征摘要】
1.提高防眩性能的TFT玻璃基板薄化用蚀刻液,其特征在于所述蚀刻液由以下组分构成:重量百分比5~7%的盐酸(以HCl计),重量比3~6%的氢氟酸(以HF计),重量比1%~2%的硫酸(以H2SO4计),重量百分比含量1%~1.5%的氟化铵,重量百分比含量0.1%~0.2%的氯化锌,重量百分比含量0.1%~0.2%的氯化铝,重量比2~5%的葡萄糖酸内酯,重量百分比含量2~3%的丙三醇,及余量的水。2.如权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:佘雪梅,黄朝刚,高凤章,李宁,
申请(专利权)人:邓惠玉,佘雪梅,黄朝刚,高凤章,李宁,
类型:发明
国别省市:广东,44
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