一种基于纳米金属孔洞阵列的测量方法技术

本发明专利技术公开了一种基于纳米金属孔洞阵列的测量方法，包括如下步骤：步骤1：使用纳米压印技术在金属薄膜上压印出一系列周期性均匀分布的纳米金属孔洞；步骤2：选择合适的纳米金属孔洞阵列结构；金属薄膜的厚度是500nm；步骤3：采用垂直入射光进行照射，引起纳米金属孔洞表面等离激元效应，把入射光“限制”在纳米金属孔洞中，使得纳米金属孔洞中的电场强度局部增强；步骤3：通过光谱仪定量的分析等离激元谐振波长的变化；步骤4：通过液体体积与反射光谱谱线之间的对应关系即测量得到纳米金属孔洞中液体的体积；步骤5：采用品质因数来定量的分析测量的效果。本发明专利技术具有无破坏性，无侵入性，无标记等特点。

A Measurement Method Based on Nano-metal Hole Array

The invention discloses a measurement method based on nano-metal hole array, which includes the following steps: step 1: using nano-imprinting technology to imprint a series of periodically uniformly distributed nano-metal holes on the metal film; step 2: selecting appropriate nano-metal hole array structure; thickness of the metal film is 500 nm; step 3: irradiating and introducing with vertical incident light. Initiating the surface plasmon effect of nano-metal holes, the incident light is \confined\ to the nano-metal holes, so that the electric field intensity in the nano-metal holes is locally enhanced; Step 3: Quantitative analysis of the variation of resonance wavelength of plasmon by spectrometer; Step 4: Measuring the liquid in the nano-metal holes by the corresponding relationship between the volume of liquid and the spectral line of reflection. Volume; Step 5: Quantitative analysis of measurement results using quality factors. The invention has the characteristics of non-destructive, non-invasive and non-marking.

【技术实现步骤摘要】
一种基于纳米金属孔洞阵列的测量方法
本专利技术涉及纳米量筒
，具体为一种基于纳米金属孔洞阵列的测量方法。
技术介绍
在纳米晶体的合成、纳米系统的药物输送、纳米尺度分析化学以及纳米流体动力学等纳米技术应用中，定量分析纳米尺度液体体积对这些技术的应用是至关重要的。因此,纳米尺度液体体积的精确测量和控制在科学
引起科研工作者的广泛关注。传统的扫描电子显微镜和原子力显微镜等显微镜测量方法，是无法测量纳米尺度的液体尺寸的，因此环境扫描电子显微镜和低温电子显微镜被人们开发出来以表征纳米尺度的液体样品。然而，这两种电子显微技术都具有破坏待测样品和测试系统复杂笨重等缺点。在过去几年里，基于表面等离激元效应的纳米光学在无损、便携式纳米尺度物体测量方面表现出巨大的应用潜力。多种基于表面等离激元效应的纳米度量尺已经被开发出来，并被用于生物材料、软物质等方面测量纳米尺度的距离或大小。然而，表面等离激元纳米度量尺通常由相互临近的贵金属纳米颗粒构成，这种结构是无法测量纳米尺度的液体体积的。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种基于纳米金属孔洞阵列的测量方法，解决了现有的部分
技术介绍
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【技术保护点】
1.一种基于纳米金属孔洞阵列的测量方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1：使用纳米压印技术在金属薄膜上压印出一系列周期性均匀分布的纳米金属孔洞；步骤2：选择合适的纳米金属孔洞阵列结构；金属薄膜的厚度是500nm，纳米金属孔洞的深度是h，半径是r；步骤3：采用垂直入射光进行照射，引起纳米金属孔洞表面等离激元效应(Surface Plasmon Effects)，把入射光“限制”在纳米金属孔洞中，使得纳米金属孔洞中的电场强度局部增强；而纳米金属孔洞中的液位发生变化时，使得该结构所引起的表面等离激元谐振波长也随着变化；步骤3：通过光谱仪定量的分析等离激元谐振波长的变化；步骤4：通过液体体积与反射光谱...

【技术特征摘要】
1.一种基于纳米金属孔洞阵列的测量方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1：使用纳米压印技术在金属薄膜上压印出一系列周期性均匀分布的纳米金属孔洞；步骤2：选择合适的纳米金属孔洞阵列结构；金属薄膜的厚度是500nm，纳米金属孔洞的深度是h，半径是r；步骤3：采用垂直入射光进行照射，引起纳米金属孔洞表面等离激元效应(SurfacePlasmonEffects)，把入射光“限制”在纳米金属孔洞中，使得纳米金属孔洞中的电场强度局部增强；而纳米金属孔洞中的液位发生变化时，使得该结构所引起的表面等离激元谐振波长也随着变化；步骤3：通过光谱仪定量的分析等离激元谐振波长的变化；步骤4：通过液体体积与反射光谱谱线之间的对应关系即测量得到纳米金属孔洞中液体的体积；步骤5：采用品质因数来定量的分析测量的效果。2.根据权利要求1所述的一种基于纳米金属孔洞...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱锦锋，陈玺钊，王正瑛，朱衫，陈焕阳，
申请(专利权)人：厦门大学，厦门大学深圳研究院，
类型：发明
国别省市：福建,35