一种蒸发源及蒸镀装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种蒸发源及蒸镀装置，涉及蒸镀设备技术领域，能够解决现有的蒸发源沿蒸镀口的排布方向，膜层的厚度均一性较差的问题。所述蒸发源包括坩埚，坩埚的顶部设置有多个蒸镀口，蒸发源还包括：旋转装置，设置于坩埚的底部，用于旋转时带动坩埚旋转。本发明专利技术用于蒸镀设备。

A Evaporation Source and Evaporation Plating Device

The embodiment of the invention provides an evaporation source and an evaporation plating device, which relates to the technical field of evaporation plating equipment, and can solve the problem of poor uniformity of film thickness along the direction of the existing evaporation source along the evaporation plating outlet. The evaporation source includes a crucible, a plurality of evaporation plating outlets are arranged on the top of the crucible, and a rotary device is arranged at the bottom of the crucible to drive the crucible to rotate when it rotates. The invention is used for evaporation plating equipment.

【技术实现步骤摘要】
一种蒸发源及蒸镀装置
本专利技术涉及蒸镀设备
，尤其涉及一种蒸发源及蒸镀装置。
技术介绍
目前，真空蒸发镀膜工艺在有机电致发光显示装置(OrganicElectro-luminescentDisplay，简称OLED)、液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)等的制作过程中被广泛使用。真空蒸发镀膜的基本原理是将镀膜材料放置于蒸镀装置的蒸发源中加热蒸发，形成的镀膜材料的气体分子或原子沉积到待镀膜基板上形成膜层。现有蒸镀装置的蒸发源常使用线性蒸发源，线性蒸发源的结构如图1所示，包括坩埚01，坩埚01包括条状的坩埚本体011、设置在坩埚本体011开口端的坩埚盖子012。坩埚盖子012上设置有沿坩埚本体011的延伸方向排布的多个蒸镀口013。其中，坩埚本体011用于容纳镀膜材料，镀膜材料蒸发后通过蒸镀口013沉积在待镀膜基板上，坩埚本体011内还设置有用于加热镀膜材料的加热丝014。在实际蒸镀过程中，线性蒸发源采用来回扫描的方式进行扫描，形成的膜层厚度沿扫描方向均一性较好，但沿多个蒸镀口013的排布方向膜层的厚度均一性一般较差，这可能是由于多个蒸镀口013的口径在设计时有差异所致，或者是镀膜材料在蒸镀过程中各位置受热不均匀所致。这些都会导致从多个蒸镀口013蒸发出的镀膜材料的量不相同，进而导致沿多个蒸镀口013的排布方向，膜层的厚度均一性较差。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种蒸发源及蒸镀装置，能够解决现有的蒸发源沿蒸镀口的排布方向，膜层的厚度均一性较差的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：一方面，本专利技术实施例提供一种蒸发源，包括坩埚，所述坩埚的顶部设置有多个蒸镀口，所述蒸发源还包括：旋转装置，设置于所述坩埚的底部，用于旋转时带动所述坩埚旋转。可选的，所述坩埚包括一端开口的坩埚本体和用于封闭所述坩埚本体的开口端的坩埚盖子，多个所述蒸镀口设置在所述坩埚盖子上。可选的，所述坩埚本体为条状，多个所述蒸镀口沿所述坩埚本体的延伸方向排布在所述坩埚盖子上。可选的，所述蒸发源还包括承载槽，用于放置所述坩埚；所述承载槽与所述旋转装置固定连接。可选的，所述坩埚本体卡入所述承载槽内。可选的，所述承载槽上设置有第一连接部，所述旋转装置上设置有第二连接部；所述第一连接部与所述第二连接部配合连接。可选的，所述第一连接部为凸起，所述第二连接部为凹槽；或者，所述第一连接部为凹槽，所述第二连接部为凸起。可选的，所述凹槽的形状和所述凸起的形状均为十字型。可选的，所述旋转装置包括旋转盘和与所述旋转盘连接的驱动件，所述驱动件用于驱动所述旋转盘旋转；所述旋转盘与所述承载槽固定连接。可选的，所述驱动件为电机。可选的，所述旋转盘为椭圆形，所述旋转盘的长轴方向与所述坩埚本体的延伸方向相同。可选的，所述蒸发源还包括底部加热结构；所述底部加热结构包括多个片状加热网，多个片状加热网两两交叉分布；所述片状加热网与所述坩埚本体的底面垂直，且所述片状加热网的网格延伸至所述坩埚本体的内侧壁。可选的，所述蒸发源还包括设置在所述坩埚本体内、且靠近所述开口端的顶部加热结构；所述顶部加热结构包括设置在所述坩埚本体内侧壁一圈的第一加热丝和设置在所述第一加热丝围成区域内、且与所述第一加热丝连接的多个围成封闭图形的第二加热丝；所述蒸镀口沿所述坩埚本体深度方向的正投影位于所述第二加热丝围成的区域内。可选的，所述第二加热丝围成的图形为圆形。另一方面，本专利技术实施例提供一种蒸镀装置，包括上述任意一种所述的蒸发源。本专利技术实施例提供的蒸发源及蒸镀装置，所述蒸发源包括坩埚，坩埚的顶部设置有多个蒸镀口，蒸发源还包括：旋转装置，设置于坩埚的底部，用于旋转时带动坩埚旋转。相较于现有技术，本专利技术实施例提供的蒸发源沿扫描方向扫描一次后，由于蒸发源还包括旋转装置，因而旋转装置可以带动坩埚旋转180°，使坩埚两端的位置交换，然后蒸发源再进行一次反向扫描，这样正向扫描一次与反向扫描一次形成的膜层厚度互补，从而减小了坩埚两端的蒸镀口蒸镀的膜层的厚度差异，改善了在垂直于扫描方向的方向上的膜层厚度均一性问题，提高了产品的性能。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术提供的蒸发源的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的蒸发源的剖视结构示意图一；图3为本专利技术实施例提供的蒸发源的剖视结构示意图二；图4为本专利技术实施例提供的蒸发源的俯视结构示意图；图5为本专利技术实施例提供的承载槽的仰视结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的承载槽的剖视结构示意图；图7为本专利技术实施例提供的旋转盘的俯视结构示意图；图8为本专利技术实施例提供的旋转盘的剖视结构示意图；图9为本专利技术实施例提供的承载槽和旋转盘连接结构示意图；图10为本专利技术实施例提供的蒸发源扫描及旋转过程示意图一；图11为本专利技术实施例提供的蒸发源扫描及旋转过程示意图二；图12为本专利技术实施例提供的坩埚的结构示意图；图13为本专利技术实施例提供的坩埚内设置底部加热结构示意图；图14为本专利技术实施例提供的坩埚内设置顶部加热结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种蒸发源，如图2至图11所示，包括坩埚10，坩埚10的顶部设置有多个蒸镀口13，蒸发源还包括：旋转装置，设置于坩埚10的底部，用于旋转时带动坩埚10旋转。本专利技术实施例对于蒸镀口13的设置数量、口径尺寸、口径形状等均不作限定，本领域技术人员可以根据实际情况进行设定。在本专利技术实施例中，蒸发源还包括旋转装置，旋转装置可在蒸发源正向扫描一次后，带动坩埚10旋转180°，以使坩埚10两端的位置交换。然后蒸发源再进行一次反向扫描，这样正向扫描一次与反向扫描一次形成的膜层厚度正好互补，从而减小了坩埚10两端的蒸镀口13蒸镀的膜层的厚度差异，改善了现有的蒸发源中沿蒸镀口13的排布方向的膜层厚度均一性问题，提高了产品的性能。本专利技术实施例对于旋转装置的具体结构不做限定，只要旋转装置能够带动坩埚10旋转180°即可。图10和图11示出了蒸发源扫描及旋转过程，具体的，在图10中，坩埚10在传送装置的带动下沿箭头方向先完成一次正向扫描，然后经过180°旋转，使得坩埚10A端和B端位置对调，接着如图11所示，再进行一次沿箭头方向的反向扫描，这样正向扫描一次与反向扫描一次形成的膜层厚度就可互补。在实际应用中，待蒸镀基板一般位于蒸发源的上方，待蒸镀基板的待蒸镀面朝向蒸发源的蒸镀口13，坩埚本体11内的镀膜材料蒸发后在待蒸镀基板的待蒸镀面凝结成膜。进一步的，参考图2至图4所示，坩埚10包括一端开口的坩埚本体11和用于封闭坩埚本体11的开口端的坩埚盖子12，多个蒸镀口13设置在坩埚盖子12上。本专利技术实施例对于坩埚本体11的形状不做限定，坩本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸发源，包括坩埚，所述坩埚的顶部设置有多个蒸镀口，其特征在于，所述蒸发源还包括：旋转装置，设置于所述坩埚的底部，用于旋转时带动所述坩埚旋转。

【技术特征摘要】
1.一种蒸发源，包括坩埚，所述坩埚的顶部设置有多个蒸镀口，其特征在于，所述蒸发源还包括：旋转装置，设置于所述坩埚的底部，用于旋转时带动所述坩埚旋转。2.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述坩埚包括一端开口的坩埚本体和用于封闭所述坩埚本体的开口端的坩埚盖子，多个所述蒸镀口设置在所述坩埚盖子上。3.根据权利要求2所述的蒸发源，其特征在于，所述坩埚本体为条状，多个所述蒸镀口沿所述坩埚本体的延伸方向排布在所述坩埚盖子上。4.根据权利要求2或3所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸发源还包括承载槽，用于放置所述坩埚；所述承载槽与所述旋转装置固定连接。5.根据权利要求4所述的蒸发源，其特征在于，所述坩埚本体卡入所述承载槽内。6.根据权利要求4所述的蒸发源，其特征在于，所述承载槽上设置有第一连接部，所述旋转装置上设置有第二连接部；所述第一连接部与所述第二连接部配合连接。7.根据权利要求6所述的蒸发源，其特征在于，所述第一连接部为凸起，所述第二连接部为凹槽；或者，所述第一连接部为凹槽，所述第二连接部为凸起。8.根据权利要求7所述的蒸发源，其特征在于，所述凹槽的形状和所述凸起的形状均为十字型。9.根据权利要求4所述的蒸发源，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：裴凤巍，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11