The invention provides a polishing solution for glass, which includes: 8-30 weight parts of alumina; 9-32 weight parts of cerium oxide; 5-8 weight parts of dispersant; 1-5 weight parts of grinding aids; 0.01-1 weight part of pH regulator; water; the total weight of glass polishing solution is 100 weight parts; the particle size of alumina is 100-500 nm; and the particle size of cerium oxide is 600-1200 nm. Compared with the existing technology, the present invention uses cerium oxide and alumina as abrasives, alumina can effectively improve polishing speed, cerium oxide can reduce the surface roughness of workpiece and improve glass strength, and F, O and other elements in dispersant can be combined with metal ions in abrasive particles to improve the suspensibility of polishing solution. With good dispersion and stability, it also has good polishing efficiency, which makes the polished products have high strength, low roughness and high apparent yield.
【技术实现步骤摘要】
一种玻璃用抛光液及其制备方法
本专利技术属于抛光液
，尤其涉及一种玻璃用抛光液及其制备方法。
技术介绍
随着现代技术的发展，在树脂抛光磨料生产中，尤其是对高精度研磨、镜面抛光加工的要求，还有细粒度磨具的广泛应用，这也对超细微粉提出了越来越高的要求。要求超细微粉既要满足粉体颗粒极细,又要分布很窄,同时超细粉体的性能必须具有良好的分散性及与其他物料混合，使用时具有良好的相容。氧化铈(CeO2)纳米粒子抛光液作为一种优质的抛光材料，常用于航空玻璃、集成电路基板、液晶显示器、光学玻璃及各种蓝宝石的抛光。在抛光材料应用领域中，纳米CeO2本身具有优异的性能，其硬度低、划伤少、可与二氧化硅反应及抛光速度快等优势。传统的玻璃抛光液一般采用氧化铈单一磨料，但由于颗粒大且不均，其在抛光玻璃表面时往往易造成较大的划痕和凹坑等微观缺陷，所以单一磨料已无法满足抛光工艺的需求并逐步被复合/混合磨料所代替。公开号为CN103992743A的中国专利公开了一种含有氧化铈粉体与胶体氧化硅混合磨料的抛光液及其制备工艺，其组成组分为：3％～10％的粒径为100～2000nm的氧化铈粉体，5％～...
【技术保护点】
1.一种玻璃用抛光液，其特征在于，包括：
【技术特征摘要】
1.一种玻璃用抛光液，其特征在于，包括：水；所述水使玻璃抛光液的总量为100重量份；所述氧化铝的粒径为100～500nm；所述氧化铈的粒径为600～1200nm；所述分散剂选自硅酸铝、硝酸钠、聚丙烯酸钠、六偏磷酸钠与十二烷基硫酸钠中的一种或多种。2.根据权利要求1所述的玻璃用抛光液，其特征在于，还包括0.1～1重量份的表面活性剂；所述表面活性剂选自聚乙烯吡咯烷酮、十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠、月桂酸钠、草酸钠、膨润土与脂肪醇聚氧乙烯醚中的一种或多种。3.根据权利要求1所述的玻璃用抛光液，其特征在于，还包括1～5重量份的流平剂；所述流平剂选自氟化钠、脂肪酸钠、膨润土与聚合硫酸铁中的一种或多种。4.根据权利要求1所述的玻璃用抛光液，其特征在于，还包括0.01～2重量份的防腐剂；所述防腐剂选自苯并三氮唑、硼酸钾与硼酸钠中的一种或多种。5.根据权利要求1所述的玻...
【专利技术属性】
技术研发人员：周群飞，陆继果，
申请(专利权)人：蓝思科技长沙有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南,43
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