【技术实现步骤摘要】
一种镭射转移膜的制作方法
本专利技术涉及镭射转移膜的制作方法，具体地，涉及一种水洗碱洗相结合的镭射转移膜的制作方法。
技术介绍
在常用的镭射转移膜制作方法中，通常会只用碱洗或者只用水洗的步骤这样制作出来的镭射图案样式十分单一，容易被仿制，防伪效果较差。
技术实现思路
本专利技术为解决上述镭射图案样式单一，容易被仿制，防伪效果差的技术为题，提供一种镭射转移膜的制作方法。为实现上述技术效果，本专利技术采用如下技术方案：一种镭射转移膜的制作方法，包括以下步骤：S1：在基膜上涂布离型树脂，制作离型层：通过涂布机在基膜上涂布离型树脂，并以60m/min通过5段、每段长5米的离型层烤箱进行烘烤，每段所述离型层烤箱的温度依次为120℃±3℃、130℃±3℃、150℃±3℃、150℃±3℃以及120℃±3℃。S2：在所述离型层上涂布镭射层：在离型层上涂布镭射树脂，并以60m/min的速度通过5段、每段长5米的镭射层烘箱进行烘烤，每段所述镭射层烤箱的温度依次为120℃±3℃、140℃±3℃、165℃±3℃、165℃±3℃以及130℃±3℃。S3：在所述镭射层上印刷颜色层；S4：在所述镭...
【技术保护点】
1.一种镭射转移膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：在基膜上涂布离型树脂，制作离型层：通过涂布机在基膜上涂布离型树脂，并以60m/min通过5段、每段长5米的离型层烤箱进行烘烤，每段所述离型层烤箱的温度依次为120℃±3℃、130℃±3℃、150℃±3℃、150℃±3℃以及120℃±3℃。S2：在所述离型层上涂布镭射层：在离型层上涂布镭射树脂，并以60m/min的速度通过5段、每段长5米的镭射层烘箱进行烘烤，每段所述镭射层烤箱的温度依次为120℃±3℃、140℃±3℃、165℃±3℃、165℃±3℃以及130℃±3℃。S3：在所述镭射层上印刷颜色层；S4：在所述镭...
【技术特征摘要】
1.一种镭射转移膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：在基膜上涂布离型树脂，制作离型层：通过涂布机在基膜上涂布离型树脂，并以60m/min通过5段、每段长5米的离型层烤箱进行烘烤，每段所述离型层烤箱的温度依次为120℃±3℃、130℃±3℃、150℃±3℃、150℃±3℃以及120℃±3℃。S2：在所述离型层上涂布镭射层：在离型层上涂布镭射树脂，并以60m/min的速度通过5段、每段长5米的镭射层烘箱进行烘烤，每段所述镭射层烤箱的温度依次为120℃±3℃、140℃±3℃、165℃±3℃、165℃±3℃以及130℃±3℃。S3：在所述镭射层上印刷颜色层；S4：在所述镭射层上模压镭射图案；用设有深浅纹路图案的辊在镭射层上高温辊印，温度为165摄氏度-185摄氏度。S5：在所述颜色层上真空镀铝，制作铝层；S6：水洗清洗颜色层，在颜色层上洗出带有颜色的图案；S7：碱水清洗多余铝层，在铝层上制作铝层图案；S8：涂布胶层和分切。2.根据权利要求1所述的一种镭射转移膜的制作方法，其特征在于，所述的步骤S6和S7可以互换。3.根据权利要求2所述的一种镭射转移膜的制作方法，其特征在于，所述的离型层由质量配比是固体树脂：乙酯：丁酯：PM为7：52：25：16的材料组成；所述的固体树脂由质量配比是丙烯酸树脂：纤维素为9：1的材料组成。4.根据权利要求3所述的一种镭射转移膜的制...
【专利技术属性】
技术研发人员：龚亮，刘佳宁，龚万雄，陈平，
申请(专利权)人：惠州市尚士华科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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