可见及近红外光波段减反射膜及制造方法技术

本发明专利技术提供一种可见及近红外光波段减反射膜：包括从里到外依次设置第一层SiO2层、第二层Ti3O5层、第三层SiO2层、第四层Ti3O5层、第五层SiO2层、第六层Ti3O5层、第七层SiO2层、第八层Ti3O5层、第九层MgF2层和第十层SiO2层。本发明专利技术还提供一种可见及近红外光波段减反射膜制造方法，包括以下步骤：1)、使用离子束辅助沉积真空镀膜技术在基板上依次镀制第一层至第八层；2)、再使用离子束辅助沉积真空镀膜技术且不通氧气镀制第九层MgF2层；3)、使用离子束辅助沉积真空镀膜技术镀制第十层SiO2层。本发明专利技术选用常规三种材料进行设计，极薄层剔除，更容易控制，适合批量稳定生产；增加保护层，有利于生产后道清洗。

Antireflective coatings in visible and near infrared bands and their fabrication methods

The invention provides a visible and near infrared band anti-reflection film, which comprises the first layer of SiO 2, the second layer of Ti 3O 5, the third layer of SiO 2, the fourth layer of Ti 3O 5, the fifth layer of SiO 2, the sixth layer of Ti 3O 5, the seventh layer of SiO 2, the eighth layer of Ti 3O 5, the ninth layer of MgF 2 and the tenth layer of SiO 2. The invention also provides a manufacturing method of visible and near infrared band antireflective film, which includes the following steps: 1) using ion beam assisted deposition vacuum coating technology to deposit the first layer to the eighth layer on the substrate in turn; 2) using ion beam assisted deposition vacuum coating technology and oxygen-free plating to deposit the ninth layer of MgF2 layer; 3) using ion beam assisted deposition vacuum coating technology to deposit the ninth layer of MgF2 layer; Ten layers of SiO 2. The invention chooses three conventional materials for design, eliminates extremely thin layer, is easier to control, is suitable for batch stable production, and increases protective layer, which is beneficial to cleaning after production.

【技术实现步骤摘要】
可见及近红外光波段减反射膜及制造方法
本专利技术涉及的一种减反射膜，具体涉及一种可见及近红外光波段减反射膜及制造方法。
技术介绍
减反射膜，也称增透膜，是一种应用最广的光学薄膜，用于减少光学元件表面的反射，提高工作波段光线的透光率，减少光能损失。照相机、显微镜、摄像机等光学元件通过镀减反射膜来提高光能量，增加光线透光率，改善光学元件成像质量。当前，夜间影像的使用及日夜两用型影像系统的不断增加，对减反射膜提出了更高要求：减反射膜不仅仅局限于可见光或者近红外区域，而且在可见光到近红外超宽光谱区域(400-1100nm)均提出高透光、低反射的要求。然而，目前几乎所有的影像系统在白天光线充足的情况下能捕捉到清晰有用的图像，但夜晚成像则相对较差。而且为了隐蔽，绝大多数的现代影像系统在晚间需使用红外光源，红外光源的照度非常低，通常小于0.1lux。这就要求影像系统整体对于可见及红外区域的光源的透过性非常好，提出了开发可见光到近红外区域(400-1100nm)高透过率、低反射的高品质减反射膜的要求。另外，随着军用红外技术在大气光通讯方面的广泛应用，军用光学系统的光谱区域越来越宽，不仅要求覆盖红外区本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.可见及近红外光波段减反射膜，其特征在于：包括从里到外依次设置第一层SiO2层、第二层Ti3O5层、第三层SiO2层、第四层Ti3O5层、第五层SiO2层、第六层Ti3O5层、第七层SiO2层、第八层Ti3O5层、第九层MgF2层和第十层SiO2层。

【技术特征摘要】
1.可见及近红外光波段减反射膜，其特征在于：包括从里到外依次设置第一层SiO2层、第二层Ti3O5层、第三层SiO2层、第四层Ti3O5层、第五层SiO2层、第六层Ti3O5层、第七层SiO2层、第八层Ti3O5层、第九层MgF2层和第十层SiO2层。2.根据权利要求1所述的可见及近红外光波段减反射膜，其特征在于：第一层SiO2层、第二层Ti3O5层、第三层SiO2层、第四层Ti3O5层、第五层SiO2层、第六层Ti3O5层、第七层SiO2层、第八层Ti3O5层、第九层MgF2层和第十层SiO2层的物理厚度依次为211.29、9.29、51.19、26.1、21.64、133.7、25.53、21.07、85.51和20nm。3.用于制备权利要求1或2所述可见及近红外光波段减反射膜的可见及近红外光波段减反射膜制造方法，其特征在于，包括以下步骤：1)、使用离子束辅助沉积真空镀膜技术在基板上依次镀制第一层SiO2层、第二层Ti3O5层、第三层SiO2层、第四层Ti3O5层、第五层SiO2层、第六层Ti3O5层、第七层SiO2层和第八层Ti3O5层；2)、再使用不通氧气的离子束辅助沉积真空镀膜技术镀制第九层MgF2层；3)、使用离子束辅助沉积真空镀膜技术镀制第十层SiO2层。4.根据权利要求3所述的可见及近红外光波段减反射膜制造方法，其特征在于：镀制第一层SiO2层：控制沉积速率0.8nm/s、离子源电压900V、离子源电流900mA、离子源氧气50SCCM、离子源氩气8SCCM；镀制第二层Ti3O5层：控制沉积速率0.2nm/s、离子源电压1200V、离子源电流1100mA、离子源氧气70SCCM、离子源氩气15SCCM；镀制第三层SiO2层：控制...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘盛浦，郭兴忠，吴兰，
申请(专利权)人：浙江博达光电有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33