表面带有镀层的贵金属制品及其制备方法技术

本发明专利技术涉及贵金属表面镀层领域，公开了一种表面带有镀层的贵金属制品及其制备方法；其中，该贵金属制品包括：贵金属基体和附着在所述贵金属基体上的透明膜层，所述贵金属为黄金或银。该贵金属制品表面所形成的透明膜层能够使所形成的膜层更加稳定，增加耐磨性，且能够使贵金属制品的色彩更持久不褪色。

【技术实现步骤摘要】
表面带有镀层的贵金属制品及其制备方法
本专利技术涉及贵金属表面镀层领域，具体涉及一种表面带有镀层的贵金属制品及其制备方法。
技术介绍
黄金制品颜色鲜亮，稳定性好，通常作为首饰，广受消费者欢迎。目前黄金制品的生产工艺主要包括铸蜡、倒模、表面修边整形处理。为了提高黄金制品表面的光泽度，通常采用电镀的方法对黄金制品的表面进行处理。CN106521594A公开了一种K金加工成黄金本色的制造方法及其设备，预先制备首饰半成品；对首饰半成品进行电镀加工，使其外部的颜色还原为黄金的本色；对电镀后的首饰半成品进行表面处理，形成首饰成品。但采用电镀的方法在黄金制品表面镀膜时，黄金制品表面的膜层不稳定，容易剥离脱落。CN107675136A公开了一种工件表面物理气相沉积(PVD)镀膜的方法，待镀工件放入镀膜室抽真空、加热，之后通氩气、对待镀工件进行离子轰击处理，再通入工作气体，对待镀工件施加偏压，在待镀工件上沉积相应材料的镀层。CN105803412A公开了空速管表面的PVD镀层及其制备方法，其在抛光后的空速管基体表面上，使用物理气相沉积法镀单一金属镀层。以上方法采用PVD方法在工件表面镀膜，提高镀膜与待镀工件的结合能力。但目前，PVD仅适用于在硬度较高的材质表面镀膜，在硬度较低(比如摩氏硬度为2-3)的材质表面镀膜时，膜层与基材之间的结合力仍较弱。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有技术存在的在贵金属表面上镀层不稳定以及镀层光泽度低的问题，提供一种表面带有镀层的贵金属制品及其制备方法，采用该方法可在贵金属制品表面形成透明膜层，所形成的透明膜层结构稳定，增加耐磨性，且能够使贵金属制品的色彩更持久不褪色。为了实现上述目的，本专利技术第一方面提供了一种贵金属制品，其中，该贵金属制品包括：贵金属基体和附着在所述贵金属基体上的透明膜层，所述贵金属为黄金或银。本专利技术第二方面提供了前述所述的贵金属制品的制备方法，其中，该方法包括：在贵金属基体的表面上沉积透明膜层。通过上述技术方案，优选预先对贵金属基体做表面处理，改善贵金属基体表面的粗糙度，然后，采用PVD更容易在贵金属基体表面镀膜形成透明膜层，能够使所形成的膜层更加稳定，增加耐磨性，且能够使贵金属制品的色彩更持久不褪色。附图说明图1是本专利技术的实施例1制备的一种贵金属制品的结构示意图。附图标记说明1、贵金属基体12、透明膜层2具体实施方式在本文中所披露的范围的端点和任何值都不限于该精确的范围或值，这些范围或值应当理解为包含接近这些范围或值的值。对于数值范围来说，各个范围的端点值之间、各个范围的端点值和单独的点值之间，以及单独的点值之间可以彼此组合而得到一个或多个新的数值范围，这些数值范围应被视为在本文中具体公开。本专利技术第一方面提供了一种贵金属制品，其中，如图1所示，该贵金属制品包括：贵金属基体1和附着在所述贵金属基体1上的透明膜层2(优选由贵金属基体1和附着在所述贵金属基体1上的透明膜层2组成)，所述贵金属为黄金或银。根据本专利技术，所述贵金属基体1中贵金属的含量可以为33-99.99重量％，优选为99-99.99重量％；例如，在本专利技术中，所述贵金属基体1可以是K金，也可以是足金。其中，所述K金是指金与银、锌、铜、钯或镍混合熔炼形成的贵金属基体1；所述足金是指贵金属基体1中，金的含量不少于99重量％；在本专利技术中，所述足金包括3D硬金。根据本专利技术，所述银中银的含量为92.5-99重量％。根据本专利技术，所述贵金属基体1的表面粗糙度为0.001-50μm，优选为0.005-0.1μm；在本专利技术中，所述表面粗糙度为Ra，即加工表面具有的较小间距和微小峰谷的不平度，可采用表面粗糙度测量仪直接测试。在本专利技术中，若贵金属基体1原料本身满足上述表面粗糙度的限定，直接进行后续步骤即可。若贵金属基体1原料不满足上述表面粗糙度的限定，可以采用化学或者机械的方法对贵金属基体1进行处理，该方法没有特别的限制，只要能够满足以上粗糙度即可。在本专利技术中，贵金属基体1的表面粗糙度满足以上条件，更容易在贵金属基体的表面镀膜。若表面粗糙度太低，膜层与贵金属基体的结合牢固性下降；若表面粗糙度太大，影响最终贵金属制品的色泽度。根据本专利技术，所述透明膜层2的厚度可以为0.0001-10μm(如0.0001μm、0.0002μm、0.001μm、0.006μm、0.01μm、0.09μm、0.1μm、0.2μm、1μm、10μm或上述数值之间的任意值)，优选为0.0005-0.1μm，更优选为0.005-0.1μm；在本专利技术中，优选情况下，所述透明膜层2的材质可以为氟化物；例如，所述氟化物可以为AF药丸；在本专利技术中，AF药丸可以通过商购获得，例如，AF药丸可以购自厂家惠州膜美特电子技术有限公司，型号为TS-2AB。在本专利技术中，将所述透明膜层2的材质的厚度和材质上述所限定的范围中，一是能够使所形成的膜层防止氧化，使其更加稳定，另一是增加耐磨性，且能够使形成的色彩更持久不褪色。在本专利技术中，尤其是当所形成的膜层为玫瑰金色时，由于所采用的靶材含有铜，易于氧化，所以，在其上涂敷AF膜能够防止氧化，起到保护作用。在本专利技术中，采用60度的角度测光泽度，所述贵金属制品1的光泽度可以为880-950Gu，优选为880-900Gu。在本专利技术中，Gu是英文光泽单位的意思，1光泽单位＝1Gu。本专利技术第二方面提供了前述所述的贵金属制品的制备方法，其中，该方法包括：采用物理气相沉积在贵金属基体1的表面上沉积透明膜层2。根据本专利技术，所述物理气相沉积的方式为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜或真空离子镀膜。优选地，所述物理气相沉积的方式为真空离子镀膜。根据本专利技术，如采用真空蒸发镀膜，所述真空蒸发镀膜的方式包括：开启蒸发源电流，蒸发氟化物，形成透明膜层2。优选地，所述真空蒸发镀膜的方式包括：在蒸发源电流为700-750A的条件下蒸发170-190s；再在蒸发源电流为750-800A的条件下蒸发170-190s；然后在蒸发源电流为800-900A的条件下蒸发410-430s。另外，在常温下进行该真空蒸发镀膜，真空度为3×10-1Pa至6×10-1Pa，氩气流量为50-60sccm，氧气流量为70-80sccm，加载偏压为30-40V，占空比为30-40％，时间为20-30min；靶材为铝靶、硅靶，当选用铝靶时，电流为2-3A，当选用硅靶时，电流为2-3A。在本专利技术中，利用真空蒸发镀膜的原理，即，将固体材料置于真空室内，在真空条件下，将固体材料加热蒸发，蒸发出来的原子或分子能自由地弥布到容器的器壁上；在本专利技术中，当把贵金属基体1放在其中时，蒸发出来的原子或分子就会吸附在该贵金属基体1上逐渐形成一层薄膜。在本专利技术中，采用真空蒸发镀膜的方法，在真空中把氟化物加热蒸发，使其淀积在金属基体1的表面上。根据本专利技术，若采用真空离子镀膜，所述真空离子镀膜的步骤包括：将所述贵金属基体1在真空条件下进行加热，启动金属靶，并注入气体，加载偏压，在所述贵金属基体1的表面进行镀膜；其中，在真空度为1×10-2Pa至9.5×10-3Pa的真空条件下，加热温度为50-260℃，温度会有影响镀层与贵金属基体1的结合力和颜色，特别是在生产玫瑰金色的时候，一般炉内加热温度为100-250℃，优选为200℃。其本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种贵金属制品，其特征在于，该贵金属制品包括：贵金属基体(1)和附着在所述贵金属基体(1)上的透明膜层(2)，所述贵金属为黄金或银。

【技术特征摘要】
1.一种贵金属制品，其特征在于，该贵金属制品包括：贵金属基体(1)和附着在所述贵金属基体(1)上的透明膜层(2)，所述贵金属为黄金或银。2.根据权利要求1所述的贵金属制品，其中，所述黄金中黄金的含量为33-99.99重量％，优选为99-99.99重量％；所述银中银的含量为92.5-99重量％；优选地，所述贵金属基体(1)的表面粗糙度为0.001-50μm，优选为0.005-0.1μm。3.根据权利要求1所述的贵金属制品，其中，所述透明膜层(2)的厚度为0.0001-10μm，优选为0.0005-0.1μm；优选地，所述透明膜层(2)的材质为氟化物；优选地，所述氟化物为AF药丸。4.权利要求1-3中任意一项所述的贵金属制品的制备方法，其特征在于，该方法包括：采用物理气相沉积在贵金属基体(1)的表面上沉积透明膜层(2)。5.根据权利要求4所述的方法，其中，该方法还包括在贵金属基体(1)的表面上沉积透明膜层(2)之前先进行炉内抽真空过程，其中，在炉内抽真空过程中的真空度为1×10-2Pa至7×10-3Pa。6.根据权利要求4所述的方法，其中，所述物理气相沉积...

【专利技术属性】
技术研发人员：王彤，唐双喜，
申请(专利权)人：深圳市联合蓝海科技开发有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44