一种无光釉料及其制备方法与应用技术

本发明专利技术公开了一种无光釉料及其制备方法与应用，无光釉料由如下重量份数的原料制备而成：氧化铝8‑15份、硼酸5‑11份、钾长石24‑29份、钠长石9‑14份、白云石24‑30份、碳酸钡5‑10份、锂瓷石20‑38份、氟化钙3‑8份。本发明专利技术通过对无光釉料配方的改进，可以在不影响防污性能及质感的情况下，提高表面釉料的施釉量，保障柔光瓷砖经过抛光处理后，容易达到12度以下光泽度，在灯光照射下，肉眼看去，基本实现无反光效果。另外，本无光釉料使用纯干粒，生产过程中，产气少且排气较好，表面少毛孔残留，因此防污效果好。

【技术实现步骤摘要】
一种无光釉料及其制备方法与应用
本专利技术涉及一种陶瓷釉料配方与工艺技术，尤其涉及一种无光釉料及其制备方法与应用。
技术介绍
目前，时下比较流行的家用瓷砖尤其是地砖，都是反光度很高的抛釉砖，白天阳光比较好，或者晚上开灯的时候，由于瓷砖光泽度较高，使室内存在较强的光污染问题。因此，为了减少光污染的问题，人们专利技术了柔光瓷砖。但常见非仿古砖类的柔光砖，一般其光泽度只能达到30-40度左右，依旧存在一定的光污染问题，且在保证瓷砖质感以及防污性能的情况下难以进一步降低其光泽度。如强行对其进行抛光处理，达到12度以下的光泽度，则防污能力将会受到极大影响，容易藏污纳垢且瓷砖的质感以及耐磨性也无法保障。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，本专利技术的目的之一在于提供一种无光釉料。本专利技术通过对釉料无光釉料配方的改进，可以在不影响防污性能及质感的情况下，提高表面釉料的施釉量，保障柔光瓷砖经过抛光处理后，容易达到12度以下光泽度，在灯光照射下，肉眼看去，基本实现无反光效果。另外，本无光釉料使用纯干粒，生产过程中，产气少且排气较好，表面少毛孔残留，因此防污效果好。本专利技术的目的之二在于提供一种无光釉料的制备方法。本专利技术的目的之三在于提供一种无光砖的制备方法。本专利技术的目的之一采用如下技术方案实现：一种无光釉料，由如下重量份数的原料制备而成：氧化铝8-15份、硼酸5-11份、钾长石24-29份、钠长石9-14份、白云石24-30份、碳酸钡5-10份、锂瓷石20-38份、氟化钙3-8份。本专利技术的目的之二采用如下技术方案实现：一种无光釉料的制备方法，包括如下步骤：配料混合的步骤：称取配方量的氧化铝、硼酸、钾长石、钠长石、白云石、碳酸钡、锂瓷石、氟化钙，混合在一起；熔制的步骤：将上述混合原料输送至熔炉内，熔化成玻璃液；水淬的步骤：将玻璃液流入水槽内，水淬冷却成颗粒料熔块；烘干的步骤；水淬后的熔块用烘干设备烘干；破碎的步骤：熔块烘干后破碎过筛，即得无光釉料干粒。进一步地，在熔制的步骤中，所述熔炉的温度为1480-1580℃。进一步地，在水淬的步骤中，所述颗粒料熔块的粒径为1.5-3.5mm。进一步地，在烘干的步骤中，所述无光釉料干粒由如下质量百分数计的组分组成：氧化铝13.5-19.5％、二氧化硅45-55％、氧化钙8-16％、氧化镁3-6％、氧化钾1.5-3％、氧化钠0.5-2％、氧化硼3-6％、氧化锂0.3-0.6％、氟2.5-4％，上述组分的质量百分数之和为100％。进一步地，所述无光釉料干粒由如下质量百分数计的组分组成：氧化铝16.5％、二氧化硅50％、氧化钙12％、氧化镁4.5％、氧化钾2.5％、氧化钠1.5％、氧化硼4.5％、氧化锂0.45％、氟3.5％，上述组分的质量百分数之和为100％。本专利技术的目的之三采用如下技术方案实现：一种无光砖的制备方法，包括如下步骤：原料预处理的步骤：选取底坯材料，备料进仓均化，球磨，制浆，出浆除铁，陈腐1-2天，喷雾造粒，陈腐1-2天，即得底坯粉料；压制成型的步骤：将粉料置于压机内进行压制，得到底坯；干燥的步骤：经压制后的底坯输送至干燥设备中进行干燥处理；淋面釉的步骤：经干燥后的底坯表面进行淋面釉的处理；喷墨印花的步骤：在淋面釉的上表面以喷墨机喷墨或丝网印刷或滚筒印刷的方式进行装饰；施保护釉料的步骤：用印花机或高压喷枪施保护釉料；布干粒的步骤：将无光釉料干粒施布至保护釉料的上表面，喷胶水，然后进行干燥处理；烧制成型的步骤：然后将施布干粒后的砖坯输送至窑炉内进行烧制成型，然后进行磨边抛光、分级、打包，即得无光砖。进一步地，在原料预处理的步骤中，所述底坯材料由如下质量分数计的组分组成：二氧化硅65-68％、氧化铝18-22％、三氧化二铁0.3-0.7％、二氧化钛0.2-0.4％、氧化钙0.1-0.4％、氧化镁0.8-1.2％、氧化钾3-3.5％、氧化钠1.8-2.2％、烧失量3-6％，上述组分的质量百分数之和为100％。进一步地，在布干粒的步骤中，所述无光釉料干粒的施重范围1.5-2.4kg/m2，釉层厚度为0.6-0.9mm。进一步地，在压制成型的步骤中，所述压力为3800-4200吨；在烧制成型的步骤中，烧制的温度为1160-1200℃，烧制时间为1.0-1.5h。相比现有技术，本专利技术的有益效果在于：现有釉料砖中的施釉量为0.48-1.2kg/m2，釉料厚度为0.13-0.35mm，本专利技术通过对无光釉料配方的改进，可以在不影响防污性能及质感的情况下，提高表面釉料的施釉量，施釉量高达1.5-2.4kg/m2，釉层厚度为0.6-0.9mm；保障柔光瓷砖经过抛光处理后，容易达到12度以下光泽度，在灯光照射下，肉眼看去，基本实现无反光效果。另外，本无光釉料使用纯干粒，生产过程中，产气少且排气较好，表面少毛孔残留，因此防污效果好。附图说明图1为现有技术中微晶砖的感光效果图；图2为现有技术中抛釉砖的感光效果图；图3为现有技术中柔光砖的感光效果图；图4为本专利技术实施例5中无光砖的感光效果图。具体实施方式在本专利技术中，若非特指，所有的份、百分比均为重量单位，所采用的设备和原料等均可从市场购得或是本领域常用的。下述实施例中的方法，如无特别说明，均为本领域的常规方法。本专利技术的目的之一采用如下技术方案实现：一种无光釉料，由如下重量份数的原料制备而成：氧化铝8-15份、硼酸5-11份、钾长石24-29份、钠长石9-14份、白云石24-30份、碳酸钡5-10份、锂瓷石20-38份、氟化钙3-8份。本专利技术的目的之二采用如下技术方案实现：一种无光釉料的制备方法，包括如下步骤：配料混合的步骤：称取配方量的氧化铝、硼酸、钾长石、钠长石、白云石、碳酸钡、锂瓷石、氟化钙，混合在一起；熔制的步骤：将上述混合原料输送至熔炉内，熔化成玻璃液；水淬的步骤：将玻璃液流入水槽内，水淬冷却成颗粒料熔块；烘干的步骤；水淬后的熔块用烘干设备烘干；破碎的步骤：熔块烘干后破碎过筛，即得无光釉料干粒。作为进一步优选方案，在熔制的步骤中，所述熔炉的温度为1480-1580℃。作为进一步优选方案，在水淬的步骤中，所述颗粒料的粒径为1.5-3.5mm。作为进一步优选方案，在烘干的步骤中，所述无光釉料干粒由如下质量百分数计的组分组成：氧化铝13.5-19.5％、二氧化硅45-55％、氧化钙8-16％、氧化镁3-6％、氧化钾1.5-3％、氧化钠0.5-2％、氧化硼3-6％、氧化锂0.3-0.6％、氟2.5-4％，上述组分的质量百分数之和为100％。作为最优选方案，所述无光釉料干粒由如下质量百分数计的组分组成：氧化铝16.5％、二氧化硅50％、氧化钙12％、氧化镁4.5％、氧化钾2.5％、氧化钠1.5％、氧化硼4.5％、氧化锂0.45％、氟3.5％，上述组分的质量百分数之和为100％。本专利技术通过对无光釉料配方的改进，可以在不影响防污性能及质感的情况下，提高表面釉料的施釉量，保障柔光瓷砖经过抛光处理后，容易达到12度以下光泽度，在灯光照射下，肉眼看去，基本实现无反光效果。另外，本无光釉料使用纯干粒，生产过程中，产气少且排气较好，表面少毛孔残留，因此防污效果好。本专利技术实现无光效果和防污效果好的原因在于：一方面，通过提高无光釉料配方的起熔点，主要提高硅含量和铝含量，特别是本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种无光釉料，其特征在于，由如下重量份数的原料制备而成：氧化铝8‑15份、硼酸5‑11份、钾长石24‑29份、钠长石9‑14份、白云石24‑30份、碳酸钡5‑10份、锂瓷石20‑38份、氟化钙3‑8份。

【技术特征摘要】
1.一种无光釉料，其特征在于，由如下重量份数的原料制备而成：氧化铝8-15份、硼酸5-11份、钾长石24-29份、钠长石9-14份、白云石24-30份、碳酸钡5-10份、锂瓷石20-38份、氟化钙3-8份。2.一种无光釉料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：配料混合的步骤：称取配方量的氧化铝、硼酸、钾长石、钠长石、白云石、碳酸钡、锂瓷石、氟化钙，混合在一起；熔制的步骤：将上述混合原料输送至熔炉内，熔化成玻璃液；水淬的步骤：将玻璃液流入水槽内，水淬冷却成颗粒料熔块；烘干的步骤；水淬后的熔块用烘干设备烘干；破碎的步骤：熔块烘干后破碎过筛，即得无光釉料干粒。3.如权利要求2所述的无光釉料，其特征在于，在熔制的步骤中，所述熔炉的温度为1480-1580℃。4.如权利要求2所述的无光釉料，其特征在于，在水淬的步骤中，所述颗粒料熔块的粒径为1.5-3.5mm。5.如权利要求2所述的无光釉料，其特征在于，在烘干的步骤中，所述无光釉料干粒由如下质量百分数计的组分组成：氧化铝13.5-19.5％、二氧化硅45-55％、氧化钙8-16％、氧化镁3-6％、氧化钾1.5-3％、氧化钠0.5-2％、氧化硼3-6％、氧化锂0.3-0.6％、氟2.5-4％，上述组分的质量百分数之和为100％。6.如权利要求5所述的无光釉料，其特征在于，所述无光釉料干粒由如下质量百分数计的组分组成：氧化铝16.5％、二氧化硅50％、氧化钙12％、氧化镁4.5％、氧化钾2.5％、氧化钠1.5％、氧化硼4.5％、氧化锂0.45％、氟3.5％，上述组分的质量百...

【专利技术属性】
技术研发人员：范国雄，
申请(专利权)人：佛山市登羽科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44