一种网纹瓷砖及其制备方法技术

本发明专利技术涉及瓷砖的技术领域，具体公开了一种网纹瓷砖及其制备方法，网纹瓷砖从下到上依次包括：坯底、底釉层、透光釉层、图案层和干粒釉层；其中，底釉层用于提高瓷砖的白度，透光釉可以加强砖面效果，提高质感以及实现透光效果；干粒釉层在烧成后能产生特有的自然纹路，然后形成凸起的立体纹路，从而使得瓷砖的摩擦系数、硬度和耐磨度均有所提升。本发明专利技术的瓷砖产品之所以能得到该凸起纹路的原理为：透光釉的熔点低于干粒釉，烧成的时候透光釉先融化，把外层的干粒釉层撑裂，达到透光釉的融化温度时，透光釉从被撑裂的干粒釉层缝隙中涌出，而干粒釉则由于重力作用塌陷，所以透光釉的表面形成了自然凸起纹路。形成了自然凸起纹路。形成了自然凸起纹路。

【技术实现步骤摘要】
一种网纹瓷砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及瓷砖的
，具体涉及一种网纹瓷砖及其制备方法。

技术介绍

[0002]平面瓷砖大多数是通过模具来制备网纹效果，但是网纹图案是平面的，而且图案更生硬，而且开模成本高。而且正是由于过于追求装饰的整体视觉效果，而导致大多数平面网纹瓷砖因过于光滑而带来了重大安全隐患问题。常见提高地砖防滑性能的操作是：使用模具或在后续加工在产品表面制造成凹凸槽或条纹的瓷砖产品，但是这类瓷砖的纹路还需要后期打磨或需要开模，人工成本和费用成本较高。

技术实现思路

[0003]为了克服现有技术的不足，本专利技术的目的之一在于提供一种网纹瓷砖，采用熔点低的透光釉层和熔点相对较高的干粒釉层组合，烧成后得到具有网纹凸起、硬度高和耐磨度高的网纹瓷砖；本专利技术的目的之二在于提供一种网纹瓷砖的制备方法，无需开模，制备步骤简单，适用于大规模生产。
[0004]本专利技术的目的之一采用如下技术方案实现：一种网纹瓷砖，从下到上依次包括：坯底、底釉层、透光釉层、图案层和干粒釉层；其中，透光釉层所用的釉料包括以下按重量百分比计的成分：三氧化二铝15~25%、二氧化硅30~70%、氧化钠2~6%、氧化钾4~8%、氧化钙3~7%、氧化镁1~5%、三氧化二硼1~5%和灼烧减量2~10%；干粒釉层所用的干粒釉是由第一干粒釉组合物和第二干粒釉组合物混合而成；其中，第一干粒釉组合物的熔点低于第二干粒釉组合物的熔点。透光釉层的熔点低于干粒釉层。
[0005]具体地，所述第一干粒釉组合物包括以下按重量百分比计的成分：二氧化硅50~70%、三氧化二铝5~7%、氧化钙5~15%、氧化镁1~3%、氧化钡2~5%、氧化锌5~10%、氧化钾2~5%和氧化钠0.2~0.8%；所述第二干粒釉组合物包括以下按重量百分比计的成分：二氧化硅40~50%、三氧化二铝20~30%、氧化钙5~10%、氧化镁8~15%、氧化钾2~5%和氧化钠1~2%。
[0006]再进一步，所述第一干粒釉组合物的熔点为900~940℃，所述第二干粒釉组合物的熔点为1100~1150℃。
[0007]进一步，所述透光釉层的熔点为880~920℃，所述干粒釉层的熔点与所述透光釉层熔点相差100~300℃。
[0008]进一步，所述底釉层所用的釉料包括以下按重量百分计的成分：三氧化二铝25~35%、二氧化硅30~70%、氧化钠3~7%、氧化钾4~8%和灼烧减量2~10%。
[0009]进一步，所述底釉层的施釉量占总量的30~40%；所述透光釉层的施釉量占总量的30~40%。其中，施釉量总量=底釉+透光釉+干粒釉。
[0010]本专利技术的目的之二采用如下技术方案实现：上述的网纹瓷砖的制备方法，包括以下步骤：1）准备各层的釉料，分别得到底釉、透光釉和干粒釉；
2）压制坯底层，并干燥；3）在坯底层上施底釉，得到底釉层；4）在底釉层上施透光釉，得到透光釉层；5）在透光釉层上喷墨印刷图案，得到图案层；6）在图案层上施干粒釉，得到干粒釉层；7）进入窑炉中进行烧成定型，抛光后，得到网纹瓷砖。
[0011]进一步，所述干粒釉的制备方法，包括以下步骤：先将第一干粒釉组合物和第二干粒釉组合物混合，加入悬浮剂混合，得到干粒釉。
[0012]进一步，所述底釉加水稀释至流速杯数据为30~35s，比重杯数据为1.86~1.90；所述透光釉加水稀释至流速杯数据为30~35s，比重杯数据为1.78~1.83。
[0013]进一步，步骤2）中，干燥的温度为150~200℃，时间为30~60min。
[0014]进一步，步骤7）中，烧成定型的步骤为：先升温至500~600℃下预热，再升温至1100~1200℃烧成15~20分钟，最后降温至500~600℃进行冷却，总烧成定型时间为50~55分钟。
[0015]相比现有技术，本专利技术的有益效果在于：本专利技术的网纹瓷砖从下到上依次包括：坯底、底釉层、透光釉层、图案层和干粒釉层；其中，底釉层用于提高瓷砖的白度，透光釉可以加强砖面效果，提高质感以及实现透光效果；干粒釉层在烧成后能产生特有的自然纹路，然后形成凸起的立体纹路，从而使得瓷砖的摩擦系数、硬度和耐磨度均有所提升。本专利技术的瓷砖产品之所以能得到该凸起纹路的原理为：透光釉的熔点低于干粒釉，烧成的时候透光釉先融化，把外层的干粒釉层撑裂，达到透光釉的融化温度时，透光釉从被撑裂的干粒釉层缝隙中涌出，而干粒釉则由于重力作用塌陷，所以透光釉在干粒釉层的表面形成了自然凸起纹路。
[0016]具体地，本专利技术的干粒釉是由第一干粒釉组合物和第二干粒釉组合物混合而成；其中，第一干粒釉组合物的熔点低于第二干粒釉组合物的熔点。在后续不超过1200℃的烧成温度下，第一干粒釉组合物也会进行熔化，熔化后的第一干粒组合物的所处的位置会作为透光釉层熔融涌出的突破口，而第二干粒釉组合物的外表面也会达到始熔点，外表面始熔的第二干粒釉组合物会生成更加坚硬耐磨的物质，进而使得熔融后的透光釉层在上述突破口涌出而形成自然凸起纹路。
[0017]（2）本专利技术的网纹瓷砖的制备方法，无需利用模具形成凸起纹路，也无需开槽来提高防滑效果，具体是利用透光釉和干粒釉的熔点不同，在不超过1200℃下进行烧成，透光釉先融化，把外层的干粒釉层撑开，在透光釉的融化温度时，透光釉从被撑开的干粒釉层中的缝隙中涌出，而干粒釉则由于重力作用塌陷，所以在干粒釉层的表面形成了自然凸起纹路，以该方法形成的纹路更加自然，有效降低制作成本，步骤简单，适合大规模生产。
附图说明
[0018]图1为本专利技术的网纹瓷砖结构示意图；图2为实施例1的网纹瓷砖的实物图；图3为对比例1的网纹瓷砖的实物图；图4为对比例2的网纹瓷砖的实物图；图中：1、坯底；2、底釉层；3、透光釉层；4、图案层；5、干粒釉层。
具体实施方式
[0019]下面，结合附图以及具体实施方式，对本专利技术做进一步描述，需要说明的是，在不相冲突的前提下，以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。
[0020]实施例1如图1所示，一种网纹瓷砖，从下到上依次包括：坯底1、底釉层2、透光釉层3、图案层4和干粒釉层5；其中，透光釉层3所用的釉料包括以下按重量百分比计的成分：三氧化二铝22%、二氧化硅51%、氧化钠5%、氧化钾6%、氧化钙5%、氧化镁3%、三氧化二硼4%和灼烧减量4%；所述底釉层2所用的釉料包括以下按重量百分计的成分：三氧化二铝32%、二氧化硅51%、氧化钠5%、氧化钾5%和灼烧减量7%。干粒釉层所用的干粒釉是由第一干粒釉组合物和第二干粒釉组合物混合而成；其中，第一干粒釉组合物的熔点低于第二干粒釉组合物的熔点。第一干粒釉组合物的熔点为920℃，第二干粒釉组合物的熔点为1155℃，透光釉层3的熔点为950℃。
[0021]具体地，所述第一干粒釉组合物包括以下按重量百分比计的成分：二氧化硅60%、三氧化二铝6%、氧化钙10%、氧化镁2%、氧化钡3%、氧化锌9%、氧化钾4%和氧化钠0.5%，灼烧减量为5.本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种网纹瓷砖，其特征在于，从下到上依次包括：坯底、底釉层、透光釉层、图案层和干粒釉层；其中，透光釉层所用的釉料包括以下按重量百分比计的成分：三氧化二铝15~25%、二氧化硅30~70%、氧化钠2~6%、氧化钾4~8%、氧化钙3~7%、氧化镁1~5%、三氧化二硼1~5%和灼烧减量2~10%；干粒釉层所用的干粒釉是由第一干粒釉组合物和第二干粒釉组合物混合而成；其中，第一干粒釉组合物的熔点低于第二干粒釉组合物的熔点；其中，透光釉层的熔点低于干粒釉层。2.如权利要求1所述的网纹瓷砖，其特征在于，所述底釉层所用的釉料包括以下按重量百分计的成分：三氧化二铝25~35%、二氧化硅30~70%、氧化钠3~7%、氧化钾4~8%和灼烧减量2~10%。3.如权利要求1所述的网纹瓷砖，其特征在于，所述第一干粒釉组合物的熔点为900~940℃，所述第二干粒釉组合物的熔点为1100~1150℃。4.如权利要求3所述的网纹瓷砖，其特征在于，所述第一干粒釉组合物包括以下按重量百分比计的成分：二氧化硅50~70%、三氧化二铝5~7%、氧化钙5~15%、氧化镁1~3%、氧化钡2~5%、氧化锌5~10%、氧化钾2~5%和氧化钠0.2~0.8%。5.如权利要求3所述的网纹瓷砖，其特征在于，所述第二干粒釉组合物包括以下按重量百分比计的成分：二氧化硅...

【专利技术属性】
技术研发人员：范国雄，
申请(专利权)人：佛山市登羽科技有限公司，
类型：发明
国别省市：