一种真空吸附载台制造技术

本发明专利技术公开了一种真空吸附载台，涉及载台技术领域，可解决现有真空吸附载台因真空通入管的数量较多而导致结构过于复杂的问题以及因需要分别控制每个真空通入管上的阀门开闭而导致操作极不方便的问题。该真空吸附载台包括本体，本体的上表面设有多个第一吸附结构，本体内设有第一滑动通道，多个第一吸附结构与第一滑动通道延伸方向的不同位置连通，第一滑动通道内配合设置有第一滑动结构，第一滑动结构在第一滑动通道中分隔出密闭的第一通道段，第一通道段连接有第一真空通入管，第一滑动结构可沿第一滑动通道滑动，随着第一滑动结构的滑动，第一通道段可与每个第一吸附结构均连通。本发明专利技术用于承载物品。

【技术实现步骤摘要】
一种真空吸附载台
本专利技术涉及载台
，尤其涉及一种真空吸附载台。
技术介绍
显示面板等一些物品在制造过程中需要放置在真空吸附载台上吸附住，然后才能进行加工。现有真空吸附载台如图1所示，包括本体01，本体01的上表面设有多个吸附结构02，多个吸附结构02分别连接有真空通入管(图中未示出)，控制每个真空通入管上的阀门开闭即可控制相应的吸附结构02是否吸附。然而，该真空吸附载台由于多个吸附结构02分别连接有真空通入管，因此真空通入管的数量较多，导致真空吸附载台的结构过于复杂；另外，该真空吸附载台在吸附显示面板等物品时因需要分别控制每个真空通入管上的阀门开闭，导致操作极不方便。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种真空吸附载台，可解决现有真空吸附载台因真空通入管的数量较多而导致结构过于复杂的问题以及因需要分别控制每个真空通入管上的阀门开闭而导致操作极不方便的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：一种真空吸附载台，包括本体，所述本体的上表面设有多个第一吸附结构，所述本体内设有第一滑动通道，多个所述第一吸附结构与所述第一滑动通道延伸方向的不同位置连通，所述第一滑动通道内配合设置有第一滑动结构，所述第一滑动结构在所述第一滑动通道中分隔出密闭的第一通道段，所述第一通道段连接有第一真空通入管，所述第一滑动结构可沿所述第一滑动通道滑动，随着所述第一滑动结构的滑动，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构均连通。可选的，每个所述第一吸附结构均包括两个吸附部，每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均与所述第一滑动通道中间截面两侧的对称位置连通；所述第一滑动结构包括两个滑动部，两个所述滑动部分别位于所述第一滑动通道中间截面两侧的对称位置，两个所述滑动部中间为所述第一通道段，两个所述滑动部可互相远离或互相靠近，随着两个所述滑动部的互相远离，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均同时连通，随着两个所述滑动部的互相靠近，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均同时断开。可选的，每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均相对于所述第一滑动通道的中间截面对称，所有所述吸附部沿所述第一滑动通道的延伸方向排列。可选的，每个所述吸附部的吸附范围均与所述第一滑动通道的延伸方向垂直，由所述第一滑动通道的中间至两端，各个所述吸附部的吸附范围依次增大，所有所述吸附部吸附范围的一端平齐。可选的，所述第一滑动通道位于所有所述吸附部吸附范围平齐的一端，所述本体的上表面对应每个所述第一吸附结构远离所述第一滑动通道的一端均设有第二吸附结构；所述本体内还设有第二滑动通道，多个所述第二吸附结构与所述第二滑动通道延伸方向的不同位置连通，所述第二滑动通道内配合设置有第二滑动结构，所述第二滑动结构在所述第二滑动通道中分隔出密闭的第二通道段，所述第二通道段连接有第二真空通入管，所述第二滑动结构可沿所述第二滑动通道滑动，随着所述第二滑动结构的滑动，所述第二通道段可与多个所述第二吸附结构由最靠近所述第一滑动通道的所述第二吸附结构到最远离所述第一滑动通道的所述第二吸附结构依次连通。可选的，每个所述第二吸附结构沿所述第一滑动通道延伸方向的吸附范围均与相应的所述第一吸附结构的两个所述吸附部之间的距离相等，且每个所述第二吸附结构均相对于所述第一滑动通道的中间截面对称。可选的，所述第一滑动通道内沿其延伸方向设有双向螺杆，所述第一滑动通道内的两个所述滑动部与所述双向螺杆的两组螺纹一一对应配合连接，所述第二滑动结构包括一个滑动部，所述第二滑动通道内沿其延伸方向设有单向螺杆，所述第二滑动通道内的所述滑动部与所述单向螺杆配合连接，所述第一滑动通道和所述第二滑动通道的截面均为非圆形。可选的，所述第一滑动通道和所述第二滑动通道的截面均为椭圆形。可选的，所述双向螺杆和所述单向螺杆分别连接有伺服电机。可选的，所述第一滑动通道和所述第二滑动通道内均设有检测装置，两个所述检测装置和两个所述伺服电机均与控制器连接，当所述检测装置检测到相应滑动通道内的所述滑动部滑动到极限位置时，所述控制器控制相应滑动通道内的所述伺服电机关闭。本专利技术实施例提供的真空吸附载台，由于包括本体，所述本体的上表面设有多个第一吸附结构，所述本体内设有第一滑动通道，多个所述第一吸附结构与所述第一滑动通道延伸方向的不同位置连通，所述第一滑动通道内配合设置有第一滑动结构，所述第一滑动结构在所述第一滑动通道中分隔出密闭的第一通道段，所述第一通道段连接有第一真空通入管，以为所述第一通道段内通入真空，所述第一滑动结构可沿所述第一滑动通道滑动，随着所述第一滑动结构的滑动，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构均连通，从而使第一通道段内的真空可以通入到每个第一吸附结构中，因此在吸附显示面板等物品时只需控制第一滑动结构沿第一滑动通道滑动，即可控制每个第一吸附结构是否吸附，从而相比现有技术操作更方便；另外，由于只需在第一通道段上连接一个真空通入管，因此相比现有技术结构更简单。附图说明图1为现有技术中真空吸附载台的俯视图；图2为本专利技术实施例真空吸附载台的立体图；图3为本专利技术实施例真空吸附载台的爆炸图；图4为本专利技术实施例真空吸附载台的透视图；图5为本专利技术实施例真空吸附载台上的第一吸附结构的示意图；图6为图5的局部放大图；图7为本专利技术实施例真空吸附载台中第一滑动通道的示意图；图8为本专利技术实施例真空吸附载台中双向螺杆的示意图；图9为本专利技术实施例真空吸附载台中第一真空通入管的示意图；图10为本专利技术实施例真空吸附载台上的第二吸附结构的示意图；图11为图10的局部放大图；图12为本专利技术实施例真空吸附载台中第二滑动通道的示意图；图13为本专利技术实施例真空吸附载台中第二真空通入管的示意图；图14为本专利技术实施例真空吸附载台中双向螺杆连接伺服电机的示意图；图15为本专利技术实施例真空吸附载台中单向螺杆连接伺服电机的示意图；图16为本专利技术实施例真空吸附载台中滑动部上的安装槽的示意图；图17为本专利技术实施例真空吸附载台中滑动部上的密封圈的示意图；图18为本专利技术实施例真空吸附载台承载不同长宽比例的两个显示面板的示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空吸附载台，包括本体，所述本体的上表面设有多个第一吸附结构，其特征在于，所述本体内设有第一滑动通道，多个所述第一吸附结构与所述第一滑动通道延伸方向的不同位置连通，所述第一滑动通道内配合设置有第一滑动结构，所述第一滑动结构在所述第一滑动通道中分隔出密闭的第一通道段，所述第一通道段连接有第一真空通入管，所述第一滑动结构可沿所述第一滑动通道滑动，随着所述第一滑动结构的滑动，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构均连通。

【技术特征摘要】
1.一种真空吸附载台，包括本体，所述本体的上表面设有多个第一吸附结构，其特征在于，所述本体内设有第一滑动通道，多个所述第一吸附结构与所述第一滑动通道延伸方向的不同位置连通，所述第一滑动通道内配合设置有第一滑动结构，所述第一滑动结构在所述第一滑动通道中分隔出密闭的第一通道段，所述第一通道段连接有第一真空通入管，所述第一滑动结构可沿所述第一滑动通道滑动，随着所述第一滑动结构的滑动，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构均连通。2.根据权利要求1所述的真空吸附载台，其特征在于，每个所述第一吸附结构均包括两个吸附部，每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均与所述第一滑动通道中间截面两侧的对称位置连通；所述第一滑动结构包括两个滑动部，两个所述滑动部分别位于所述第一滑动通道中间截面两侧的对称位置，两个所述滑动部中间为所述第一通道段，两个所述滑动部可互相远离或互相靠近，随着两个所述滑动部的互相远离，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均同时连通，随着两个所述滑动部的互相靠近，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均同时断开。3.根据权利要求2所述的真空吸附载台，其特征在于，每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均相对于所述第一滑动通道的中间截面对称，所有所述吸附部沿所述第一滑动通道的延伸方向排列。4.根据权利要求3所述的真空吸附载台，其特征在于，每个所述吸附部的吸附范围均与所述第一滑动通道的延伸方向垂直，由所述第一滑动通道的中间至两端，各个所述吸附部的吸附范围依次增大，所有所述吸附部吸附范围的一端平齐。5.根据权利要求4所述的真空吸附载台，其特征在于，所述第一滑动通道位于所有所述吸附部吸附范围平齐的一端，所述本体的上表面对应每个所述第一吸附结构远离所述第一滑动通...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜东风，尹维贺，李召辉，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11