【技术实现步骤摘要】
一种真空吸附载台
本专利技术涉及载台
，尤其涉及一种真空吸附载台。
技术介绍
显示面板等一些物品在制造过程中需要放置在真空吸附载台上吸附住，然后才能进行加工。现有真空吸附载台如图1所示，包括本体01，本体01的上表面设有多个吸附结构02，多个吸附结构02分别连接有真空通入管(图中未示出)，控制每个真空通入管上的阀门开闭即可控制相应的吸附结构02是否吸附。然而，该真空吸附载台由于多个吸附结构02分别连接有真空通入管，因此真空通入管的数量较多，导致真空吸附载台的结构过于复杂；另外，该真空吸附载台在吸附显示面板等物品时因需要分别控制每个真空通入管上的阀门开闭，导致操作极不方便。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种真空吸附载台，可解决现有真空吸附载台因真空通入管的数量较多而导致结构过于复杂的问题以及因需要分别控制每个真空通入管上的阀门开闭而导致操作极不方便的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：一种真空吸附载台，包括本体，所述本体的上表面设有多个第一吸附结构，所述本体内设有第一滑动通道，多个所述第一吸附结构与所述第一滑动通道延伸方向的不同位置连...
【技术保护点】
1.一种真空吸附载台，包括本体，所述本体的上表面设有多个第一吸附结构，其特征在于，所述本体内设有第一滑动通道，多个所述第一吸附结构与所述第一滑动通道延伸方向的不同位置连通，所述第一滑动通道内配合设置有第一滑动结构，所述第一滑动结构在所述第一滑动通道中分隔出密闭的第一通道段，所述第一通道段连接有第一真空通入管，所述第一滑动结构可沿所述第一滑动通道滑动，随着所述第一滑动结构的滑动，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构均连通。
【技术特征摘要】
1.一种真空吸附载台，包括本体，所述本体的上表面设有多个第一吸附结构，其特征在于，所述本体内设有第一滑动通道，多个所述第一吸附结构与所述第一滑动通道延伸方向的不同位置连通，所述第一滑动通道内配合设置有第一滑动结构，所述第一滑动结构在所述第一滑动通道中分隔出密闭的第一通道段，所述第一通道段连接有第一真空通入管，所述第一滑动结构可沿所述第一滑动通道滑动，随着所述第一滑动结构的滑动，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构均连通。2.根据权利要求1所述的真空吸附载台，其特征在于，每个所述第一吸附结构均包括两个吸附部，每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均与所述第一滑动通道中间截面两侧的对称位置连通；所述第一滑动结构包括两个滑动部，两个所述滑动部分别位于所述第一滑动通道中间截面两侧的对称位置，两个所述滑动部中间为所述第一通道段，两个所述滑动部可互相远离或互相靠近，随着两个所述滑动部的互相远离，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均同时连通，随着两个所述滑动部的互相靠近，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均同时断开。3.根据权利要求2所述的真空吸附载台，其特征在于，每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均相对于所述第一滑动通道的中间截面对称，所有所述吸附部沿所述第一滑动通道的延伸方向排列。4.根据权利要求3所述的真空吸附载台，其特征在于，每个所述吸附部的吸附范围均与所述第一滑动通道的延伸方向垂直，由所述第一滑动通道的中间至两端，各个所述吸附部的吸附范围依次增大，所有所述吸附部吸附范围的一端平齐。5.根据权利要求4所述的真空吸附载台，其特征在于，所述第一滑动通道位于所有所述吸附部吸附范围平齐的一端，所述本体的上表面对应每个所述第一吸附结构远离所述第一滑动通...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜东风，尹维贺，李召辉，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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