一种电脑式涂胶烤箱制造技术

本实用新型专利技术公开了一种电脑式涂胶烤箱，包括机体，所述机体底部设有移动滚轮以及顶部设有报警器，所述机体包括控制箱，所述控制箱上设有智能化触摸屏，所述智能化触摸屏底部设有智能控温仪。本实用新型专利技术通过采用优质冷轧钢板制成的机体，采用SUS316医用专用不锈钢材料的内胆及HMDS输入管和无缝密封设置的内胆，避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害，通过设有钢化防弹双层玻璃制成的玻璃窗，便于对内胆内物体进行肉眼直接观测，硅橡胶材料制成的密封圈，确保内胆的高真空度，通过设有智能控温仪，利用温度传感器感应内胆内的温度，控制加热板的工作，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。

【技术实现步骤摘要】
一种电脑式涂胶烤箱
本技术涉及半导体领域，特别涉及一种电脑式涂胶烤箱。
技术介绍
在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。因此，专利技术一种电脑式涂胶烤箱来解决上述问题很有必要。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种电脑式涂胶烤箱，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种电脑式涂胶烤箱，包括机体，所述机体底部设有移动滚轮以及顶部设有报警器，所述机体包括控制箱，所述控制箱上设有智能化触摸屏，所述智能化触摸屏底部设有智能控温仪，所述智能控温仪底部本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电脑式涂胶烤箱，包括机体(1)，其特征在于：所述机体(1)底部设有移动滚轮(2)以及顶部设有报警器(3)，所述机体(1)包括控制箱(4)，所述控制箱(4)上设有智能化触摸屏(5)，所述智能化触摸屏(5)底部设有智能控温仪(6)，所述智能控温仪(6)底部设有短路保护器(7)，所述短路保护器(7)一侧设有PLC装置(8)，所述控制箱(4)一侧设有箱门(9)，所述箱门(9)上设有玻璃窗(10)，所述箱门(9)侧壁设有密封圈(11)，所述机体(1)内腔顶部设有内胆(12)，所述内胆(12)内壁顶部设有温度传感器(13)以及底部设有载物架(14)，所述内胆(12)一端设有氮气输入管(15)、抽真...

【技术特征摘要】
1.一种电脑式涂胶烤箱，包括机体(1)，其特征在于：所述机体(1)底部设有移动滚轮(2)以及顶部设有报警器(3)，所述机体(1)包括控制箱(4)，所述控制箱(4)上设有智能化触摸屏(5)，所述智能化触摸屏(5)底部设有智能控温仪(6)，所述智能控温仪(6)底部设有短路保护器(7)，所述短路保护器(7)一侧设有PLC装置(8)，所述控制箱(4)一侧设有箱门(9)，所述箱门(9)上设有玻璃窗(10)，所述箱门(9)侧壁设有密封圈(11)，所述机体(1)内腔顶部设有内胆(12)，所述内胆(12)内壁顶部设有温度传感器(13)以及底部设有载物架(14)，所述内胆(12)一端设有氮气输入管(15)、抽真空管(16)和HMDS输入管(17)，所述氮气输入管(15)一端设有第一电磁阀(18)以及另一端设有内丝接头(19)，所述抽真空管(16)端部设有第二电磁阀(20)，所述HMDS输入管(17)端部设有第三电磁阀(21)，所述HMDS输入管(17)顶端外壁环绕设有加热管(22)，所述内胆(12)外壁设有加热板(23)，所述内胆(12)底部设有固定杆(24)，所述机体(1)内腔底部设有真空泵(25)，所述真空泵(25)端部设有废气排放管(26)，所述真空泵(25)顶部设有HMDS液箱(27)，所述HMDS液箱(27)内腔设有液位传感器(28)，所述HMDS液箱(27)一侧设有压力泵(29)。2.根据权利要求1所述的一种电脑式涂胶烤箱，其特征在于：所述PLC装置(8)包括PLC控制器，所述报警器(3)、第一电磁阀(18)、第二电磁阀(20)、第三电磁阀(21)、...

【专利技术属性】
技术研发人员：安小敏，刘汉东，丁道路，
申请(专利权)人：合肥真萍电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34