【技术实现步骤摘要】
一种AMOLED面板
本专利技术涉及显示领域，特别涉及一种AMOLED面板。
技术介绍
在AMOLED（Active-matrixorganiclightemittingdiode，主动矩阵有机发光二极体）面板的生产中，通常是将大板通过激光切割形成需要尺寸规格的小板。一方面，由于面板边缘的无机膜层在切割时会引起肉眼不可见的微裂纹，另一方面，因晶格在最边缘位置突然终止而形成大量悬挂键与缺陷，因此，边缘不稳定区域通常会成为裂纹的起始位置。当AMOLED面板在使用过程中进行弯折时，存在于无机薄膜中的本征应力以及来自薄膜对衬底的附着力等非本征应力会不断促使微裂纹的进一步扩展，在数以万计的重复弯折下，当具有本征脆性及较多缺陷态的无机封装薄膜发生脆裂时，大气中的水与氧气便会入侵。水氧的入侵不仅会与发光层有机物发生氧化作用而生成羰基化合物，也会与OLED器件的阴极材料当中的碱金属或碱土金属发生电化学腐蚀，在显著降低发光量子效率的同时，也会因发光材料变质而形成大量黑点缺点，极大影响器件寿命。如图1所示，示出了现有的一种AMOLED面板平面结构示意图；从中可以看出，所述AMOLED...
【技术保护点】
1.一种AMOLED面板，在其切割线与封装薄膜边界之间具有边缘区域，所述边缘区域从下至上依次包括：柔性衬底、缓冲层、第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层；其特征在于，在所述边缘区域中设置有防止无机膜裂纹扩展的结构，所述结构包括：至少一列设置于所述第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层中的有机物沉积图案；至少一列设置有所述第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层至少一层中的金属沉积图案。
【技术特征摘要】
1.一种AMOLED面板，在其切割线与封装薄膜边界之间具有边缘区域，所述边缘区域从下至上依次包括：柔性衬底、缓冲层、第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层；其特征在于，在所述边缘区域中设置有防止无机膜裂纹扩展的结构，所述结构包括：至少一列设置于所述第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层中的有机物沉积图案；至少一列设置有所述第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层至少一层中的金属沉积图案。2.如权利要求1所述的AMOLED面板，其特征在于，所述有机物沉积图案靠近所述切割线一侧，所述金属沉积图案靠近所述封装薄膜一侧。3.如权利要求2所述的AMOLED面板，其特征在于，在所述有机物沉积图案之上进一步设置有第二层间介质层，所述第二层间介质层覆盖所有有机物沉积图案。4.如权利要求3所述的防止AMOLED面板，其特征在于，所述每一列有机物沉积图案均与所述切割线平行，其包括多个贯通所述第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层的沉积孔，在所述沉积孔中填充有有机物；所述每一列金属沉积图案与所述切割线平行，其包括多个沉...
【专利技术属性】
技术研发人员：周志伟，崔昇圭，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42
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