一种显示面板及其制备方法技术

技术编号:19902287 阅读:20 留言:0更新日期:2018-12-26 02:35
本发明专利技术提供一种显示面板及其制备方法,显示面板包括:阵列基板、钝化层,第一色阻层、第二色阻层以及有机物平坦层;阵列基板上每一子像素电路均包含有至少两个薄膜晶体管,其上方的钝化层和有机物平坦层上制备有至少两个过孔;第一色阻层包括第一色阻区域,以及与第一色阻区域连接的多个第二色阻区域;第一色阻区域在阵列基板上的投影位于子像素电路的两侧,每一第二色阻区域位于至少两个薄膜晶体管的上方;第二色阻层堆叠在第二色阻区域的上方。本发明专利技术的显示面板中主区衬垫对应的第一色阻层不易发生破裂,且可以保证主区衬垫达到预期的高度。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及其制备方法
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种显示面板及其制备方法。
技术介绍
BPS(Blackphotospacer,黑色间隙控制材料)技术是LCD技术中一种把BM(黑色矩阵)和PS(间隙控制)两道制程合成一道制程的技术。按照其中一种划分方法,BPS技术分为3tone,2tone,1tone技术。3tone,2tone,1tone分别代表着不同的光罩透过率,3tone和2tone表示在BPS技术中,对应光罩使用了3种和2种透过率,这两种设计都使用到了半透膜。1tone则只使用了一种透过率,即100%透过率。由于1tone没有使用半透膜,对应的BPS材料在曝光显影后有很好的高度稳定性,所以1tone是BPS技术比较好的选择。一个像素中含有三个TFT(ThinFilmTransistor,薄膜晶体管)的像素设计即3T技术(或者称为3T像素结构)。3T技术是针对HVA模式的技术,在HVA模式下,一个TFT控制像素的主区(main区域),一个控制次区(sub区域),一个控制主区和次区的共享电荷。3T结构能够很好改善HVA模式下像素的显示失败问题。1tone的BPS技术,是将主区衬垫和次区衬垫都是放置在阵列基板栅极线上方黑色矩阵的位置。主区衬垫是使用两层色阻堆叠,再加上一层BPS材料层来实现。次区衬垫使用的是一层色阻加上一层BPS材料层来实现。其余栅极线上方区域的色阻是挖开的,这些区域只有一层BPS材料层,来充当黑色矩阵的作用。普通1个TFT的像素结构,在这个区域的色阻设计如图1所示,主区衬垫的下层色阻一般使用色阻12’,且和像素两端的色阻11’相连,构成桥状结构。次区衬垫是在像素中间放置一个岛状结构的色阻13’,色阻13’位于子像素电路2的上方。色阻12’一般是在TFT上面,因为TFT上面的地形是最高的。桥状结构的色阻12’相比较岛状结构的色阻13’而言有两个好处,一是桥状结构的色阻12’更不容易破裂。二是桥状结构的形状会使后来堆叠在其上的有机层可以减少两侧的材料流平,更容易形成高的地形,使得主区衬垫和次区衬垫之间形成断差。3个TFT的像素结构中,对应的3个TFT上方的色阻层需要被挖开,形成3个过孔,该过孔用于TFT的源极和漏极与色阻层上方的像素电极或公共电极的连接。因此,3T像素结构的主区衬垫做在TFT上面,主区衬垫的色阻与子像素电路两侧的色阻无法做成桥状结构连接在一起,导致主区衬垫的色阻容易产生破裂的问题,进而产生主区衬垫无法达到预期高度的风险。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本专利技术提供一种显示面板及其制备方法,其主区衬垫对应的第一色阻层不易发生破裂,且可以保证主区衬垫达到预期的高度。本专利技术提供的一种显示面板,包括:阵列基板、位于所述阵列基板上的钝化层、位于所述钝化层上的有机物平坦层、第一色阻层以及第二色阻层,所述第一色阻层和所述第二色阻层夹持在所述钝化层和所述有机物平坦层之间;其中,所述阵列基板上包含有多个子像素电路,且每一子像素电路均包含有至少两个薄膜晶体管;所述至少两个薄膜晶体管上方的钝化层和有机物平坦层上制备有至少两个过孔;所述第一色阻层包括第一色阻区域,以及与所述第一色阻区域连接的多个第二色阻区域,所述多个第二色阻区域分别位于所述多个子像素电路中第一部分子像素电路的上方;所述第一色阻区域在所述阵列基板上的投影位于所述子像素电路的两侧,每一所述第二色阻区域位于至少两个薄膜晶体管的上方;所述第二色阻层堆叠在所述第二色阻区域的上方。优选地,所述第二色阻区域为T型形状,所述第二色阻区域与所述至少两个过孔错开且所述至少两个过孔分布在所述第二色阻区域的两侧。优选地,所述第一色阻层还包括多个岛状的第三色阻区域,所述多个岛状的第三色阻区域位于所述多个子像素电路中第二部分子像素电路的薄膜晶体管的上方,且所述第三色阻区域与所述至少两个过孔错开。优选地,所述多个岛状的第三色阻区域与所述多个第二色阻区域之间相互交叉分布,且所述第二色阻区域的数量少于所述第三色阻区域的数量。优选地,在所述有机物平坦层上还设置有像素电极和第一公共电极,所述像素电极和所述第一公共电极通过所述钝化层和所述有机物平坦层上的过孔与薄膜晶体管的漏极或源极连接。优选地,在所述有机物平坦层的上方还设置有黑色矩阵,且所述黑色矩阵位于所述阵列基板上的栅极线上方。优选地,每一子像素电路还包含有位于所述至少两个薄膜晶体管两侧的第二公共电极,所述第二公共电极和所述至少两个薄膜晶体管的栅极由同层金属制成。本专利技术还提供一种显示面板的制备方法,包括下述步骤:提供一阵列基板,所述阵列基板上包含有多个子像素电路,且每一子像素电路均包含有至少两个薄膜晶体管;在所述阵列基板上形成钝化层;在所述钝化层上形成第一色阻材料层,并图形化所述第一色阻材料层,得到第一色阻层;所述第一色阻层包括第一色阻区域,以及与所述第一色阻区域连接的多个第二色阻区域,所述多个第二色阻区域分别位于所述多个子像素电路中第一部分子像素电路的上方,且所述第一色阻区域在所述阵列基板上的投影位于所述子像素区域电路的两侧,每一所述第二色阻区域位于至少两个薄膜晶体管的上方,且所述第二色阻区域在所述阵列基板上的投影与所述至少两个薄膜晶体管中用于连接像素电极或者第一公共电极的电极不重合;在所述钝化层上形成第二色阻材料层,所述第二色阻材料层覆盖所述第一色阻层,并图形化所述第二色阻材料层,得到第二色阻层,所述第二色阻层堆叠在所述第二色阻区域的上方;在所述钝化层上形成有机物平坦层,所述有机物平坦层覆盖所述钝化层;在所述子像素电路上方的有机物平坦层和钝化层上刻蚀出至少两个过孔,且所述至少两个过孔分别与所述至少两个薄膜晶体管中用于连接像素电极或者第一公共电极的电极对应。优选地,还包括下述步骤:在所述有机物平坦层上制备所述像素电极和所述第一公共电极,且所述像素电极和所述第一公共电极分别通过所述有机物平坦层和所述钝化层上的过孔与薄膜晶体管的源极或漏极连接。优选地,还包括下述步骤:采用黑色遮光材料在所述有机物平坦层上制备黑色矩阵,且所述黑色矩阵覆盖所述像素电极和所述第一公共电极,且所述黑色矩阵位于所述阵列基板的栅极线上方。实施本专利技术,具有如下有益效果:本专利技术提供的显示面板中,第一色阻层上的第二色阻区域与子像素电路两侧的第一色阻区域连接形成桥状结构,并且每一第二色阻区域还位于至少两个薄膜晶体管的上方,以保证第二色阻区域面积不至于过小,这样可以避免第一色阻层发生破裂,还可以避免后面堆叠在第二色阻区域上的膜层出现两侧材料流平,更容易形成较高的地形,方便达到预期的地形高度,能够与次区衬垫之间形成段差。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术提供的
技术介绍
中1个TFT像素结构的色阻层示意图。图2是本专利技术提供的第一色阻层和第二色阻层的位置示意图。图3是本专利技术提供的俯视角度观察显示面板中各电极的示意图。图4是本专利技术提供的第一色阻层中第一色阻区域及第二色阻区域的示意图。图5是本专利技术提供的在图本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:阵列基板、位于所述阵列基板上的钝化层、位于所述钝化层上的有机物平坦层、第一色阻层以及第二色阻层,所述第一色阻层和所述第二色阻层夹持在所述钝化层和所述有机物平坦层之间;其中,所述阵列基板上包含有多个子像素电路,且每一子像素电路均包含有至少两个薄膜晶体管;所述至少两个薄膜晶体管上方的钝化层和有机物平坦层上制备有至少两个过孔;所述第一色阻层包括第一色阻区域,以及与所述第一色阻区域连接的多个第二色阻区域,所述多个第二色阻区域分别位于所述多个子像素电路中第一部分子像素电路的上方;所述第一色阻区域在所述阵列基板上的投影位于所述子像素电路的两侧,每一所述第二色阻区域位于至少两个薄膜晶体管的上方;所述第二色阻层堆叠在所述第二色阻区域的上方。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:阵列基板、位于所述阵列基板上的钝化层、位于所述钝化层上的有机物平坦层、第一色阻层以及第二色阻层,所述第一色阻层和所述第二色阻层夹持在所述钝化层和所述有机物平坦层之间;其中,所述阵列基板上包含有多个子像素电路,且每一子像素电路均包含有至少两个薄膜晶体管;所述至少两个薄膜晶体管上方的钝化层和有机物平坦层上制备有至少两个过孔;所述第一色阻层包括第一色阻区域,以及与所述第一色阻区域连接的多个第二色阻区域,所述多个第二色阻区域分别位于所述多个子像素电路中第一部分子像素电路的上方;所述第一色阻区域在所述阵列基板上的投影位于所述子像素电路的两侧,每一所述第二色阻区域位于至少两个薄膜晶体管的上方;所述第二色阻层堆叠在所述第二色阻区域的上方。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二色阻区域为T型形状,所述第二色阻区域与所述至少两个过孔错开且所述至少两个过孔分布在所述第二色阻区域的两侧。3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一色阻层还包括多个岛状的第三色阻区域,所述多个岛状的第三色阻区域位于所述多个子像素电路中第二部分子像素电路的薄膜晶体管的上方,且所述第三色阻区域与所述至少两个过孔错开。4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述多个岛状的第三色阻区域与所述多个第二色阻区域之间相互交叉分布,且所述第二色阻区域的数量少于所述第三色阻区域的数量。5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,在所述有机物平坦层上还设置有像素电极和第一公共电极,所述像素电极和所述第一公共电极通过所述钝化层和所述有机物平坦层上的过孔与薄膜晶体管的漏极或源极连接。6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,在所述有机物平坦层的上方还设置有黑色矩阵,且所述黑色矩阵位于所述阵列基板上的栅极线上方。7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,每一子...

【专利技术属性】
技术研发人员:叶岩溪
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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