用于以可变空间分辨率对晶片等对象进行2D/3D检测的共焦色差装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于检测诸如晶片等对象(10)的表面的共焦色差装置，其包括具有收集孔(14)的多个光学测量通道，收集孔(14)被布置用于在多个测量点(15)处通过色差透镜(13)收集由对象(10)反射的光，以及放大透镜(31)，用于引入收集孔(14)和测量点(15)的空间重新分配之间的变化的或可变的例因子。本发明专利技术还涉及一种用于检测诸如包括三维结构(11)的晶片等对象(10)的表面的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于以可变空间分辨率对晶片等对象进行2D/3D检测的共焦色差装置和方法
本专利技术涉及一种用于检测诸如晶片等对象的装置和方法，更具体地涉及用于检测包括诸如凸起或微凸起等结构的对象的装置和方法。本专利技术的领域是但不限于半导体工业的2D-3D检测和计量。
技术介绍
共焦色差技术是用于三维(3D)表面映射或轮廓测定的公知技术，特别是用于半导体应用。该技术依赖于使用具有增强色差的色差透镜，其焦距很大程度上取决于光学波长。穿过这种透镜的光的每个波长聚焦在不同的距离处，或聚焦在不同的焦平面中。色差透镜嵌入共焦设置中，其中源和检测针孔(通常由光纤制成)布置在色差透镜的共焦平面上，以抑制失焦透镜。当反射表面布置在色差透镜的前面时，只有其波长的焦平面对应于表面位置的光透射过检测针孔。通过光谱仪进行检测，该光谱仪通常包括色散元件和用于获取光的强度光谱线性传感器(线性CCD)以。通过分析检测到的光的强度光谱获得表面相对于色差透镜的高度(或距离)。这种设置允许同时测量单个点上的距离。因此，通过扫描所有表面来检测整个晶片表面可能非常耗时。实际上，限制测量速度的因素是用于获取强度光谱的线性传感器的读出时间。通本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于检测对象(10)的表面的共焦色差装置，对象(10)例如是晶片，所述装置包括：‑色差透镜(13)，其具有扩大的轴向色差；‑光源(19)，其用于通过色差透镜(13)，使用聚焦在不同轴向距离处的多个光学波长来照射对象(10)；‑多个光学测量通道(24)，其具有收集孔(14)，布置为在多个测量点(15)处通过色差透镜(13)收集由对象(10)反射的光；其特征在于，还包括放大透镜(31)，放大透镜(31)布置为引入收集孔(14)和测量点(15)的空间重新分配之间的变化的或可变的比例因子。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.25 EP 16305349.91.一种用于检测对象(10)的表面的共焦色差装置，对象(10)例如是晶片，所述装置包括：-色差透镜(13)，其具有扩大的轴向色差；-光源(19)，其用于通过色差透镜(13)，使用聚焦在不同轴向距离处的多个光学波长来照射对象(10)；-多个光学测量通道(24)，其具有收集孔(14)，布置为在多个测量点(15)处通过色差透镜(13)收集由对象(10)反射的光；其特征在于，还包括放大透镜(31)，放大透镜(31)布置为引入收集孔(14)和测量点(15)的空间重新分配之间的变化的或可变的比例因子。2.根据权利要求1所述的装置，其中，多个光学测量通道(24)包括具有强度检测器(20)的光学测量通道(24)，强度检测器(20)用于测量所收集的光的总强度。3.根据权利要求1或2所述的装置，其中，多个光学测量通道(24)包括具有光谱检测器(21)的至少一个光学测量通道(24)，光谱检测器(21)用于测量所收集的光的光谱信息并推导出轴向距离信息。4.根据前述权利要求任一项所述的装置，包括位于收集孔(14)和色差透镜(13)之间的放大透镜(31)。5.根据前述权利要求中任一项所述的装置，包括被布置成提供中间共轭焦平面(32)的放大透镜(31)和色差透镜(13)，该中间共轭焦平面同时是：-针对包括放大透镜(31)的透镜组件的、具有收集孔(14)的平面的共轭焦平面；和-针对包括色差透镜(13)的透镜组件的、具有测量点(15)的平面的共轭焦平面。6.根据权利要求5所述的装置，其中，所述中间共轭焦平面(32)处于：-有限的距离处；或者-有限的距离处并且位于放大透镜(31)和色差透镜(13)之间。7.根据权利要求6所述的装置，其中，中间共轭焦平面处于无限远距离处，对应于准直光束。8.根据前述权利要求任一项所述的装置，还包括位于收集孔(14)和放大透镜(31)之间的准直透镜(29)。9.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉莱斯·弗莱斯阔特，阿兰·库特维尔，菲利普·加斯塔尔多，
申请(专利权)人：FOGALE纳米技术公司，
类型：发明
国别省市：法国,FR