一种球形氟氧化镧铈稀土抛光液制造技术

本发明专利技术公开一种球形氟氧化镧铈稀土抛光液，包含抛光液的固含量为10～20wt％，分散剂占抛光液总量的0.3％～1.5％wt％，抛光助剂占抛光液总量的0.2％～0.8％wt％；pH调节剂的用量以抛光液pH值达到8～11为准，球形氟氧化镧铈抛光粉中氟的质量分数为球形氟氧化镧铈抛光粉总质量的2～8wt％，铈的质量分数为球形氟氧化镧铈抛光粉总质量的63～67wt％；依次通过通过沉淀、氟化、脱水与干燥、焙烧、粉碎以及抛光液配制的步骤制得，采用急冷的降温方式，得到的氟氧化镧铈抛光粉尺寸小、粒径分布曲线窄，中位粒度在0.7um～0.9um之间，配置成抛光液抛光时不会产生划伤和刺激性气味，且粉末中无需加入氧化镨，降低成本。

【技术实现步骤摘要】
一种球形氟氧化镧铈稀土抛光液
本专利技术涉及稀土抛光液
，具体是一种球形氟氧化镧铈稀土抛光液。
技术介绍
化学机械抛光(ChemicalMechanicalpolishing)是借助超微粒子的研磨作用和浆料的化学腐蚀作用在被研磨的工件表面形成光洁平坦表面，是机械磨削和化学腐蚀的组合技术。该技术已逐渐被应用于多种需要平整化的工件的化学机械抛光，尤其是在光电玻璃和半导体工业等电子信息产业的发展更为引人注目。常用的化学机械抛光技术系统构造是由一个旋转的工件夹持器、承载抛光垫片的工作台和抛光浆料供给装置三大部分组成。作为一种新兴的研磨抛光材料，稀土抛光粉以其颗粒硬度适中、抛光效率高、抛光质量好、使用寿命长以及操作环境清洁环保等优点被广泛的应用于平板玻璃、电子精密器件以及、硬盘玻璃基板等领域的抛光。化学机械抛光时，由亚微米或纳米粒子和化学溶液组成的稀土抛光液在抛光垫与工件之间流动，并发生相应的化学反应，工件表面生成的化学反应物质由磨粒的机械作用去除，即在机械去膜和化学成膜的交替过程中实现表面的平坦化。《一种稀土抛光粉及其制备方法》(公开号CN102965026A)公开了CeO2、La2O本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种球形氟氧化镧铈稀土抛光液，其特征在于，包含球形氟氧化镧铈抛光粉、分散剂、抛光助剂与pH调节剂，所述抛光液的固含量为10～20wt％，分散剂占抛光液总量的0.3％～1.5％wt％，抛光助剂占抛光液总量的0.2％～0.8％wt％；pH调节剂的用量以抛光液pH值达到8～11为准，所述球形氟氧化镧铈抛光粉中氟的质量分数为球形氟氧化镧铈抛光粉总质量的2～8wt％，铈的质量分数为球形氟氧化镧铈抛光粉总质量的63～67wt％。

【技术特征摘要】
1.一种球形氟氧化镧铈稀土抛光液，其特征在于，包含球形氟氧化镧铈抛光粉、分散剂、抛光助剂与pH调节剂，所述抛光液的固含量为10～20wt％，分散剂占抛光液总量的0.3％～1.5％wt％，抛光助剂占抛光液总量的0....

【专利技术属性】
技术研发人员：王贤萍，
申请(专利权)人：王贤萍，
类型：发明
国别省市：浙江,33