【技术实现步骤摘要】
柔性显示基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
,特别是指一种柔性显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
现有的柔性显示基板包括柔性衬底和位于所述柔性衬底上的缓冲层以及显示用膜层,柔性衬底由层叠设置的有机薄膜和无机层组成,显示用膜层包括栅绝缘层和层间绝缘层。在柔性显示基板的制作过程中,需要刻蚀显示区的栅绝缘层和层间绝缘层形成过孔;在弯折区,由于无机材料的应力较大,需要去除弯折区的无机层、栅绝缘层和层间绝缘层。现有的柔性显示基板的制作工艺中,先对层间绝缘层和栅绝缘层进行刻蚀,在显示区形成贯穿层间绝缘层和栅绝缘层的过孔,并去除弯折区的层间绝缘层和栅绝缘层,之后利用刻蚀工艺去除弯折区的无机层和缓冲层,但在去除弯折区的无机层和缓冲层时,需要在显示区上涂布光刻胶作为掩膜,显示区的过孔也会被填充光刻胶,由于显示区的过孔的尺寸较小,在去除弯折区的无机层和缓冲层后,显示区的过孔内的光刻胶比较难以去除,导致显示区的过孔内残留有光刻胶,从而降低了柔性显示基板的良率。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种柔性显示基板及其制作方法、显示装置,能够提高柔性显示基 ...
【技术保护点】
1.一种柔性显示基板的制作方法,所述柔性显示基板包括柔性衬底和位于所述柔性衬底上的显示功能层,所述柔性显示基板划分为弯折区和显示区,其特征在于,所述制作方法包括:在形成所述显示功能层的绝缘层之前,对所述柔性衬底进行刻蚀,去除所述弯折区的所述柔性衬底中的至少部分无机层,形成暴露所述柔性衬底中的有机薄膜的凹槽。
【技术特征摘要】
1.一种柔性显示基板的制作方法,所述柔性显示基板包括柔性衬底和位于所述柔性衬底上的显示功能层,所述柔性显示基板划分为弯折区和显示区,其特征在于,所述制作方法包括:在形成所述显示功能层的绝缘层之前,对所述柔性衬底进行刻蚀,去除所述弯折区的所述柔性衬底中的至少部分无机层,形成暴露所述柔性衬底中的有机薄膜的凹槽。2.根据权利要求1所述的柔性显示基板的制作方法,其特征在于,所述形成暴露所述柔性衬底中的有机薄膜的凹槽之后,所述制作方法还包括:在所述凹槽中填充有机材料。3.根据权利要求1所述的柔性显示基板的制作方法,其特征在于,所述柔性衬底包括依次层叠设置的第一有机薄膜、第一无机层、第二有机薄膜和第二无机层,所述去除所述弯折区的所述柔性衬底中的至少部分无机层包括:去除所述弯折区的所述第二无机层,形成暴露出所述第二有机薄膜的所述凹槽。4.根据权利要求3所述的柔性显示基板的制作方法,其特征在于,所述柔性衬底与所述显示功能层之间还形成有缓冲层,去除所述弯折区的所述第二无机层的同时,还去除所述缓冲层与所述凹槽对应的部分。5.根据权利要求3所述的柔性显示基板的制作方法,其特征在于,所述显示功能层包括依次设置的有源层、栅绝缘层、栅极、层间绝缘层和源极、漏...
【专利技术属性】
技术研发人员:来春荣,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,绵阳京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。