一种高分辨率高效率投影光刻成像系统及曝光方法技术方案

本发明专利技术公开了一种高分辨率高效率投影光刻成像系统及曝光方法，包括数字微镜阵列DMD、远心成像系统、微透镜阵列和分光光路装置，数字微镜阵列DMD通过远心成像系统成像于微透镜阵列，微透镜阵列聚焦成像为更小尺寸的光斑阵列，光斑阵列通过第二次远心成像系统并经过分光光路装置成像于光刻板，形成高分辨率的光斑图像，分光光路装置可以将整个视场沿着X轴方向扩展，增加曝光范围，有效的增加了曝光效率。

【技术实现步骤摘要】
一种高分辨率高效率投影光刻成像系统及曝光方法
：本专利技术属于光源直投式曝光机的
，具体为一种高分辨率高效率投影光刻成像系统及曝光方法。
技术介绍
：光源直投式光刻机设备又称影像直接投射设备，可应用于半导体和PCB以及平面成像领域的研发、生产。DLP投影成像系统是直投式设备的核心器件之一。DLP投影成像系统是利用计算机控制数字微镜阵列生成图形，图形经过投影镜头投射到光刻板上。DLP投影成像系统的分辨率和效率受限于数字微镜阵列即DMD的像素空间分布和成像系统的倍率。为了进一步提升直投式曝光机的分辨率和效率，高分辨率高效率的DLP投影成像技术的分辨率和效率又有较大的提升。高分辨率高效率的DLP投影成像系统是在传统曝光机的像面上放置微透镜阵列聚焦，聚焦的斑点再经过远心成像系统，在远心成像系统后面加入分光光路装置，像面尺寸有效的分为两份。微透镜阵列缩小DMD像素尺寸，有效的提升系统的分辨率，分光光路装置增加曝光视场，提高曝光效率。
技术实现思路
：针对上述问题，本专利技术要解决的技术问题是提供一种高分辨率高效率投影光刻成像系统及曝光方法。本专利技术的一种高分辨率高效率的投影光刻成像系统，包本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高分辨率高效率的投影光刻成像系统，其特征在于：包括依次设置的照明光路、数字微镜阵列DMD、第一远心镜头、微透镜阵列、第二远心镜头和分光光路装置，所述照明光路通过棱镜入射于数字微镜阵列DMD，照明光路于数字微镜阵列DMD中入射光线与出射光线成24°角且出射光线方向垂直于数字微镜阵列DMD表面，所述照明光路成像于数字微镜阵列DMD的表面，所述数字微镜阵列DMD表面的照明像面通过第一远心镜头形成成像面光斑，所述成像面光斑通过微透镜阵列聚焦成像为光斑阵列，所述分光光路装置的三角棱柱中心位置设置在第二远心镜头出射光斑的正中心，所述光斑阵列通过第二远心镜头后经过分光光路装置成像于成像面。

【技术特征摘要】
1.一种高分辨率高效率的投影光刻成像系统，其特征在于：包括依次设置的照明光路、数字微镜阵列DMD、第一远心镜头、微透镜阵列、第二远心镜头和分光光路装置，所述照明光路通过棱镜入射于数字微镜阵列DMD，照明光路于数字微镜阵列DMD中入射光线与出射光线成24°角且出射光线方向垂直于数字微镜阵列DMD表面，所述照明光路成像于数字微镜阵列DMD的表面，所述数字微镜阵列DMD表面的照明像面通过第一远心镜头形成成像面光斑，所述成像面光斑通过微透镜阵列聚焦成像为光斑阵列，所述分光光路装置的三角棱柱中心位置设置在第二远心镜头出射光斑的正中心，所述光斑阵列通过第二远心镜头后经过分光光路装置成像于成像面。2.根据权利要求1所述的一种高分辨率高效率的投影光刻成像系统，其特征在于：所述照明光路通过TIR棱镜入射于数字微镜阵列DMD。3.根据权利要求1所述的一种高分辨率高效率的投影光刻成像系统，其特征在于：所述微透镜阵列的单个透镜的直径等于数字微镜阵列DMD单个像素点的成像尺寸。4.根据权利要求1所述的一种高分辨率高效率的投影光刻成像系统，其特征在于：所述微透镜阵列的单个透镜的中心位于数字微镜阵列DMD单个像素点的中心位置。5.一种高分辨率高效率的投影光刻成像系统的曝光方法，其特征在于：包括以下步骤：照明光路通过棱镜照入数字微镜阵列DM...

【专利技术属性】
技术研发人员：张柯，胥涛棚，刘金武，张雷，
申请(专利权)人：苏州源卓光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32