一种光学胶涂布装置制造方法及图纸

一种光学胶涂布装置，包括光学胶涂布机构以及两个光学胶残留清除结构；所述光学胶涂布机构包括光学胶存储箱以及设置于所述光学胶存储箱下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储箱连接，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽，该光学胶涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽；所述光学胶残留清除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中，所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动，该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合，该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧。

【技术实现步骤摘要】
一种光学胶涂布装置
本专利技术涉及材料涂布领域，具体涉及一种光学胶涂布装置。
技术介绍
光学胶涂布装置在涂布光学胶到面板上时，会在该涂布组件上残留一些光学胶，下次涂布时这些光学胶残留会与新的光学胶接触，影响涂布时的质量，可能产生不良产品。因此，现有技术存在缺陷，急需改进。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的是提供一种光学胶涂布装置，具有自动去除光学胶残留的效果。本专利技术提供了一种光学胶涂布装置，包括光学胶涂布机构、两个光学胶残留清除结构、高压喷水器以及冷风机；所述光学胶涂布机构包括光学胶存储箱以及设置于所述光学胶存储箱下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储箱的底壁连接，光学胶存储箱的底壁开设有光学胶出口，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的与该光学胶出口连通的涂布槽，该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处，且将该侧棱贯穿，该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度；该光学胶涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽，该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸；该两个光学胶残留清除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动；所述光学胶残留清除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中，所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动，该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合，该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧；所述光学胶存储箱内设置有用于挤压活塞以及用于驱动该挤压活塞的气缸，该挤压活塞设置于该光学胶存储箱的内侧壁上，该气缸设置于光学胶存储箱的内侧的顶部且与该挤压活塞的顶面连接；所述涂布槽的宽度可调；还包括控制芯片以及电池组件，该控制芯片以及电池组件均设置于所述滑块内，控制芯片以及电池组件分别与所述电机驱动机构连接，该控制芯片用于在涂布完成后控制该电机驱动机构驱动该滑块移动以情理该两个第二侧壁面；所述光学胶存储箱内设置有温度传感器以及加热组件，该温度传感器与该加热组件连接；所述高压喷水器通过排液管与该喷液嘴连通，该冷风机通过排风管与该风嘴连通，所述高压喷水器内包括用于溶解光学胶的化学溶液室以及清水室，该化学溶液室的出口以及清水室的出口分别通过支管与该排液管连通，且该化学溶液室以及清水室的出口处均分别设置有电磁阀，所述电磁阀与所述控制芯片通信连接。在本专利技术所述的光学胶涂布装置中，所述涂布槽的内侧壁面上设置有电致伸缩层；所述光学胶涂布装置还包括一触控操作面板以及驱动电路，该驱动电路与电致伸缩层电连接，该触控操作面板设置于该光学胶存储箱的侧壁面上并与该驱动电路电连接，该触控操作面板用于供用户输入涂布厚度，该触控操作面板根据该涂布厚度控制该驱动电路调整该压电陶瓷的厚度，进而调整该涂布槽的宽度。在本专利技术所述的光学胶涂布装置中，所述光学胶存储箱内设置有温度传感器以及加热组件，该温度传感器与该加热组件连接。在本专利技术所述的光学胶涂布装置中，所述涂布槽的两相对的内侧壁面分别设置有一所述电致伸缩层。在本专利技术所述的光学胶涂布装置中，所述涂布槽的两相对的内侧壁面中一个侧壁面设置有所述电致伸缩层，另一侧壁面设置有一薄膜加热层。在本专利技术所述的光学胶涂布装置中，所述擦板的宽度为所述第二侧壁面宽度的一半。在本专利技术所述的光学胶涂布装置中，所述擦板可沿着所述第二侧壁面的宽度方向滑动地设置于该滑块上，且该擦板上设置有锁紧机构，使得锁紧时，该擦板相对该滑块固定，解锁时，该擦板可相对该滑块滑动。在本专利技术所述的光学胶涂布装置中，所述擦板的与所述第二侧壁面接触的一面设置有弹性层。在本专利技术所述的光学胶涂布装置中，所述擦板的宽度为所述第二侧壁面的宽度相同。在本专利技术所述的光学胶涂布装置中，所述侧面上开设有多个沿着宽度方向延伸的用于导引清洗液的导流槽。在本专利技术所述的光学胶涂布装置中，还包括控制芯片以及电池组件，该控制芯片以及电池组件均设置于所述滑块内，控制芯片以及电池组件分别与所述电机驱动机构连接。本专利技术通过设置光学胶涂布机构以及两个光学胶残留清除结构；所述光学胶涂布机构包括光学胶存储箱以及设置于所述光学胶存储箱下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储箱连接，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽，该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处，且将该侧棱贯穿，该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度；该光学胶涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽，该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸；该两个光学胶残留清除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动；所述光学胶残留清除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中，所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动，该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合，该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧，使得其可以实现涂布光学胶的同时，可以自动对残留的光学胶进行清理。附图说明图1是本专利技术结构示意图。图2是本专利技术光学胶残留清除结构的一种结构示意图。图3是本专利技术的电路原理图。图4是本专利技术局部结构图。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。请参照图1，图1是本专利技术一实施例中的一种光学胶涂布装置，包括光学胶涂布机构10以及两个光学胶残留清除结构20、洗液罐30以及冷风机；两个光学胶残留清除结构20设置于该光学胶涂布机构10上。该光学胶涂布机构10包括光学胶存储箱11以及设置于所述光学胶存储箱11下端面上的涂布组件12，该涂布组件12呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面121与该光学胶存储箱11连接，该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储箱的底壁连接，光学胶存储箱的底壁开设有光学胶出口，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的与该光学胶出口连通的涂布槽。该涂布组件12设置有沿着该第一侧壁面121的中垂面设置的涂布槽123，该涂布槽123从该第一侧壁面121处延伸至与该第一侧壁121面相对的侧棱处，且将该侧棱贯穿，该涂布槽123的长度小于该涂布组件本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学胶涂布装置，其特征在于包括光学胶涂布机构、两个光学胶残留清除结构、高压喷水器以及冷风机；所述光学胶涂布机构包括光学胶存储箱以及设置于所述光学胶存储箱下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储箱的底壁连接，光学胶存储箱的底壁开设有光学胶出口，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的与该光学胶出口连通的涂布槽，该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处，且将该侧棱贯穿，该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度；所述光学胶存储箱内设置有用于挤压活塞以及用于驱动该挤压活塞的气缸，该挤压活塞设置于该光学胶存储箱的内侧壁上，该气缸设置于光学胶存储箱的内侧的顶部且与该挤压活塞的顶面连接；该光学胶涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽，该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸；该两个光学胶残留清除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动；所述光学胶残留清除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中，所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动，该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合，该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧；所述涂布槽的宽度可调；还包括控制芯片以及电池组件，该控制芯片以及电池组件均设置于所述滑块内，控制芯片以及电池组件分别与所述电机驱动机构连接，该控制芯片用于在涂布完成后控制该电机驱动机构驱动该滑块移动以情理该两个第二侧壁面；所述光学胶存储箱内设置有温度传感器以及加热组件，该温度传感器与该加热组件连接；所述高压喷水器通过排液管与该喷液嘴连通，该冷风机通过排风管与该风嘴连通，所述高压喷水器内包括用于溶解光学胶的化学溶液室以及清水室，该化学溶液室的出口以及清水室的出口分别通过支管与该排液管连通，且该化学溶液室以及清水室的出口处均分别设置有电磁阀，所述电磁阀与所述控制芯片通信连接；所述涂布槽的内侧壁面上设置有电致伸缩层；所述光学胶涂布装置还包括一触控操作面板以及驱动电路，该驱动电路与电致伸缩层电连接，该触控操作面板设置于该光学胶存储箱的侧壁面上并与该驱动电路电连接，该触控操作面板用于供用户输入涂布厚度，该触控操作面板根据该涂布厚度控制该驱动电路调整该压电陶瓷的厚度，进而调整该涂布槽的宽度。...

【技术特征摘要】
1.一种光学胶涂布装置，其特征在于包括光学胶涂布机构、两个光学胶残留清除结构、高压喷水器以及冷风机；所述光学胶涂布机构包括光学胶存储箱以及设置于所述光学胶存储箱下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储箱的底壁连接，光学胶存储箱的底壁开设有光学胶出口，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的与该光学胶出口连通的涂布槽，该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处，且将该侧棱贯穿，该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度；所述光学胶存储箱内设置有用于挤压活塞以及用于驱动该挤压活塞的气缸，该挤压活塞设置于该光学胶存储箱的内侧壁上，该气缸设置于光学胶存储箱的内侧的顶部且与该挤压活塞的顶面连接；该光学胶涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽，该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸；该两个光学胶残留清除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动；所述光学胶残留清除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中，所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动，该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合，该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧；所述涂布槽的宽度可调；还包括控制芯片以及电池组件，该控制芯片以及电池组件均设置于所述滑块内，控制芯片以及电池组件分别与所述电机驱动机构连接，该控制芯片用于在涂布完成后控制该电机驱动机构驱动该滑块移动以情理该两个第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：姜丽，
申请(专利权)人：台州市皓仔邦工业设计有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33