一种提高曝光产能直写光刻机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种提高曝光产能直写光刻机构，包括多轴运动平台、基板台面、曝光系统、对位系统、底座和龙门机构，所述底座和龙门机构连接；能够在不增加光刻机的成本基础上有效的提升曝光所用的时间，可同时完成多于一片板子，两片板子甚至N片板子同时上下板，对准和曝光完成，有效的缩短了基板的曝光时间，提高了直写曝光机的产能，有效的提高了客户生产的产量，同时也能很好的满足曝光图形的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种提高曝光产能直写光刻机构
：本技术涉及光刻
，尤其涉及一种提高曝光产能直写光刻机构。
技术介绍
：光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图。这样的衬底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器（例如液晶显示器）、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的基片。直写光刻技术以替代传统的掩膜版或菲林底片等曝光的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域有着非常重要的作用。曝光产能是客户需求的一项重要指标，那么提高直写曝光机曝光产能则变的至关重要。目前市场上直写曝光多以单台面曝光机或双台面曝光机进行扫描曝光。单台面曝光产能较慢，每一片板曝光需要完成上板，对准，曝光，下板等工序，整个流程时间较长。双台面曝光的方式虽然节省了上下板时间可并行完成曝光和上下板，但是由于系统结构复杂，增加了制造成本，导致客户购买价格和售后保养价格增加。
技术实现思路
：针对上述问题，本技术要解决的技术问题是提供一种提高曝光产能直写光刻机构。本技术的一种提高曝光产能直写光刻机构，包括多轴运动平台、基板台面、曝光系统、对位系统、底座和龙门机构，所述底座和龙门机构连接，所述底座上设有多轴运动平台，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高曝光产能直写光刻机构，其特征在于，包括多轴运动平台、基板台面、曝光系统、对位系统、底座和龙门机构，所述底座和龙门机构连接，所述底座上设有多轴运动平台，所述多轴运动平台包括y轴运动组件、x轴运动组件及z轴和θ轴组件，所述y轴运动组件固定在底座上，所述x轴运动组件固定在y轴运动组件上，所述z轴和θ轴组件固定在x轴运动组件上，所述基板台面承载放置2片或2片以上曝光基板且固定在z轴和θ轴组件上，所述曝光系统和对位系统分别固定在龙门机构上。

【技术特征摘要】
1.一种提高曝光产能直写光刻机构，其特征在于，包括多轴运动平台、基板台面、曝光系统、对位系统、底座和龙门机构，所述底座和龙门机构连接，所述底座上设有多轴运动平台，所述多轴运动平台包括y轴运动组件、x轴运动组件及z轴和θ轴组件，所述y轴运动组件固定在底座上，所述x轴运动组件固定在y轴运动组件上，所述z轴和θ轴组件固定在x轴运动组件上，所述基板台面承载放置2片或2片以上曝光基板且固定在z轴和θ轴组件上，所述曝光系统和对位系统分别固定在龙门机构...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱亮，胡传武，张雷，
申请(专利权)人：苏州源卓光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32