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一种提高曝光产能直写光刻机构制造技术
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文档序号:19797129
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本实用新型公开了一种提高曝光产能直写光刻机构,包括多轴运动平台、基板台面、曝光系统、对位系统、底座和龙门机构,所述底座和龙门机构连接;能够在不增加光刻机的成本基础上有效的提升曝光所用的时间,可同时完成多于一片板子,两片板子甚至N片板子同时上...
该专利属于苏州源卓光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州源卓光电科技有限公司授权不得商用。
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