基于光热快速升温的高压反应池制造技术

本发明专利技术公开了一种基于光热快速升温的高压反应池，包括反应池座，反应池座顶部连有反应池盖，反应池盖上开有光源投射窗口，反应池座与反应池盖之间围成反应腔，反应池座周向设有进气腔，反应池座中还设有出气腔，反应腔内固定有样品池，进气腔上对称设有进气口，进气口上连有进气流量控制机构，进气腔与反应腔间对称连有进气通道，样品池底部连有出气缓冲机构，出气缓冲机构位于出气腔中，且出气缓冲机构上连有出气压力控制机构；反应腔内设有温度检测机构和压力检测机构；进气腔中设有进气稳流机构。本发明专利技术的基于光热快速升温的高压反应池，满足了光热快速升温方式下的高压气氛反应实验要求，填补了光热高压反应器的空白。

【技术实现步骤摘要】
基于光热快速升温的高压反应池
本专利技术涉及高压反应器，具体地指一种基于光热快速升温的高压反应池。
技术介绍
现代科学研究中，特殊工况下的材料制备、机理研究、进程表征等，对温度和压力的要求越来越高，反应池由初始的无压力要求，发展到1～3MPa的中高压体系，再到目前研究前沿的30MPa及以上特高压条件下的反应体系；升温速率要求也由最初始的10～20℃/min逐渐发展到50～100℃/min快速升温，再到目前利用燃烧、激光及等离子体等工艺实现的103～104℃/min的超快速升温。在快速升温过程中，传统的电阻丝很难再满足严苛的实验要求，即使采用新材料及丝网结构，非常大的热滞后性以及散热延迟性导致温度控制以及升降温过程成为技术瓶颈；燃烧、等离子体快速升温方式则很大程度上受制于气氛，燃烧方式的反应气氛必须包含作为助燃剂的氧及燃烧产气，而等离子体则必须保持非常大的气流量以保证电弧的拉出；激光方式则因高成本、小加热范围限制了发展。而光热升温的方式在很大程度上规避了现有快速升温方式存在的诸多弊端，因而，光热升温反应池应运而生，但配套实验反应器的开发则仍然比较少，可应用于高温高压严苛实验条件下的反应本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于光热快速升温的高压反应池，包括反应池座(1)，其特征在于：所述反应池座(1)顶部连有反应池盖(2)，所述反应池盖(2)上开有光源投射窗口(2.1)，所述反应池座(1)与所述反应池盖(2)之间围成反应腔(2.2)，所述反应池座(1)周向设有进气腔(1.1)，所述反应池座(1)中还设有出气腔(1.2)，所述反应腔(2.2)内固定有样品池(3)，所述进气腔(1.1)上对称设有进气口(4)，所述进气口(4)上连有进气流量控制机构(5)，所述进气腔(1.1)与所述反应腔(2.2)间对称连有进气通道(6)，所述样品池(3)底部连有出气缓冲机构(7)，所述出气缓冲机构(7)位于所述出气腔(1.2...

【技术特征摘要】
1.一种基于光热快速升温的高压反应池，包括反应池座(1)，其特征在于：所述反应池座(1)顶部连有反应池盖(2)，所述反应池盖(2)上开有光源投射窗口(2.1)，所述反应池座(1)与所述反应池盖(2)之间围成反应腔(2.2)，所述反应池座(1)周向设有进气腔(1.1)，所述反应池座(1)中还设有出气腔(1.2)，所述反应腔(2.2)内固定有样品池(3)，所述进气腔(1.1)上对称设有进气口(4)，所述进气口(4)上连有进气流量控制机构(5)，所述进气腔(1.1)与所述反应腔(2.2)间对称连有进气通道(6)，所述样品池(3)底部连有出气缓冲机构(7)，所述出气缓冲机构(7)位于所述出气腔(1.2)中，且所述出气缓冲机构(7)上连有出气压力控制机构(8)；所述反应腔(2.2)内设有温度检测机构(9)和压力检测机构(10)；所述进气腔(1.1)中设有进气稳流机构(11)。2.根据权利要求1所述基于光热快速升温的高压反应池，其特征在于：所述出气腔(1.2)中设有冷却机构(12)，所述冷却机构(12)位于所述进气通道(6)与所述出气缓冲机构(7)之间。3.根据权利要求1或2所述基于光热快速升温的高压反应池，其特征在于：所述反应池盖(2)横断面呈椭圆形，所述反应池盖(2)周向均布多个所述光源投射窗口(2.1)，所述反应池盖(2)上设有提拉环(2.3)和安全阀(2.4)，且所述反应池盖(2)与所述反应池座(1)间连有紧固压板(13)。4.根据权利要求1或2所述基于光热快速升温的高压反应池，其特征在于：所述样品池(3)包括坩埚(3.1)和筛网(3.2)，所述坩埚(3.1)底部设有若干透气孔(3.11)，所述筛网(3.2)放置在所述坩埚(3.1)底部；所述温度检测机构(9)设置在所述坩埚(3.1)外侧壁上。5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡松，李寒剑，张雅妮，向军，苏胜，汪一，许凯，池寰瀛，张晨浩，何立模，徐俊，韩亨达，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：湖北,42