压印膜及压印装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种压印膜及压印装置，涉及压印技术领域，在该压印膜的压印面表面覆有一层防污膜。该压印装置，包括上述压印膜。利用该压印膜缓解现有技术的压印膜在使用过程中，由于压印膜表面残留未固化的UV胶水或粘结半固化的UV胶水导致在产品的有效压印结构部位造成气泡、白点等不良的技术问题，同时，该压印膜可以实现免洗功能，从而节省清洗压印膜的时间，提高了生产效率和生产的安全性，同时能避免气泡和白点等问题的出现。

Impression Film and Impression Device

The invention provides an embossing film and an embossing device, which relates to the technical field of embossing. An anti-fouling film is coated on the embossing surface of the embossing film. The embossing device comprises the above-mentioned embossing film. The imprint film can alleviate the bad technical problems such as bubbles and white spots in the effective imprint structure of the product caused by the residual uncured UV glue or semi-cured bonded UV glue on the surface of the imprint film during the use of the existing technology. At the same time, the imprint film can realize the wash-free function and consequently save cleaning. The time of film washing and embossing improves the production efficiency and safety, and avoids the appearance of bubble and white spot.

【技术实现步骤摘要】
压印膜及压印装置
本专利技术涉及压印
，尤其涉及纳米压印
，具体的涉及一种压印膜及压印装置。
技术介绍
纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和光子的前提下，直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由于这种机械作用，使得纳米压印技术不再受到光子衍射和电子散射的限制，可大面积地制备纳米级图形。同时，由于这项技术所用的设备简单，制备时间短，压印模板可以重复使用，所以应用该技术制备纳米图形所需的成本也较低。纳米压印技术的应用范围较为广泛，常用于制备光学元器件。以摄像头所用玻璃为例，传统的摄像头玻璃是利用AR(Anti-Reflection，减反射)镀膜技术增加玻璃的透光率。而纳米压印是针对传统AR(Anti-Reflection，减反射)镀膜技术开发的一种UV转印纳米技术。该纳米压印原理是通过UV(Ultraviolet，紫外)胶转印将软膜上的纳米级蛾眼结构转印到玻璃视窗区，达到增加视窗区透光率的效果，从而代替传统AR镀膜技术。纳米压印软膜具有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种压印膜，其特征在于，在所述压印膜的压印面表面覆有一层防污膜(10)。

【技术特征摘要】
1.一种压印膜，其特征在于，在所述压印膜的压印面表面覆有一层防污膜(10)。2.根据权利要求1所述的压印膜，其特征在于，所述防污膜(10)的水滴角≥110°。3.根据权利要求1或2所述的压印膜，其特征在于，所述防污膜(10)包括防刮膜(102)和防油膜(101)。4.根据权利要求3所述的压印膜，其特征在于，所述防刮膜(102)为SiO2涂层。5.根据权利要求4所述的压印膜，其特征在于，所述SiO2涂层采用沉积法或电镀工艺制备得到。6.根据权利要求3所述的压印膜，其特征在于，所述防油膜(101)为氟化物防油...

【专利技术属性】
技术研发人员：饶桥兵，刘华玉，
申请(专利权)人：蓝思科技长沙有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南,43