The embodiments disclosed herein relate to an exposure pattern change software application program, which manipulates an exposure polygon with an angle line, which is essentially close to the symmetrical angle of a hexagonal dense body arrangement, and the exposure polygon has a long dislocation part. The long dislocation part itself presents a high edge placement error region. Therefore, the exposure pattern change software application provides line wave reduction by sawtoothing the polygon edge at the affected angle, thereby reducing the edge placement error during maskless lithography patterning in manufacturing process.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】降低线波度的方法
本公开内容的实施方式一般涉及无掩模光刻的领域。更具体地，本文提供的实施方式涉及用于执行无掩模数字光刻制造工艺的系统和方法。
技术介绍
光刻广泛用于制造半导体器件和显示设备(诸如液晶显示器(LCD))。通常利用大面积基板进行LCD制造。LCD、或平板常常用于有源矩阵显示器，诸如计算机、触摸面板装置、个人数字助理(personaldigitalassistant,PDA)、蜂窝电话、电视机监视器和类似装置。一般地，平板可以包括形成像素液晶材料层，所述液晶材料层夹在两个板之间。当将来自电源的电力施加在液晶材料上时，可以在像素位置处控制通过液晶材料的光的量，从而使得图像能够生成。显微光刻技术一般用来形成作为形成像素的液晶材料层的一部分而并入的电特征。根据此项技术，通常将光敏光刻胶施加到基板的至少一个表面。接着，图案发生器(patterngenerator)使用光来曝光作为图案的一部分的光敏光刻胶的选定区域，以导致选定区域中的光刻胶的化学变化，从而使这些选择区域准备好进行后续的材料去除和/或材料添加工艺，以形成电特征。为了持续向消费者提供符合消费者期望的价...
【技术保护点】
1.一种用于变更曝光图案的方法，包括：确定投射分布的充填因子；确定所述充填因子的对称角度；确定所述对称角度的锯齿选择，其中所述确定锯齿选择包括：确定所述充填因子的镜子投射间距；确定所述对称角度的锯齿幅度；和确定所述对称角度的锯齿间距；和将所述锯齿选择应用于所述对称角度附近的所述曝光图案。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.04.08 US 62/320,164;2016.06.21 US 15/188,1931.一种用于变更曝光图案的方法，包括：确定投射分布的充填因子；确定所述充填因子的对称角度；确定所述对称角度的锯齿选择，其中所述确定锯齿选择包括：确定所述充填因子的镜子投射间距；确定所述对称角度的锯齿幅度；和确定所述对称角度的锯齿间距；和将所述锯齿选择应用于所述对称角度附近的所述曝光图案。2.如权利要求1所述的方法，还包括：曝光在其上具有所述锯齿选择的图案，其中所述充填因子是六边形密集体充填因子。3.如权利要求1所述的方法，其中所述锯齿选择包括方波形状或三角波形状。4.如权利要求1所述的方法，其中所述锯齿选择包括多边形。5.如权利要求1所述的方法，其中所述锯齿间距与所述镜子投射间距的比率在约3.0与约8.0之间，并且其中所述锯齿幅度在所述镜子投射间距的约50％与约120％之间。6.一种用于变更曝光图案的计算机系统，包括：处理器；和存储器，所述存储器存储有指令，所述指令在由所述处理器执行时致使所述计算机系统执行以下步骤：确定投射分布的充填因子；确定所述充填因子的对称角度；确定所述对称角度的锯齿选择，其中所述确定锯齿选择包括：确定所述充填因子的镜子投射间距；确定所述对称角度的锯齿幅度；和确定所述对称角度的锯齿间距；和将所述锯齿选择应用于所述对称角度附近的所述曝光图案...
【专利技术属性】
技术研发人员：约瑟夫·R·约翰逊，克里斯多弗·丹尼斯·本彻，托马斯·L·拉伊迪，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US
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