一种晶圆片抛光装置制造方法及图纸

技术编号:19622999 阅读:30 留言:0更新日期:2018-12-01 06:05
本发明专利技术涉及晶圆加工设备附属装置的技术领域,特别是涉及一种晶圆片抛光装置,其可以在放置板顶端设置可以调节尺寸的调节夹,从而可以固定多种尺寸的晶圆片;同时将抛光机固定在支架上工作,降低人为因素对抛光机加工精度的影响;同时可以提高粗轮抛光机和细轮抛光机切换使用的效率;包括操作台、放置板、晶圆片、粗轮抛光机和细轮抛光机;还包括两组挤压夹、拉伸弹簧、两组齿轮条、两组带动杆和同步齿轮,放置板的内部上侧区域设置有拉伸腔;还包括螺纹调节杆、两组轴承、升降杆、支撑横杆和两组限位轨,两组限位轨分别设置有两组滑动槽;还包括滑板、两组插销杆、两组挤压弹簧、两组限位片和两组拉伸钮。

A Wafer Polishing Device

The invention relates to the technical field of wafer processing equipment accessories, in particular to a wafer polishing device, which can fix wafers of various sizes by setting adjustable clamps at the top of the placement plate, and fix the polishing machine on the bracket to work at the same time, so as to reduce human factors on the polishing machine. At the same time, it can improve the efficiency of switching between rough wheel polishing machine and fine wheel polishing machine, including operating table, placement board, wafer, rough wheel polishing machine and fine wheel polishing machine, and also includes two groups of extrusion clamps, stretch spring, two groups of gear racks, two groups of driving rods and synchronous gears, which place the upper inner area of the plate. There are tension chambers, threaded adjusting rods, two groups of bearings, lifting rods, supporting transverse rods and two groups of limit rails. There are two groups of sliding grooves for the two groups of limit rails respectively. There are also slide plates, two groups of pin rods, two groups of extrusion springs, two groups of limit plates and two groups of stretch buttons.

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆片抛光装置
本专利技术涉及晶圆加工设备附属装置的
,特别是涉及一种晶圆片抛光装置。
技术介绍
众所周知,晶圆片抛光装置是一种在晶圆片加工的过程中,用于对抛光晶圆片的装置,其在晶圆加工设备的领域中得到了广泛的使用;现有的晶圆片抛光装置包括操作台、放置板、晶圆片、粗轮抛光机和细轮抛光机,所述放置板的底端与操作台的顶端中部连接,所述放置板的顶端设置有放置槽;现有的晶圆片抛光装置使用时,首先将需要加工的晶圆片卡装在放置槽内,然后工作人员首先用粗轮抛光机对晶圆片加工面抛光,粗抛完毕之后,工作人员换用细轮抛光机对晶圆片加工面抛光即可;现有的晶圆片抛光装置使用中发现,首先放置板的放置槽尺寸是固定的,因为对加工的晶圆片的尺寸要求比较高,从而导致使用局限性较高;并且工作人员操作抛光机的时候无法保证抛光面的加工精度,从而导致可靠性较差;同时粗轮抛光机和细轮抛光机来回切换使用使加工效率降低,从而导致实用性较差。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本专利技术提供一种可以在放置板顶端设置可以调节尺寸的调节夹,从而可以固定多种尺寸的晶圆片,降低使用局限性;同时将抛光机固定在支架上工作,降低人为因素对抛本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶圆片抛光装置,包括操作台(1)、放置板(2)、晶圆片(3)、粗轮抛光机(4)和细轮抛光机(5),所述放置板(2)的底端与操作台(1)的顶端中部连接,所述放置板(2)的顶端设置有放置槽;其特征在于,还包括两组挤压夹(6)、拉伸弹簧(7)、两组齿轮条(8)、两组带动杆(9)和同步齿轮(10),所述放置板(2)的内部上侧区域设置有拉伸腔,所述同步齿轮(10)的中部转动设置有支撑轴,所述支撑轴的底端与拉伸腔的底端中部连接,所述支撑轴的顶端与拉伸腔的顶端中部连接,所述拉伸腔的顶端左侧和右侧均设置有滑动口,所述两组带动杆(9)自拉伸腔外侧分别穿过两组滑动口并伸入到拉伸腔内,所述两组带动杆(9)的...

【技术特征摘要】
1.一种晶圆片抛光装置,包括操作台(1)、放置板(2)、晶圆片(3)、粗轮抛光机(4)和细轮抛光机(5),所述放置板(2)的底端与操作台(1)的顶端中部连接,所述放置板(2)的顶端设置有放置槽;其特征在于,还包括两组挤压夹(6)、拉伸弹簧(7)、两组齿轮条(8)、两组带动杆(9)和同步齿轮(10),所述放置板(2)的内部上侧区域设置有拉伸腔,所述同步齿轮(10)的中部转动设置有支撑轴,所述支撑轴的底端与拉伸腔的底端中部连接,所述支撑轴的顶端与拉伸腔的顶端中部连接,所述拉伸腔的顶端左侧和右侧均设置有滑动口,所述两组带动杆(9)自拉伸腔外侧分别穿过两组滑动口并伸入到拉伸腔内,所述两组带动杆(9)的顶端分别与两组挤压夹(6)的底端中部连接,所述两组带动杆(9)的底端分别与两组齿轮条(8)的固定端连接,所述两组齿轮条(8)的齿牙端分别与同步齿轮(10)的前端和后端咬合,所述拉伸弹簧(7)的左端和右端分别与两组带动杆(9)的内侧壁中部连接;还包括螺纹调节杆(11)、两组轴承(12)、升降杆(13)、支撑横杆(14)和两组限位轨(15),所述两组限位轨(15)的底端分别与操作台(1)的顶端的左侧和右侧连接,所述两组限位轨(15)分别设置有两组滑动槽,所述升降杆(13)的两端分别设置有两组滑片,所述两组滑片分别与两组滑动槽滑动连接,所述两组限位轨(15)的顶端分别与支撑横杆(14)的左端和右端连接,所述支撑横杆(14)的顶端和底端的中部连通设置有连通孔,所述升降杆(13)的顶端和底端的左侧和右侧分别连通设置有两组转动孔,所述升降杆(13)的底端和顶端的中部连通设置有螺纹孔,所述螺纹调节杆(11)的螺纹端自支撑横杆(14)的上侧穿过连通孔并伸出至支撑横杆(14)的下侧,并且所述螺纹调节杆(11)的螺纹端自升降杆(13)的顶端螺接穿过螺纹孔并伸出至升降杆(13)的下侧,所述两组轴承(12)均与螺纹调节杆(11)的上侧转动套装,所述两组轴承(12)包括上轴承和下轴承,所述上轴承的底端与支撑横杆(14)的顶端中部紧贴,所述下轴承的顶端与支撑横杆(14)的底端中部紧贴,所述粗轮抛光机(4)和细轮抛光机(5)均设置有双腿支架,所述两组双腿支架的支撑端分别与升降杆(13)的顶端的左侧和右侧连接,所述粗轮抛光机(4)的输出轴和细轮抛光机(5)的输出轴分别自升降杆(13)的顶端穿过两组转动孔并伸出至升降杆(13)的下侧,所述粗轮抛光机(4)的输出轴底端设置有粗抛光轮,所述细轮抛光机(5)的输出轴底端设置有细抛光轮;还包括滑板(16)、两组插销杆(17)、两组挤压弹簧(18)、两组限位片(19)和两组拉伸钮(20),所述放置板(2)的左端和右端中部连通设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员:王昌华
申请(专利权)人:江苏英锐半导体有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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